「Pattern Formation」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

Pattern formation on the interface is controlled to extract the light so that much more light can be extracted out into the outside without multi-reflection inside the device.例文帳に追加

界面のパターン形成は、光の抽出のために素子内部における多重反射をしないで、より多くの光を外部に送り込めるように制御される。 - 特許庁

To effectively prevent characteristic deterioration due to a pattern shift in gate formation while suppressing an increase in a cell area, and to reduce resistance in a power supply voltage feeder.例文帳に追加

セル面積増大を抑制しつつゲート形成時のパターンずれによる特性低化を有効に防止し、さらに電源電圧供給線を低抵抗化する。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device which effectively prevents characteristic deterioration due to a pattern shift in gate formation while suppressing increase in cell area, and reduces resistance in a power voltage supply line.例文帳に追加

セル面積増大を抑制しつつゲート形成時のパターンずれによる特性低化を有効に防止し、さらに電源電圧供給線を低抵抗化する。 - 特許庁

To provide a formation method of a conductive pattern for dispensing with long heating at high temperature, and to provide a manufacturing method of a thin-film transistor substrate.例文帳に追加

高温、長時間の加熱を行わなくても済む導電性パターンの形成方法及び薄膜トランジスタ基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a switch structure which is pressed in a pattern formation surface direction of a circuit board 1, and hardly broken by strong pressure or dropping impact.例文帳に追加

回路基板１のパターン形成面方向に押されるスイッチ構造であって、強い押圧や落下衝撃に対して、壊れにくいスイッチ構造を提供すること。 - 特許庁

To correct the loading effect not by the presence or absence of a circuit pattern or by its shape, but only by one-time film formation testing, and per 25 sheets of tested wafers or fewer, at a time.例文帳に追加

回路パターンの有無や形状によらず、テスト成膜１回のみで、且つテストウエハの枚数を２５枚程度以下で、ローディング効果を補正可能とする。 - 特許庁

To provide a method of forming a conductor pattern which is compatible with formation of pads for flip chip bonding, vias in a multilayered wiring board, etc.例文帳に追加

フリップチップ接続用のパッドあるいは多層の配線基板におけるビアの形成等に好適に利用することができる導体パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

The magnetic recording medium includes a substrate, an intermediate layer adjacent to the substrate, and a pattern formation layer adjacent to the intermediate layer and having a fine protruding and recessing pattern on its surface, wherein the intermediate layer is composed of an adhesive containing an ultraviolet ray transmitting silicone resin, and its elastic coefficient is smaller than that of the substrate and is smaller than that of the pattern formation layer.例文帳に追加

基材と、上記基材に隣接する中間層と、上記中間層に隣接し、表面に微細な凹凸パターンを有するパターン形成層とを備え、上記中間層が紫外線透過性のシリコーン樹脂を含有する接着剤からなり、その弾性率が、上記基材の弾性率よりも小さく、かつ、上記パターン形成層の弾性率よりも小さい。 - 特許庁

The color shift is compensated by continuing the formation and the detection of the resist pattern image after confirming that the surface state of the belt in the pattern forming area is within an appropriate range without soiling and damaging the pattern forming area of the intermediate transfer belt 16 based on the substrate information.例文帳に追加

そして、その下地情報に基づき中間転写ベルト１６のパターン形成領域が汚れたり、損傷することなく、該領域でのベルト表面状態が適正範囲に収まっていることを確認した上でレジストパターン像の形成・検出を継続して色ずれ補正を行っている。 - 特許庁

To process a good pattern without remainders, while preventing precipitation of copper or silicon generated in a step of forming a film containing Al as a main component and containing at least Cu or Si, or in a thermal step of peeling off a defective resist pattern during pattern processing after the film formation.例文帳に追加

Ａｌを主成分とし、少なくともＣｕあるいはＳｉを含んだ膜の成膜時、あるいは成膜後におけるパターン加工時の不良レジストパターンの剥離時の熱工程時に発生する銅あるいはシリコンの析出を防ぎ、残渣のない良好なパターンを加工する。 - 特許庁

In the case that a detection pattern of an amount of misregistration for moving a constant direction is detected with a sensor to detect the amount of the misregistration of image formation, the detection pattern of the amount of the misregistration is formed of a reference color pattern for regulating an image forming position of a reference color, and a plurality of color patterns.例文帳に追加

