「RELATIVE INTENSITY」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

Based on the intensity of reflection light for every region, relative position or posture of the positioning part to the target on the object surface is detected, and positioning control is conducted by a controller.例文帳に追加

検出領域毎の反射光の強度に基づいて対象面上の目標に対する被位置合わせ部の相対的な位置または姿勢が検出され、制御部によって位置合わせ制御が行われる。 - 特許庁

The intensity of the interlocking degree is evaluated relative to each candidate domain (110), and a table showing the evaluation result of each interlocking degree is displayed as an analysis result on a display device 16.例文帳に追加

そして、各候補領域について、連動度合いの強弱を評価し（１１０）、連動度合いの評価結果を示した表を解析結果として表示装置１６に表示させる。 - 特許庁

To provide a water treatment control system using a fluorometric analyzer capable of reducing the productivity of trihalomethanes by measuring a relative fluorescence intensity of a water to be treated.例文帳に追加

被処理水の相対蛍光強度を測定してトリハロメタン生成能の低減を図ることができる蛍光分析計を用いた水処理制御システム。 - 特許庁

As illustrated in Fig.9(c), as a magnet roller 201a is rotated in a reverse direction (upstream side) relative to a rotation direction of a developing roller, magnetic force at a pumping position is increased and stirring intensity is increased.例文帳に追加

マグネットローラ２０１ａを現像ローラ回転方向に対して逆方向（上流側）に回すことにより、図９（ｃ）に示すように、汲み上げ位置の磁力が大きくなり、撹拌強度が大きくなる。 - 特許庁

In this concentration measuring method of acid solution, a spectrum in an ultraviolet wave range is measured, relative to a plurality of samples of the acid solution having a known concentration, and the intensity value of transmitted light or reflected light is measured.例文帳に追加

酸溶液の濃度測定方法において、既知濃度の酸溶液の複数のサンプルについて紫外波長域のスペクトルを測定して、透過光または反射光の強度値を測定する。 - 特許庁

The color converting member 70 is configured such that the light diffusing material 73 differing in refractive index from the base material is dispersed only in a predetermined area whose relative incident light intensity based upon orientation characteristics of the LED chip 10 exceeds a specified value.例文帳に追加

色変換部材７０は、上記母材とは屈折率の異なる光拡散材７３をＬＥＤチップ１０の配向特性に基づく相対入射光強度が規定値を超える規定領域のみに分散させてある。 - 特許庁

A control device adjusts an intensity of the radiation beam so as to compensate an influence which the measured relative vibration has on the pattern projected onto the substrate.例文帳に追加

制御装置は、測定された相対的振動が基板上に投影されるパターンに及ぼす影響を補償するよう前記放射ビームのパワーを調整する。 - 特許庁

A temporary unnecessary wave extraction means 16 determines a representative value of intensity data at each same sampling timing relative to the data row on each position, and an assembly of each representative value is treated as a temporary unnecessary wave component.例文帳に追加

仮不要波抽出手段１６は、位置毎データ列に関して同一のサンプリングタイミングごとに強度データの代表値を求め、当該代表値の集合を仮不要波成分とする。 - 特許庁

The illuminating component data generating part 103 obtains the relative spectral distribution of illuminating light from the RGB value of illuminating light onto the three-dimensional image and further changes the intensity of the illuminating light.例文帳に追加

照明成分データ生成部１０３では、３次元画像への照明光のＲＧＢ値から照明光の分光分布を求め、さらに、照明光の強度を変更する。 - 特許庁

A first secondary ion intensity of ion having a mass number roughly equal to that of the measuring object element and a second secondary ion intensity of molecular ion which is an isotope of the interfering ion relative to the measuring object element are measured, and thereafter correlation between the second secondary ion intensity and an isotope abundance of the molecular ion is obtained, and then a third secondary ion intensity of the interfering ion is calculated by using the correlation.例文帳に追加

測定対象元素を含む試料を用いて、測定対象元素と略等しい質量数を有するイオンの第１の二次イオン強度と、測定対象元素に対する妨害イオンの同位体となる分子イオンの第２の二次イオン強度とを測定した後、第２の二次イオン強度と分子イオンの同位体存在比との相関関係を求め、その後、該相関関係を用いて、妨害イオンの第３の二次イオン強度を算出する。 - 特許庁

