「Sem」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

Information (offset information) about distribution of a coordinate system offset between a defect inspection apparatus and a SEM apparatus at an observation location on a wafer is registered in the SEM apparatus as a defect observation apparatus.例文帳に追加

欠陥観察装置であるＳＥＭ装置には、欠陥検査装置と当該ＳＥＭ装置との間の座標系のずれの、ウェハ上の観察位置に対する分布に関する情報（ずれ情報）が登録される。 - 特許庁

Data of the edge roughness are acquired over a sufficiently long area, and a component, which corresponds to a spatial frequency range set by an operator on a power spectrum, is integrated and displayed on a length measurement SEM.例文帳に追加

エッジラフネスのデータは十分長い領域に渡って取得し、パワースペクトル上で操作者が設定した空間周波数領域に対応する成分を積算し、測長SEM上で表示する。 - 特許庁

An evaluation sample is obtained by this manner, and a state of the particle is observed by a SEM or the like.例文帳に追加

このようにして、評価用試料が得られ、ＳＥＭなどによって粒子の状態が観察される。 - 特許庁

To facilitate accurate positioning and/or direction setting of a probe or a sample with an SEM or the like.例文帳に追加

ＳＥＭ等でプローブまたは試料を正確に位置決めおよび／または方向付けすることを容易にする。 - 特許庁

SCANNING ELECTRON MICROSCOPE, DISCHARGE ELECTRON DETECTED VALUE ESTIMATION METHOD, SEM IMAGE SIMULATION METHOD, AND ITS PROGRAM例文帳に追加

走査電子顕微鏡、放出電子検出値推定方法、ＳＥＭ像シミュレーション方法、及びそのプログラム - 特許庁

A correction device has an external shielded coil 42 attached to a pole-type housing 41of the SEM 40.例文帳に追加

補正装置は、ＳＥＭ４０の柱状ハウジング４１に取り付けられた外部シールドコイル４２を備える。 - 特許庁

To enable to obtain an SEM image at high speed without being affected by a scanning direction of charged particle beams.例文帳に追加

荷電ビームの走査方向の影響を受けることなく高速でのＳＥＭ画像取得を可能にする。 - 特許庁

To provide a dark field detection system of a scanning electron microscope (SEM) having a polar angle identification function of scattered electrons.例文帳に追加

散乱電子の極角識別機能を有するＳＥＭ暗視野検出システムを提供すること。 - 特許庁

In the event of image recognition error, it is made possible to directly compare an SEM image of a low magnification with a registered image to perform position detection by lowering the magnification of the registered image itself to the same magnification in parallel with the magnification of an SEM screen, with the registered image registered in the length measuring SEM and corresponding to an image going to be registered.例文帳に追加

このように画像認識エラー時に、ＳＥＭ画面の倍率と同時に、検出しようとする画像に対応する、測長ＳＥＭ内に登録された登録画像そのものの倍率も下げて同倍率にすることによって、低倍率のＳＥＭ画像と登録画像とで直接比較位置検出できるようにする。 - 特許庁

To provide a system of which the secondary electrons emitted by FIB irradiation are prevented from turning into noise of an SEM detection signal when observing a process of implementing FIB work in real time by an SEM, in a system including an FIB lens barrel and an SEM lens barrel.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、ＦＩＢ鏡筒とＳＥＭ鏡筒を備えたシステムにおいて、ＦＩＢ加工を実行している過程をリアルタイムでＳＥＭ観察する際に、ＦＩＢ照射によって放出される二次電子がＳＥＭ検出信号のノイズとならないようなシステムを提供することにある。 - 特許庁

In a preferable mode of the method for evaluating the hard texture, the orientation of the crystal is evaluated by at least one type selected from a group of an X-ray diffraction method, an SEM method, and a TEM method.例文帳に追加

また、本発明の硬組織の評価方法の好ましい態様において、結晶の配向性を、Ｘ線回折法、SEM法、TEM法からなる群から選択される少なくとも1種により評価することを特徴とする。 - 特許庁