一定方向に移動する位置ずれ量検出パターンをセンサで検出して画像形成の位置ずれ量を検出する場合において、位置ずれ量検出パターンを基準色の画像形成位置を規定する基準色パターンと、複数個のカラーパターンとから形成する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a method of pattern formation using the composition, the positive resist composition improved in performances relating to a pattern profile, pattern falling and scum and excellent in a receding contact angle with an immersion liquid and water following-up property.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することであり、パターンプロファイル、パターン倒れ、スカムの諸性能が改善され、かつ液浸液の後退接触角ならびに水追随性も優れたポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To obtain a colored photosensitive composition which is used to form a green colored pattern in a color filter, has excellent curability and a large development latitude in the formation, reduces pattern defects in development, and forms a green colored pattern having excellent chemical resistance.例文帳に追加

カラーフィルタにおける緑色着色パターンの形成に用いられ、その形成の際に、硬化性に優れ、現像ラチチュードが大きく、更には、現像時のパターン欠けが抑制され、且つ、耐薬品性に優れた緑色着色パターンを形成しうる着色感光性組成物を得ること。 - 特許庁

The control circuit generates draw data for drawing a predetermined pattern on the workpiece through formation of a plurality of penetrations, and cut data for cutting the outline of the pattern created on the workpiece by sequentially forming penetrations along the outline of the pattern, and further modifies the data.例文帳に追加

制御回路は、被加工物に対し複数の小孔により所定の模様を描画するための描画データ、被加工物に対し模様の輪郭に沿って複数の小孔を連続的に形成することにより輪郭を切断するためのカットデータを作成し、更にそれらデータを補正する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which reduces toner consumption for the formation of a color deviation detection pattern, and efficiently generates a color deviation detection pattern for the correction of color deviation, and also to provide a method for forming the color deviation detection pattern for the image forming apparatus.例文帳に追加

色ずれ検出パターン形成時のトナーの消費量を削減し、しかも色ずれ補正を行うための色ずれ検出パターンを効率的に生成することのできる画像形成装置および画像形成装置の色ずれ検出パターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a composition for cured film pattern formation having a long pot life after mixing a base resin with a curing agent or having excellent storage stability as a one-part composition, and capable of forming a cured film pattern excellent in film properties, and to provide a method for producing a cured film pattern using the same.例文帳に追加

主剤と硬化剤の混合後のポットライフが長く、又は一液としての保存安定性に優れ、皮膜特性に優れる硬化皮膜パターンを形成できる硬化皮膜パターン形成用組成物及びそれを用いた硬化皮膜パターン作製方法を提供する。 - 特許庁

Since information on a substrate 2 such as information (frequency information) on a frequency of formation of an actual wiring pattern 7 is recorded on the substrate 2 directly as a frequency information pattern 9, the frequency information about the substrate 2 can be obtained only by confirming the frequency information pattern 9.例文帳に追加

基板２上に、その基板２に関する情報、例えば実配線パターン７の形成回数の情報（回数情報）を、回数情報パターン９として直接記録しているので、当該回数情報パターン９を確認するだけで、基板２に関する回数情報を得ることができる。 - 特許庁

The metallic film pattern can be fabricated by transferring an alkanethiol monomolecular film pattern 51 by a stamping method to a substrate 40 after formation of a catalyst layer; immersing the substrate in an aqueous solution for lowering the catalytic activity of the catalyst layer 60, stripping the monomolecular film pattern from the catalyst layer and then immersing the substrate in an electroless plating bath to form a metallic film.例文帳に追加

触媒層形成後に、スタンプ法でアルカンチオール単分子膜パターン５１を基体４０に転写、前記触媒層６０の触媒活性を低下する水溶液に浸漬、単分子膜パターンの剥離、無電解めっき浴に浸漬し形成を行う金属膜パターン製造方法。 - 特許庁

The time Q is defined as the total time of the conveyance time Q_1 of a test pattern from the exposure position of the test pattern to a sensor and the time Q_2 since the test pattern is detected by the sensor until the color shift correction value calculated based on the detection results is set for the system and reflected to image formation.例文帳に追加

時間Ｑを、テストパターンの露光位置からセンサまでのテストパターンの搬送時間Ｑ_1と、センサでテストパターンが検知されてから、検知結果に基づき算出される色ズレ補正値がシステムに対して設定され画像形成に反映されるまでの時間Ｑ_2の合計時間とする。 - 特許庁