In fluorescence detection utilizing surface plasmon, a fluorescence amount of fluorescence Lf emitted from a fluorescent label F is standardized and corrected relative to the intensity of the electric-field enhanced field Ew by using scattered light Ls of the electric-field enhanced field Ew which is approximately proportional to the intensity of the electric-field enhanced field Ew generated on a metal film 12.例文帳に追加

表面プラズモンを利用した蛍光検出において、金属膜１２上に生じる電場増強場Ｅｗの強度に略比例するこの電場増強場Ｅｗの散乱光Ｌｓを用いて、電場増強場Ｅｗの強度に対し、蛍光標識Ｆから発せられる蛍光Ｌｆの蛍光量を規格化して補正する。 - 特許庁

In the method, the skin AGE is discriminated by measuring a peak intensity of fluorescence relative to excitation light to correct by using a compensation formula of the peak intensity based on a skin three-layer optical model prepared in advance, by using a regression expression expressing the relation between the AGE and an index b^* etc. of L^*a^*b^* of a color system.例文帳に追加

励起光に対する蛍光のピーク強度を測定し、予め用意した皮膚三層光学モデルから導かれピーク強度の補正式を用いて補正を行って皮膚ＡＧＥを鑑別するか、又は、前記ＡＧＥと表色系のＬ^*ａ^*ｂ^*表色系のｂ^*等の指標との関係を表す回帰式を用いて皮膚ＡＧＥを鑑別する方法。 - 特許庁

Provision of a pixel profile deforming means 7 which deforms a light intensity profile of a pixel to a non-rectangular pixel profile reduces a relative light intensity in the vicinity of edges of the pixel and reduces an influence of overlap between adjacent pixels when shifting an optical axis, whereby sharpness and smoothness of faces and edges of an image can be simultaneously achieved.例文帳に追加

画素の光強度プロファイルを、非矩形形状の画素プロファイルに変形させる画素プロファイル変形手段７を備えることにより、画素のエッジ付近の相対光強度を減少させ、光軸シフトした場合の隣接画素間の重なりの影響を低減させ、画像の「鮮鋭性」と「面とエッジの滑らかさ」とを同時に実現できるようにした。 - 特許庁

A working curve is created from relative relation between the obtained radiation dose and the intensity of fluorescence by irradiating the known dose that serves as a reference in another film of the same kind, and then radiation dose distribution in a large area under the radiation environment is measured, by comparing the working curve with the intensity of fluorescence of the films removed from the radiation environment.例文帳に追加

一方同種の別のフィルムで基準となる既知線量を照射して、得られた放射線線量と蛍光強度との相対関係から検量線を作成し、前記検量線と放射線環境から取り外したフィルムの蛍光強度を比較することにより、放射線環境下の大面積放射線線量分布を測定する。 - 特許庁

The mass distribution within a molecular weight range of 1,000-200,000 Da and development intensity of protein in the blood specimen of a subject are measured and the difference found out by comparing the mass distribution and the pattern of relative development intensity with the pattern in a normal person is used as an index to detect the uterine cancer of the subject.例文帳に追加

被験者の血液検体中のタンパク質における分子量１０００〜２０００００Daの範囲の質量分布と発現強度を測定し、当該質量分布と相対発現強度のパターンを、健常人におけるパターンと比較して見出される差異を指標として、当該被験者における子宮体癌を検出する検出方法を提供することにより、上記の課題を解決し得ることを見出した。 - 特許庁

The image processing computer includes a shading compensation circuit which compensates uneven intensity of the photographed image data, a calculation circuit which calculates feature parameters of the work 1100 from the compensated image data on the basis of an intensity difference relative to a distance between the camera 100 and the work 1100, and a creation circuit which creates positional information of the work 1100 on the basis of the calculated feature values.例文帳に追加

画像処理コンピュータは、撮像された画像データに対して、明度の不均一を補正するシェーディング補正回路と、補正された画像データに対して、カメラ１００からワーク１１００までの距離に応じた明度の違いに基づいて、ワーク１１００の特徴量を算出する算出回路と、算出された特徴量に基づいて、ワーク１１００の位置情報を作成する作成回路とを含む。 - 特許庁

