「The First Step」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The method of manufacturing the active matrix substrate includes a first step of forming a first active matrix circuit on a first side of the substrate 1, and a second step of forming a second active matrix circuit including an organic transistor on a second side opposite to the first side of the substrate 1 after the first step.例文帳に追加

アクティブマトリックス基板の製造方法は、基板１の第１面に第１のアクティブマトリックス回路を形成する第１工程と、第１工程の後に、基板１の第１面とは反対側の第２面に有機トランジスターを含む第２のアクティブマトリックス回路を形成する第２工程と、を有する。 - 特許庁

When an end face of a glass substrate for a magnetic recording medium having a through hole formed at the center is subjected to polishing, the polishing step of the circumferential end face comprises a first polishing step and a second polishing step, in which the polishing conditions are varied between the first polishing step and the second polishing step.例文帳に追加

中央部に貫通孔が形成された磁気記録媒体用ガラス基板の端面を研磨する場合に、外周端面の研磨工程を第１研磨工程と第２研磨工程に分け、第１研磨工程と第２研磨工程の研磨条件を変える。 - 特許庁

The fluid speeds and pressures represent the movements of the first fluid and the second fluid in the first time step.例文帳に追加

流体速度および圧力は第１の時間ステップにおける第１流体および第２流体の動きを表す。 - 特許庁

A first conductive layer forming step of forming a first conductive layer 11a on the first mask 21 is performed.例文帳に追加

第１のマスク２１の上から第１の導電層１１ａを形成する第１の導電層工程を行う。 - 特許庁

The marking method of a defective part of a component includes a first contact step, a moving distance setting step, and a smashing step.例文帳に追加

本発明の不良箇所マーキング方法は、第１接触工程、移動距離設定工程及び押し潰し工程を含む。 - 特許庁

The method of thickening liquid in which the second liquid for thickening the first liquid is added to the first liquid includes: a step of adding the second liquid to the first liquid which flows through a channel under laminar flow conditions, from an inner part of the first liquid; and a step of mixing the first liquid and the second liquid while maintaining the laminar conditions.例文帳に追加

液体の増粘方法は、第１液に、それを増粘させる第２液を添加するものであり、流路を層流条件下で流通する第１液に、その内部から第２液を添加し、それらを層流条件を保持した状態で混合させる。 - 特許庁

The step of forming the first and the second resin patterns is a step of forming the first resin pattern and the second resin pattern with a height lower than that of the first resin pattern by developing the transparent resin layer.例文帳に追加

第１、第２の樹脂パターンを形成する工程は、透明樹脂層を現像することにより、第１の樹脂パターンおよびこのパターンよりも低い第２の樹脂パターンを形成する工程である。 - 特許庁

The method for obtaining the human albumin solution comprises (a) a first dialysis step (diafiltration); (b) a step of stabilizing the solution with NaCl and at least one amino acid; (c) a step of heating the solution; and (d) a second dialysis (diafiltration) step.例文帳に追加

ａ）第１の透析（ダイアフィルトレーション）、ｂ）ＮａＣｌ及び少なくとも１つのアミノ酸による溶液の安定化、ｃ）溶液の加熱、ｄ）第２の透析（ダイアフィルトレーション）を含む。 - 特許庁

The method for treating hair includes: a step of applying the first agent to the hair; a step of applying the second agent to the hair; and a step of rinsing the hair.例文帳に追加

本発明の毛髪処理方法は、毛髪に第１剤を塗布する工程、毛髪に第２剤を塗布する工程、毛髪の水洗処理を行う行程を含む。 - 特許庁

The step for mounting the third induction coil is executed after a step for inserting the work piece into the first induction coil, and a step for inserting the second induction coil into the passage.例文帳に追加

３番目の誘導コイルを配置するステップは、（i）加工片を１番目の誘導コイルに通すステップ及び（ii）２番目の誘導コイルを通路に通すステップの後に実行される。 - 特許庁