There are provided a photoelectric composite substrate which is formed by stacking a lower clad layer directly on the surface in a conductor pattern formation side of an electric wiring substrate having a conductor pattern formed therein, and stacking a core pattern and an upper clad layer on the lower clad layer, the method for manufacturing the same, and the photoelectric composite module using the same.例文帳に追加

導体パターンが形成された電気配線基板の導体パターン形成側表面に直接、下部クラッド層が積層され、該下部クラッド層上にコアパターン及び上部クラッド層が積層されてなる、光電気複合基板、この製造方法、及びこれを用いた光電気複合モジュール。 - 特許庁

Disclosed is the letterpress for pattern formation characterized in that a protective layer 205 is provided by a vacuum thin-film forming method to resin-made projection portions 201 of the letterpress 200 for pattern formation, wherein: the protective film is a mixed thin film of an organic substance and an inorganic substance; and the vacuum thin-film forming method is a chemical vapor deposition method.例文帳に追加

パターン形成用凸版２００の樹脂製凸部２０１に真空薄膜形成法により保護層２０５を設けたことを特徴とするパターン形成用凸版であって、前記保護層が有機物と無機物の混合薄膜であって、前記真空薄膜形成法が、化学気相成長法であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a material with high etching selection rate and etching speed against resist, a pattern formation method providing an antireflection film layer on a base plate using the material and a pattern formation method using the antireflection film as a hard mask on the base plate processing.例文帳に追加

レジストに対してエッチング選択比が高い、即ちレジストに対してエッチングスピードが速い反射防止膜の材料を提供し、且つこの反射防止膜材料を用いて基板上に反射防止膜層を形成するパターン形成方法及び、この反射防止膜を基盤加工のハードマスクとして用いるパターン形成方法も提供する。 - 特許庁

Regarding the image forming apparatus, a specified pattern transferred on a sheet is read, then, an image formation contrast potential for obtaining the maximum density is set, and the density of the specified pattern formed on an image carrier 4 with the image formation contrast potential is detected by an optical sensor 40, and then, the detection result is stored.例文帳に追加

この画像形成装置は、シート上に転写形成された特定のパターンを読み取ることにより、最大濃度を得るための作像コントラスト電位を設定し、該作像コントラスト電位で像担持体４上に形成された特定パターンの濃度を光学センサ４０によって検出して、該検出結果を記憶する。 - 特許庁

Since the electron beam shielding area 12 is stuck close to the pattern formation layer 2 by the slight adhesive effect of the slight adhesive layers 15 stuck close to the pattern formation layer 2, the incidence of electron beams on the area for shielding electron beams from oblique directions can be prevented even if a general and inexpensive electron beam irradiation apparatus is used.例文帳に追加

パターン形成層２に密着する微粘着層１５の微粘着効果により、パターン形成層２に電子線遮蔽領域１２が密着するので、汎用型の安価な電子線照射装置を使用しても、電子線を遮蔽する領域に電子線が斜め方向から入射することがない。 - 特許庁

Thus, arrival blocking and arrival blocking release of light from the first semiconductor light-emitting element 22 to the first reflector 28 and from the second semiconductor light-emitting element 24 to the fourth reflector 34 can be switched, and formation and non-formation of the first individual light distribution pattern PH1 and the fourth individual light-distribution pattern PH4 can also be switched.例文帳に追加

これにより、第１半導体発光素子２２から第１リフレクタ２８、および第２半導体発光素子２４から第４リフレクタ３４への光の到達阻止と到達阻止解除が切り替えられ、第１個別配光パターンＰＨ１および第４個別配光パターンＰＨ４の形成、非形成が切り替えられる。 - 特許庁

Namely, by passing an image formation sample through the same pressure fixing device a plurality of times of which number corresponds to an image pattern, the fixing rate suitable to the image pattern is assured by the same pressure fixing device without generating abnormal sound at the time of exit from a fixing nip, thus enabling an excellent image formation sample to be output.例文帳に追加

すなわち、画像形成サンプルを同一圧力定着装置に通す回数を画像パターンに対応して行うことにより、定着ニップ抜け時の異音を発生させることなく同一圧力定着装置で画像パターンに適した定着率を確保し、良好な画像形成サンプルの出力を可能とする。 - 特許庁

To provide a display body formation pattern for paved surfaces, for easily forming a display body, such as free letters and patterns at a low cost, further, for forming the fine display body free from burrs on the paved surface, and to provide a method of forming the display body on the paved surface using the display body formation pattern for paved surfaces.例文帳に追加