At this time, the quantum well level generated in the nonmagnetic noble metal or the semiconductor layer is changed in confinement conditions by a change in the relative magnetization directions of the magnetic metallic layers with each other and the dielectric constant is changed and therefore the change in the relative magnetization directions of the magnetic metals with each other can be measured by the absorption, reflection and transmission intensity of light.例文帳に追加

この時、非磁性貴金属または半導体層中に生じる量子井戸準位は、磁性金属層同士の相対的な磁化方向の変化により閉じ込め条件が変わり、誘電率が変化するため、それにより磁性金属同士の相対的な磁化の向きの変化を光の吸収、反射、透過強度により測定することができる。 - 特許庁

A dielectric constant detection circuit 52 memorizes, as a computation formula, a correlation between the relative dielectric constant and the scattered light intensity according to the thickness of the porous film 12, and computes the relative dielectric constant of the porous film 12 from the output data from the processing circuit 51 and the thickness information of the porous film 12 by inputting the thickness information.例文帳に追加

誘電率検出回路５２は、多孔質膜１２の膜厚に応じた比誘電率と散乱光強度との相関関係を計算式として記憶しており、多孔質膜１２の膜厚情報を入力して、アナログ処理回路５１の出力データと膜厚情報とから多孔質膜１２の比誘電率を計算する。 - 特許庁

Thermoplastic resin compositions comprise (A) 1-99 wt.% aromatic polycarbonate resin which has a relative fluorescence intensity of not more than 4×10-3 at 465 nm relative to a reference substance when the fluorescence spectrum is measured (with an excitation wavelength of 320 nm) and has been obtained by reacting a dihydric phenol with a carbonate precursor by the melt method and (B) 99-1 wt.% styrenic resin.例文帳に追加

（Ａ）蛍光スペクトルを測定したとき（励起波長３２０ｎｍ）、基準物質に対する４６５ｎｍにおける相対蛍光強度が４×１０^-3以下であり、且つ二価フェノールとカーボネート前駆体とを溶融法で反応させて得られた芳香族ポリカーボネート樹脂１〜９９重量％および（Ｂ）スチレン系樹脂９９〜１重量％からなる熱可塑性樹脂組成物。 - 特許庁

Those optical components include input optical fiber, pump source, wavelength division multiplier, isolator, polarization isolator, beam splitter device, PM tap coupler, relative intensity noise (RIN) photodiode, system photodiode, and output optical fiber.例文帳に追加

光学部品は、入力光ファイバ、ポンプ源、波長分割乗算器、アイソレータ、偏光アイソレータ、ビーム分割デバイス、ＰＭタップカプラ、相対強度雑音（ＲＩＮ）フォトダイオード、システムフォトダイオード、及び出力光ファイバを含む。 - 特許庁

This evaluation method includes a step for acquiring data of dependency to ion dose having the intensity of gamma rays generated by a hydrogen resonance nuclear reaction, relative to a sample comprising a plurality of membranes laminated mutually, and a step for fitting the data by a function expression of the ion dose.例文帳に追加

実施形態に係る評価方法は、互いに積層された複数の膜からなる試料について、水素共鳴核反応で発生するガンマ線の強度のイオンドーズに対する依存性のデータを取得するステップと、上記イオンドーズの関数式で上記データをフィッティングするステップと、を含む。 - 特許庁

The design of direct-modulated analog ECLs is performed with simultaneously controlling chirp, low intermodulation distortions, and low relative intensity noise (RIN) which provide high performance and low cost devices, methods and/or systems for transmission of analog signals.例文帳に追加

チャープ、低相互変調歪み、及び低相対強度雑音（ＲＩＮ）を同時に制御することによる直接変調アナログＥＣＬの設計により、アナログ信号の伝送のための高性能かつ低コストの装置、方法、及び／又はシステムを提供する。 - 特許庁