Configurations like this facilitate management of the SEM image based upon the identification information since the identification information is added to each piece of the SEM image originally having no characteristic identification information.例文帳に追加

このような構成によれば、本来固有の識別情報を持たないＳＥＭ画像上の各片に、識別情報を付加することになるので、当該識別情報に基づくＳＥＭ画像の管理が可能となる。 - 特許庁

To provide a charged particle beam device of a critical-dimension measuring scanning electron microscope (CD-SEM) or the like, measuring accurately a pattern dimension on a photomask for nanoimprint by a retarding voltage application system.例文帳に追加

リターディング電圧印加方式によってナノインプリント用フォトマスク上のパターン寸法を正確に測定することができる微小寸法測定走査電子顕微鏡（CD-SEM）等の荷電粒子線装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide an SEM device or an SEM system improved in inspection efficiency and the rate of automation by allowing an imaging recipe or/and a measurement recipe to be automatically and rapidly generated; and its method.例文帳に追加

撮像レシピ又は／及び計測レシピを自動かつ高速に生成できるようにして検査効率及び自動化率を向上させたＳＥＭ装置又はＳＥＭシステム並びにその方法を提供することにある。 - 特許庁

This SEM 1 is equipped with a CAD image storage part 17 for storing data of a CAD image generated based on CAD data of a sample 105, for showing its surface shape, in addition to an SEM image acquisition part 11.例文帳に追加

ＳＥＭ１は、ＳＥＭ画像取得部１１のほかに、試料１０５のＣＡＤデータに基づき生成され、その表面形状を表わしたＣＡＤ画像のデータを記憶するＣＡＤ画像記憶部１７を備える。 - 特許庁

To fabricate an SEM sample and STEM sample without operation for planarizing a sample surface by an FIBAD film conducted before cross-sectional processing and slice processing by an FIB, and without causing a damage by FIB radiation on the sample surface.例文帳に追加

FIBによる断面加工や薄片加工に先立って行なわれていたFIBAD膜による試料表面平坦化作業を行なうこと無く、試料表面にFIB照射損傷を与えることなく、SEM試料やSTEM試料を作製する。 - 特許庁

To accurately calculate a coordinate data conversion/correction formula for a short time so as to effectively search particles on a wafer from their data that are measured by a particle counter, by a scanning electron microscope (SEM).例文帳に追加

パーティクルカウンタで測定したウェーハ上の粒子の座標データに対し走査型電子顕微鏡（SEM）で当該粒子の探索を効果的に行うための、座標データ変換・補正式を短時間で精度良く算出する。 - 特許庁

To provide an SEM device capable of imaging the difference between amorphism and crystallinity with high contrast to allow it to be observed.例文帳に追加

高いコントラストで、アモルファスと結晶との差異を画像化して観察可能なＳＥＭ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a global matching method capable of improving global matching rate between GDS image and SEM image.例文帳に追加

ＧＤＳイメージとＳＥＭイメージとの間のグローバルマッチング率を向上させるグローバルマッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition having excellent SEM resistance and resolution and further having improved defocus latitude.例文帳に追加

ＳＥＭ耐性及び解像性に優れ、デフォーカスラチチュードが改善されたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

A SEM image with low magnification is acquired for an area including a measurement point set on the semiconductor pattern.例文帳に追加

半導体パターン上に設定された測定点を含む領域について低倍率のＳＥＭ画像を取得する。 - 特許庁

To provide a dual beam system capable of operating an ion beam while feeding a current into a scanning electron microscope (SEM) lens.例文帳に追加

ＳＥＭレンズに電流を流しながらイオン・ビームを操作することのできる二重ビーム装置を提供すること。 - 特許庁

To automatically correct sample drift at X-ray mapping in a TEM/ SEM which is capable of performing the X-ray mapping.例文帳に追加