In the reaction step, when the thin film is deposited on one substrate, the heating step is performed on the second substrate to be film-deposited in the reaction step next to the first substrate.例文帳に追加

反応工程において一の基板上に薄膜を成膜している時に、一の基板の次に反応工程で成膜が行われる他の基板について加熱工程を行う。 - 特許庁

The second heating step is a step of reheating the second end 10B by making the heating means 20 traverse above the second end 10B in the reverse direction when compared with the first heating step.例文帳に追加

第２の加熱工程は、加熱手段２０を第２の端部１０Ｂの上を、第１の加熱工程とは逆方向に横切らせることにより再度加熱する工程である。 - 特許庁

This parallel AC measurement method includes a step of applying a first signal on the first DUT, a step of applying a second signal on the second DUT, that is, a mutually orthogonal step of simultaneously generating the first signal and the second signal, a step of measuring a first DUT response, and a step of measuring a second DUT response.例文帳に追加

第１の信号を第１のＤＵＴに印加する工程と、第２の信号を第２のＤＵＴに印加する工程であって、第１の信号及び第２の信号は同時に生じ、互いに直交する工程と、第１のＤＵＴ応答を測定する工程と、第２のＤＵＴ応答を測定する工程とを含む。 - 特許庁

The step (a) has a step wherein the resistance value of the first variable resistance and the resistance value of the second variable resistance increase/decrease at the same time.例文帳に追加

前記（ａ）段階は前記第１可変抵抗の抵抗値と前記第２抵抗の抵抗値とが同時に増減する段階を備える。 - 特許庁

The step-up means 405 raises the output voltage of the first power supply 401, up to the lower-limit voltage allowing the operation of the step-down means 407.例文帳に追加

昇圧手段４０５は、第１の電源４０１の出力電圧を降圧手段４０７の動作下限電圧まで昇圧する。 - 特許庁

It is determined that the larger the detection value obtained in the second step compared to that in the first step, the worse the prognosis.例文帳に追加

第２の工程における検出値が第１の工程における検出値と比較して大きいほど、予後が不良と判断される。 - 特許庁

The method includes the first step of forming the first emboss on the surface of the mold, and the second step of further forming the second emboss, which is finer than the first emboss on the surface of the mold on which the first emboss is formed.例文帳に追加

シボの形成方法は、前記金型の表面に第１のシボを形成する第１の工程と、前記第１のシボが形成された前記金型の表面に、前記第１のシボよりも細かい第２のシボをさらに形成する第２の工程とを包含する。 - 特許庁

From the first heating step to the second heating step, a cavity in a package comprising the first plate and the second plate is ventilated to the outside of the package (S142, S143).例文帳に追加

また、第１加熱工程から第２加熱工程までに、第１板と第２板とから形成されるパッケージ内のキャビティとパッケージ外とを通気する（Ｓ１４２、Ｓ１４３）。 - 特許庁

The first inclination angle which is formed by the first inclination surface and the step surface 7 is larger than the second inclination angle which is formed by the second inclination surface and the step surface 7.例文帳に追加

第１の傾斜面と踏み面７とがなす第１の傾斜角度は、第２の傾斜面と踏み面７とがなす第２の傾斜角度よりも大きくなっている。 - 特許庁

Correspondences of the minimum-degree nodes are first found between the mesh 1 and the mesh 2 (step S5).例文帳に追加

まず、メッシュ１とメッシュ２間で最小次数節点の対応を取る（ステップＳ５）。 - 特許庁

The method also comprises the step of forming a first electrode 15 on the second N-type semiconductor layer 7.例文帳に追加

そして、第２Ｎ型半導体層７上に第１電極１５を形成する。 - 特許庁

The number of times of drawing the display mark 7 and the background mark 8 in the first drawing step is detected and when the number of times of the drawing reaches 15 times, the first drawing step is shifted to the second drawing step.例文帳に追加