A diffraction grating 13 is arranged in the spacer layer 4 to select light having ten or more, preferably eighteen or more, oscillation vertical modes each having a differential value of 10 dB or less relative to the maximum light intensity of the oscillation vertical mode.例文帳に追加

ｐ−ＩｎＰスペーサ層４内に回折格子１３が配置され、発振縦モードの最大光強度に対する差分値が１０ｄＢ以下である発振縦モードの本数が１０本以上、より好ましくは１８本以上有する光を選択する。 - 特許庁

A controller 7 obtains a chart showing a relationship between an intensity of each optical component from the image data of the board K of a plane from the data obtained by the illumination of the illuminator 3 and coordinates, and calculates mutual relative phase angles.例文帳に追加

制御装置７は、照明装置３の照射によって得られる画像データから、平面であるプリント基板Ｋ部の画像データから光成分毎の輝度と座標との関係を示すチャートを得て、互いの相対位相角度を算出する。 - 特許庁

Furthermore, a mask MA can be illuminated under a state where monochromaticity of illumination light is enhanced because the band of illumination light from the solid light source unit 21 is narrowed by an interference filter 23 to reduce the relative intensity of the end part wavelength to the central wavelength.例文帳に追加

さらに、干渉フィルタ２３によって、中心波長に対する端部波長の相対的強度が低減するように固体光源ユニット２１からの照明光を狭帯化するので、照明光の単色性を高めた状態でマスクＭＡを照明することができる。 - 特許庁

The relative positional relationship between a low beam filament 51 and a high beam filament 52 is set to a positional relationship where the virtual image of the irradiated part of the high beam filament 52 does not become glaring light in a low beam luminous intensity distribution pattern.例文帳に追加

ロービーム用フィラメント５１とハイビーム用フィラメント５２との相対位置関係を、ハイビーム用フィラメント５２の被照射部５２０の虚像８６がロービームの配光パターンＬＰでのグレア光とならない位置関係にある。 - 特許庁

A sampling processing part generates an image group consisting of a plurality of intensity-modulated images by sampling the image data at a plurality of relative positions (k=0-3) in the same period as the periodic pattern of the G1 image with the different phases from the periodic pattern.例文帳に追加

サンプリング処理部は、画像データを、Ｇ１像の周期パターンと同一周期で、かつ周期パターンに対して位相の異なる複数の相対位置（ｋ＝０〜３）でサンプリングすることにより、強度変調がなされた複数の画像からなる画像群を生成する。 - 特許庁

The image quality improvement method is characterized in calculating an amount of correction noise on the basis of an amount of noise estimated relative to each of at least two or more resolution levels and a reliability of the noise amount estimation, and transforming the intensity of a decomposition coefficient obtained by multi-resolution decomposition using the correction noise amount.例文帳に追加

少なくとも二つ以上の解像度レベルの各々に対して推定したノイズ量およびノイズ量推定の信頼度に基づいて補正ノイズ量を算出し、前記補正ノイズ量を用いて多重解像度分解処理により得られた分解係数に対して強度変換を行う。 - 特許庁

A spectrum with a wavelength of light emitting portion 32 of 440 nm is detected, and a relative position of the plasma jet 31 and the quartz glass 24, an amount of removal, and a diameter of removal are controlled so as to reduce a difference between a shape after removal obtained from the emission intensity distribution, and a target shape after removal.例文帳に追加

発光部３２の波長４４０ｎｍのスペクトルを検出し、その発光強度分布から求めた除去形状と目標除去形状との差を縮小するように、プラズマジェット３１と石英ガラス２４との相対位置、除去量及び除去径を制御する。 - 特許庁

A Brewster-angle specifying unit 32 specifies an incident angle, at a position of the bottom of a recess in a line drawn by plotting and interpolating a signal intensity of a reflected waves relative to the radio waves of vertical polarization radiated to an observation object for each incident angle, as the Brewster angle of the of the observation object.例文帳に追加

ブリュースター角特定部３２は、観測対象へ放射した垂直偏波の電波に対する反射波の信号強度を入射角毎にプロットし補間して描かれる線における凹みの底の位置の入射角を、観測対象のブリュースター角として特定する。 - 特許庁