自由な文字や図柄等の表示体を低コストで且つ容易に形成することができ、更に、舗装面に対しバリのないきれいな表示体を形成することができる舗装面用表示体形成型、当該舗装面用表示体形成型を用いた舗装面に対する表示体形成方法を提供する。 - 特許庁

The typical configuration of the conductor pattern formation apparatus for forming a conductor pattern on a substrate comprises an ink jet head which jets out a conductive ink and forms the conductor pattern; a transfer member which is formed with the conductor pattern on the surface by the ink jet head and then transfers the conductor pattern to the substrate; and a heating means which heats the transfer member to harden the conductor pattern.例文帳に追加

本発明に係る導体パターン形成装置の代表的な構成は、基板に導体パターンを形成する導体パターン形成装置であって、導電インクを噴射して導体パターンを形成するインク吐出ヘッドと、該インク吐出ヘッドにより表面に導体パターンを形成され、該導体パターンを前記基板に転写する転写部材と、該転写部材を加熱して前記導体パターンを硬化させる加熱手段と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

In the color filter 1 obtained by successively forming a plurality of color pixel patterns 3 with color materials on a transparent substrate, a frame like dummy pattern 4 surrounding the color pixel pattern area is formed of the color material for one color pixel pattern 3 at the same time as the formation of one color pixel pattern 3 in the color pixel patterns 3.例文帳に追加

透明基板上に、色材にて順次複数色のカラー画素パターン３を形成したカラーフィルター１において、前記カラー画素パターン３のうちの一色分のカラー画素パターン３を形成する際、前記一色分のカラー画素パターン３の色材にて、カラー画素パターン領域を囲む額縁状のダミーパターン４を同時に形成したことを特徴とするカラーフィルター。 - 特許庁

A reticle 11 made of a glass substrate as a photomask is provided with a light shielding film pattern 12 relating to formation of elements and integrated circuits on a semiconductor wafer as well as with an auxiliary pattern 13 which corrects degeneracy of lines due to influences of the optical proximity effect during exposure in an isolated pattern P1 in at least a sparse pattern region, as shown in Figures (a) and (b).例文帳に追加

図１（ａ），（ｂ）において、フォトマスクとして、ガラス基板であるレチクル１１に、半導体ウェハ上への素子及び集積回路形成に関する遮光膜パターン１２と共に、少なくとも疎パターン領域における孤立パターンＰ１に、露光時の光近接効果の影響によるライン縮退を補正する補助パターン１３が付加されている。 - 特許庁

To provide a surface treatment method of a resist pattern which meets the requirement that the line width and LWR (Line Width Roughness) of a first resist pattern are not varied by the freezing of the first resist pattern and the formation of a second resist pattern in a double patterning method.例文帳に追加

ダブルパターニング法における第一のレジストパターンに対して行うフリージングプロセスにおいて、フリージング処理および第二のレジストパターンの形成によって、第一のレジストパターンの線幅及びＬＷＲが変動しないという要件を満たすレジストパターンの表面処理方法およびその表面処理方法を用いたレジストパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a spot pattern forming device of a concrete form mark capable of forming a spot pattern of the concrete form mark to a surface to be treated filled with mortar to enhance an aesthetic feeling and usable over a plurality of times to improve work efficiency at the time of formation of the spot pattern and a spot pattern forming method using the same.例文帳に追加

モルタルが充填された被処理面にコンクリート型枠跡の斑点模様を形成して美感を向上させ得ることができるとともに、複数回に亘って使用可能として斑点模様形成時の作業能率を改善させることができるコンクリート型枠跡の斑点模様形成具及びそれを用いた斑点模様形成方法を提供する。 - 特許庁

When abnormality is found on a transfer belt, formation positions of a toner pattern and a position detection pattern are changed so that the toner pattern and the position detection pattern used for concentration detection and position detection are formed at the positions avoiding an abnormal region causing reduction in accuracy of the concentration detection and the position detection on the transfer belt.例文帳に追加

転写ベルト上に異常がある場合には、転写ベルト上における、濃度検出や位置検出の精度低下の原因となる異常領域を避けた位置に、これらの濃度検出や位置検出に用いるトナーパターンや位置検出パターンが形成されるように、これらのトナーパターンや位置検出パターンの形成位置を変更する。 - 特許庁

A moving mechanism integrally moves the first reflector 28 and the fourth reflector 34 so as to avoid formation of the first separate light-distribution pattern PH1 and the fourth separate light-distribution pattern PH4, and avoids projection of glare to a target object such as a front-traveling vehicle existing in the first separate light-distribution pattern PH1 and the fourth separate light-distribution pattern PH4.例文帳に追加