Ｘ線マッピングが可能なＴＥＭ／ＳＥＭにおいて、Ｘ線マッピング時の試料ドリフトを自動的に補正する。 - 特許庁

Thereafter, a predetermined number of scannings are performed, and SEM images at these time are obtained as images to be compared with the reference image.例文帳に追加

その後、所定回数の走査を行ったら、そのときのＳＥＭ像を得、それを比較対象像とする。 - 特許庁

To provide a double beam apparatus for operating an ion beam while feeding a current into a scanning electron microscope (SEM) lens.例文帳に追加

ＳＥＭレンズに電流を流しながらイオン・ビームを操作することができる二重ビーム装置を提供すること。 - 特許庁

At this time, the sample holder of SEM is controlled to -80°C so that the solid matter is not melted to turn to liquid.例文帳に追加

この時、ＳＥＭのサンプルホルダーは、固形物が融解して液体状とならないように−８０℃に制御した。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having excellent SEM resistance and resolution and further having improved defocus latitude.例文帳に追加

ＳＥＭ耐性及び解像性に優れ、デフォーカスラチチュードが改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To realize a low vacuum SEM with a very simple structure by one exhaust system only.例文帳に追加

本発明の課題は、一つの排気システムだけで、非常に簡単な構造で低真空ＳＥＭを実現することにある。 - 特許庁

The defect is searched by using the SEM apparatus based on coordinates of the defect specified by the defect inspection apparatus.例文帳に追加

欠陥検査装置で特定された欠陥の座標に基づき、ＳＥＭ装置を用いて欠陥を探索する。 - 特許庁

In the nickel powder, the average particle size obtained by SEM observation is 0.1-1 μm and the D50 value obtained by laser diffraction scattering type particle size distribution measurement and the average particle size obtained by SEM observation satisfy the condition of the following inequality: 1≤{(D50 value by laser diffraction scattering type particle size distribution measurement)/(average particle size by SEM observation)}≤1.8.例文帳に追加

ＳＥＭ観察による平均粒子径が０．１〜１μｍであり、且つレーザ回折散乱式粒度分布測定によるＤ_50値及びＳＥＭ観察による平均粒子径が下記式（１）の条件を満たしていることを特徴とするニッケル粉： １≦｛（レーザ回折散乱式粒度分布測定によるＤ_50値）／（ＳＥＭ観察に よる平均粒子径）｝≦１．８‥‥‥（１） - 特許庁

To enhance efficiency for reviewing a defect to review the large number of defects in a short time, in the defect review for a semiconductor device capable of detecting the defect in a low magnification of SEM (Scanning Electron Microscope) image and capable of observing the defect in a high magnification of SEM image.例文帳に追加

低倍率のＳＥＭ像で欠陥を検出し、高倍率のＳＥＭ画像で欠陥を観察する半導体デバイスの欠陥レビューにおいて、欠陥レビューの効率をあげて短時間に多数に欠陥をレビューできるようにする。 - 特許庁

To provide an ultracompact SEM using a permanent magnetic lens in which change of the number of stages of condensing lens can be achieved relatively easily according to an accelerating voltage due to magnetic saturation.例文帳に追加

本発明の課題は、永久磁石レンズを使用した超小型のSEMにおいては、磁気飽和により、加速電圧に応じてコンデンサレンズの段数を変更しなければならないが、比較的容易にこれを実現する方法を考案することにある。 - 特許庁

To provide a machine difference correction method of a length measurement SEM group for which it is difficult to eliminate a machine difference by the adjustment of a hard wafer, and to provide a monitoring method of the secular change of a length measurement SEM unaffected by the secular change of a sample.例文帳に追加

ハードウエハの調整では機差をなくすことが困難な測長ＳＥＭ群の機差補正方法を提供すること，及び，試料の経時変化に影響されない，測長ＳＥＭの経時変化のモニタ方法を提供する。 - 特許庁