In this microspectrometer 20, the relative positions between the specimen 10 and a condenser 22 are changed by a signal processor 40 to evaluate a change in intensity of light, the light arising from one measuring object (optical structure 11) of the specimen 10 in an excited state and condensed by the condenser 22.例文帳に追加

顕微分光測定装置２０は、信号処理装置４０により、試料１０と集光装置２２の相対位置を変化させ、励起された試料１０の一の測定対象（光学構造１１）から生じて集光装置２２で集光される光の強度変化を評価する。 - 特許庁

In the injection ratio operation apparatus 8, the active carbon injection ratio and a target relative fluorescence intensity (FL) corresponding to the control target value of trihalomethane formation capability are set, and the necessary active carbon injection ratio (X) is obtained based on the FLO and FL.例文帳に追加

活性炭注入率演算装置８には、活性炭注入率とトリハロメタン生成能の制御目標値に相当する目標相対蛍光強度（ＦＬ）が設定されており、前記ＦＬ０とＦＬに基づいて必要な活性炭注入率（Ｘ）が求められる。 - 特許庁

To provide a chemical emission detection method for preventing relative detection precision from decreasing between detection blocks even if chemical emission intensity is changed with the lapse of time, when a unit for a chemical emission analysis is divided into several detection blocks for successive detection for each detection block.例文帳に追加

化学発光解析用ユニットをいくつかの検出ブロックに分けて各検出ブロック毎に順次検出する場合に、化学発光強度が時間経過に従って変化しても検出ブロック間において相対的な検出精度を低下させることがない化学発光検出方法を提供する。 - 特許庁

The radiography unit performs radiography at a plurality of positions while moving the multi X-ray generation part and the slit part by prescribed pitches in the first direction keeping a relative positional relationship and reconstructs an X-ray image based on the intensity of the X rays obtained.例文帳に追加

Ｘ線撮影装置は、マルチＸ線発生部とスリット部とを、相対的な位置関係を保ちながら第１の方向へ、所定のピッチだけ移動する間の複数位置においてＸ線撮影を実行し、得られたＸ線強度に基づいてＸ線画像を再構成する。 - 特許庁

As a result, most light out of light L1 radiated from the semiconductor type light source 6 and having relatively large relative intensity is reflected by a reflecting surface 4 nearly in parallel with the optical axis Z1-Z1 of the projection lens 7 and downward with respect to the optical axis Z1-Z1 of the projection lens 7.例文帳に追加

この結果、半導体型光源６から放射される光Ｌ１のうち大部分の光であって相対強度が比較的強い光が反射面４で投影レンズ７の光軸Ｚ１−Ｚ１とほぼ平行にかつ投影レンズ７の光軸Ｚ１−Ｚ１に対して下側に反射される。 - 特許庁

Furthermore, the method includes a step for determining the integrated value of the complex amplitude of light, in a manner determining a light intensity at the arbitrary observation point, by repeating the step for determining the complex amplitude of each point light source relative to the arbitrary observation point.例文帳に追加

本回折像計算方法は、さらに、当該任意の観測点に対して、各点光源について複素振幅を求めるステップを繰り返すことにより、当該任意の観測点における光の強度を求めるように、光の複素振幅の積算値を求めるステップとを含む。 - 特許庁

To provide a transmission module in which RIN (Relative Intensity of Noise) is sufficiently low by removing influence of return light which exerts an effect on a semiconductor laser without using an isolator and a slantly polished stub in a transmission module which includes a semiconductor laser as a light emitting element.例文帳に追加

半導体レーザを発光素子として含む送信モジュールにおいてアイソレータや斜め研磨スタブを用いることなく戻り光の半導体レーザに及ぼす影響を除去し相対雑音強度（ＲＩＮ）の充分に低い送信モジュールを与えること。 - 特許庁

The dry binary developer comprising at least a toner and a carrier is characterized by having a specific electric conductivity of 2×10-8-500×10-8 S/m measured at 23°C and a relative humidity of 50% in an electric field intensity of 5×105 V/m.例文帳に追加

少なくともトナーとキャリアとを含有する乾式二成分系現像剤において、２３℃、５０％ＲＨの条件で、５×１０^5 Ｖ／ｍの電界強度で測定した該現像剤の比電気伝導率が２×１０^-8〜５００×１０^-8Ｓ／ｍであることを特徴とする現像剤。 - 特許庁