移動機構は、第１リフレクタ２８および第４リフレクタ３４を、第１個別配光パターンＰＨ１および第４個別配光パターンＰＨ４の形成を回避させるよう一体的に移動させ、第１個別配光パターンＰＨ１または第４個別配光パターンＰＨ４に存在する前走車などの対象物へのグレアの付与を回避する。 - 特許庁

A magnetic sensor 10 includes a rectangular pattern formation region 21 having a first region 21d where a resistance change rate of a pattern 22 becomes high and a second region 21e where the resistance change rate becomes lower than that in the first region 21d.例文帳に追加

磁気センサ１０は、パターン２２の抵抗変化率が大きくなる第１領域２１ｄ、及び抵抗変化率が第１領域２１ｄよりも小さくなる第２領域２１ｅを有する矩形のパターン形成領域２１を備える。 - 特許庁

To provide an imprint material by which the occurrence of defects can be reduced when a metal oxide film having a projecting and recessed pattern is formed on a doughnut type substrate such as a hard disk by spin coating and imprint and to provide a pattern formation method.例文帳に追加

スピンコーティングおよびインプリントによりハードディスクなどのドーナツ型基板上に凹凸パタンを有する金属酸化膜を形成する際に、欠陥の発生を低減できるインプリント材料およびパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for light-blocking pattern formation of a plasma display in which an excellent black electrode that has a high linearity but has no pealing-off or residues, and the light-blocking pattern represented by black stripes can be formed easily.例文帳に追加

直線性が高く、剥がれや残渣のない良好な黒色電極及びブラックストライプに代表される遮光性パターンを容易に形成できるプラズマディスプレイの遮光性パターン形成用感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation which avoids remaining of undissolved matter and scumming on a pattern edge in development and provides a colored layer free from chipping of a pattern edge and undercut even under low exposure energy.例文帳に追加

現像時に未溶解物の残存やパターンエッジのスカムの生成がなく、かつ低露光量でもパターンエッジの欠けやアンダーカットを生じない着色層を与える着色層形成用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a pattern formation body that can form a high-definition pattern at low cost and with good manufacturing efficiency and that can use a non-parallel light source.例文帳に追加

本発明は、製造効率よく低コストに高精細なパターンを形成することが可能であり、かつ平行光でない光源を用いることが可能なパターン形成体の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To realize a processing mask capable of sufficiently corresponding to the formation of a fine pattern even in the case of using trilevel resist without generating a defective pattern on a 1st resin film which is the lowermost layer of the constitutional elements of the tri-level resist.例文帳に追加

トリレベルレジストを用いるも、当該トリレベルレジストの構成要素である最下層の第１の樹脂膜にパターン不良を発生せしめることなく、更なる微細パターン形成にも十分に対応できる加工用マスクを実現する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which does not produce scums during formation of a resist pattern and showing proper matching with a substrate, to provide a polymer compound which is to be used as a base material for the positive resist composition, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

レジストパターン形成時においてスカムが発生せず、基板とのマッチングが良好なポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材として利用できる高分子化合物、およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which enable formation of a pattern which is superior in the depth of focus (DOF) and in roughness characteristics and having few bridge defects and few chips.例文帳に追加

フォーカス余裕度（ＤＯＦ）及びラフネス特性に優れ且つブリッジ欠陥及び欠けの少ないパターンを形成可能とするパターン形成方法並びに感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, resolution, roughness characteristics and aging stability and enables formation of a pattern of a good shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

感度、解像度、ラフネス特性及び経時安定性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method capable of uniformly forming the film thickness for every pixel when pattern-transferring an organic layer of an organic EL element using letterpress, and preventing moire at displaying a panel emission, and to provide an organic EL display device.例文帳に追加

有機ＥＬ素子の有機層を凸版を用いてパターン転写する場合、画素ごとの膜厚を均一に形成し、パネル発光表示時のモアレを防ぐことが可能なパターン形成方法および有機ＥＬ表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method which increases the profile controlling properties of a pattern which consists of drops by enhancing the irradiation strength and irradiation position accuracy of laser light to irradiate the drops that is dropped on a substrate, and to provide a drop discharge apparatus therefor.例文帳に追加

基板に着弾した液滴に照射するレーザ光の照射強度や照射位置精度を向上して、液滴からなるパターンの形状制御性を向上したパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