Otherwise, data of edge roughness in a sufficiently long area are divided, and fitting by statistic processing and logic calculation is performed thereto, and a long period roughness and a short period roughness corresponding to an optional inspection area are calculated and displayed on a length measuring SEM.例文帳に追加

または、十分長い領域のエッジラフネスデータを分割し、統計処理と理論計算によるフィッティングを行って、任意の検査領域に対応する長周期ラフネスと短周期ラフネスを算出し測長SEM上で表示する。 - 特許庁

Alternatively, the data of the edge roughness of the sufficiently long area are divided, fitting by statistic processing and logic calculation is performed, and long-period roughness and short-period roughness corresponding to an arbitrary inspection region are calculated and displayed on the length measurement SEM.例文帳に追加

または、十分長い領域のエッジラフネスデータを分割し、統計処理と理論計算によるフィッティングを行って、任意の検査領域に対応する長周期ラフネスと短周期ラフネスを算出し測長SEM上で表示する。 - 特許庁

This corrector corrects chromatic aberration in a particle lens used for an SEM/TEM.例文帳に追加

本発明は、ＳＥＭ又はＴＥＭに使用されるもののような、粒子レンズにおける色収差の補正用の補正器を記載する。 - 特許庁

After that, the pin hole 5 including a part 6 that is subjected to the overetching is measured and evaluated by a particle inspection machine and an SEM.例文帳に追加

その後、オーバーエッチングされた部分６を含むピンホール５をパーティクル検査機やＳＥＭによって計測し評価する。 - 特許庁

A scanning method is optimized on the basis of the extracted time constant, and distortion appearing in an SEM image and magnification fluctuation are suppressed.例文帳に追加

抽出した時定数を基に走査方法を最適化し、ＳＥＭ像に現れる歪みや倍率変動を抑制する。 - 特許庁

Based on this judgment result, the SEM image is divided into a plurality of image areas corresponding to the pattern density.例文帳に追加

次に、この判定結果に基づいて、そのＳＥＭ画像をパターン密度に応じた複数の画像領域に分割する。 - 特許庁

Furthermore, in the case of an FIB-SEM device, end-point detection of FIM processing can be carried out with high accuracy.例文帳に追加

また、ＦＩＢ−ＳＥＭ装置においては、ＦＩＢ加工の終点検知を高精度に実施することが可能となる。 - 特許庁

As a result, safety of the shared key encapsulation means (SEM) is controlled to thereby enable overall safety control.例文帳に追加

これにより、共有鍵遮蔽手段（ＳＥＭ）の安全性をコントロールすることで全体の安全性をコントロール可能にする。 - 特許庁

To shorten time required to inspection when a wafer is inspected with an SEM(scanning electron microscope).例文帳に追加

ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）を使用して被検査ウエハの検査を行う際の検査に要する時間を短縮すること。 - 特許庁

Then the sample 10 is taken out of the reaction tube 21, and the density of the etch pits is observed under a SEM.例文帳に追加

そののち、試料１０を反応管２１から取り出し、半導体層のエッチピット密度をＳＥＭにより観察する。 - 特許庁

When SEM images are needed, a relatively large voltage is applied to the axially symmetry electrode 20 from a power source 16.例文帳に追加

ＳＥＭ画像を得るときは、軸対称電極２０には、電源１６から比較的大きな電圧が与えられる。 - 特許庁

To easily and visually judge the direction and the quantity of deviation by a SEM image obtained at the time point and two SEM images of the first SEM image used in determining a point of analysis when the positional relationship of the electron beam to the point of analysis of a sample is returned to the initial condition by manually moving a sample stage by an operator during the point analysis.例文帳に追加

点分析を行っている場合において、オペレータが手動により試料ステージを移動させて、電子ビームと試料の分析点の位置関係を最初の状態に戻そうとする際、その時点で得たＳＥＭ像と、分析点を定める際に用いた最初のＳＥＭ像の二つのＳＥＭ像とから、目視により、どの方向にどれだけずれているかを容易に判断できるようにする。 - 特許庁