The phage/virus inactivator comprises the anatase-type titanium oxide containing copper, wherein the mass% ratio of CuO/TiO_2 ranges from 1.0 to 3.5 and the relative phage titer after an irradiation with an ultraviolet intensity of 10 μW/cm^2 for 60 min is from 1×10^-2 to 1×10^-5.例文帳に追加

紫外線強度10μW／cm^２で６０分照射によるファージ相対力価が１×１０^−２〜１×１０^−５の範囲となることを特徴とするCuO／TiO_2(質量％比)＝1.0〜3.5の範囲で銅を含有するアナターゼ型酸化チタンからなるファージ・ウイルスの不活性化剤である。 - 特許庁

Incident angle of an electromagnetic wave can be detected with high precision by the output ratio of two electromagnetic wave transmitting/receiving elements, and delivery angle of an electromagnetic wave being delivered from a device can be controlled with high precision by varying the relative intensity of electromagnetic waves being delivered from two electromagnetic wave transmitting/receiving elements.例文帳に追加

２つの電磁波送受信素子の出力比によって電磁波の入射角度を高精度に検出でき、また２つの電磁波送受信素子から送出する電磁波の相対強度を変化させることにより、デバイスから送出する電磁波の送出角度を高精度に制御することができる。 - 特許庁

The head-up display system suitable for an aircraft comprises an image source arranged outside a desired field of view of an observer, and intensity of symbols of the image source are modulated to be different depending on their perceived positions relative to a horizon line.例文帳に追加

航空機に好適なヘッドアップディスプレイ・システムは観察者の所望の視野の外に設けられた画像源を備え、当該画像源のシンボルの強度は知覚された地平線に対するその位置によって異なるように変調される。 - 特許庁

In this electrolyte membrane formed by filling the proton conductive polymer in the pore of a porous base material, the value of a positron annihilation lifetime τ3 (ns) found by a positron annihilation method is τ3<2, and its relative intensity I3 (%) is I3<9.例文帳に追加

多孔性基材の細孔内にプロトン伝導性ポリマーを充填してなる電解質膜において、陽電子消滅法により求められる陽電子消滅寿命τ３（ｎｓ）の値がτ３＜２であり、かつ、相対強度Ｉ３（％）がＩ３＜９であることを特徴とする。 - 特許庁

To quickly and correctly measure a light intensity distribution formed on a predetermined flat surface based on one-time optical irradiation and an evaluation of a physical change, without being substantially influenced by a moire phenomenon resulting from a relative position deviation of two light modulation elements.例文帳に追加

２つの光変調素子の相対位置ずれなどに起因するモアレ現象の影響を実質的に受けることなく、所定の平面上に形成される光強度分布を１回の光照射および物性変化の評価に基づいて迅速に且つ正確に測定する。 - 特許庁

In the formula (3), I is the intensity of a photoelectron, hv is photon energy, ϕ is a work function, E_0 is the ionizing energy of a cluster condition generated on the surface of a substance such as adsorption or the like, σ is the standard deviation of the same state and CG/CF is a relative state density in the same state.例文帳に追加

式（３）において、Ｉ：光電子強度、ｈｖ：光子エネルギー、φ：仕事関数、Ｅ_０：吸着など物質表面に生じたクラスター状態のイオン化エネルギー、σ：同状態の標準偏差、ＣＧ/ＣＦ：同状態の相対的な状態密度である。 - 特許庁

An arithmetic part 173 acquires the deviation in the phase between the projection light and the reflected light, which are modulated in terms of intensity, relative to a plurality of ranging points on a screen, and acquires distances to the plurality of ranging points on the screen, based on the deviation of the phase, then acquires the tilt angle of the screen.例文帳に追加

演算部１７３は、スクリーン上の複数の測距点について、光強度が変調されている投影光と反射光との位相のずれ量を取得し、この位相のずれ量に基づいて、スクリーン上の複数の測距点までの距離を取得し、スクリーンの傾き角度を取得する。 - 特許庁