第１描画工程において表示マーク７及び背景マーク８を描画した描画回数を検出し、描画回数が１５回に達したとき、第１描画工程から第２描画工程に移行する。 - 特許庁

This system detects a fire in the step S1, determines if the fire shutter on the first evacuation floor is closed in the step S3, and moves the car to the first evacuation floor if the fire shutter is not closed in the step S4.例文帳に追加

ステップＳ１で火災の発生を検知すると、ステップＳ３で第１避難階の防火シャッタが降りているかを判断し、防火シャッタが降りていなければステップＳ４でかごを第１避難階へ走行させる。 - 特許庁

The step of forming the first and the second microlenses is a step of forming the first microlens and the second microlens with a height lower than that of the first microlens by performing heat treatment on the first resin pattern and the second resin pattern.例文帳に追加

第１、第２のマイクロレンズを形成する工程は、第１の樹脂パターンおよび第２の樹脂パターンを熱処理することにより、第１のマイクロレンズおよびこのレンズよりも低い第２のマイクロレンズを形成する工程である。 - 特許庁

Then, the second water supply step for supplying water into the second tank in parallel to the first air introducing step for introducing air into the first tank is executed and the first water supply step for supplying water into the first tank in parallel to the second air introducing step for introducing air into the second tank is executed.例文帳に追加

そして、空気を第１タンク内に導入する第１空気導入ステップと並行して水を第２タンク内に供給する第２給水ステップを実行し、空気を第２タンク内に導入する第２空気導入ステップと並行して水を第１タンク内に供給する第１給水ステップを実行する。 - 特許庁

Specifically, the method comprises: a temperature raising step of placing the carbon raw material inside the furnace and heating the furnace; a first activation step of feeding the activation gas to the heated furnace; a replacement step of replacing the activation gas with the inert gas while heating the furnace after the first activation step; and a second activation step of resuming feeding of the activation gas to the furnace after the replacement step.例文帳に追加

具体的には、炉に炭素原料を収容し、炉を加熱する昇温工程、加熱された炉に、賦活ガスを供給する第１賦活工程、第１賦活工程後、炉を加熱したまま賦活ガスを不活性ガスに置換する置換工程、及び前記置換工程後、再び炉に賦活ガスを供給する第２賦活工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

A single step line L11 is formed in the vicinity of the forefront side of the first step region, while a double step line L12 is formed at the second step region, and a triple step line L13 is formed at the third step region.例文帳に追加

そして、第１ステップ領域の先頭側近傍に１本の段階ラインＬ１１が形成されており、第２ステップ領域には２本ラインの段階ライン１２が形成され、第３ステップ領域には３本ラインの段階ラインＬ１３が形成されている。 - 特許庁

The preparing method comprises a first step of giving heat treatment to a raw material compound and a second step of coating the active material with a compound including the element A, followed by a heat treatment, wherein the time for the second heat treatment is shorter than the time for the first heat treatment in the first step.例文帳に追加

〔２〕原料化合物を熱処理する第一の工程と、該活物質をＡを含む化合物で被覆した後、熱処理を行う第二の工程の製造方法で、第二の熱処理時間が第一の工程よりも短い製造方法。 - 特許庁

The flattening step comprises a step for exposing at least a part of the adhesive to the surface of a first net and a step for removing the adhesive exposed to the upper part of the first net by sliding a squeegee on the surface of the first net.例文帳に追加

平坦化ステップは、接着剤の少なくとも一部を第１のネットの上に露出させるステップと、スキージを第１のネットの面上を滑らせて、第１のネットの上方に露出させられた接着剤を除去するステップとを有している。 - 特許庁

The method further includes a step of connecting the second plenum with the first plenum, a step of surrounding the first plenum by the second plenum in the cavity and a step of pouring a cooling medium through the first plenum and the second plenum to cool a constituent element.例文帳に追加

本方法はさらに、第２のプレナムを第１のプレナムに連結するステップと、空洞内部で第２のプレナムで第１のプレナムを囲むステップと、第１のプレナム及び第２のプレナムを通して冷媒を流して構成要素を冷却するステップとを含む。 - 特許庁

Between the step (Step S4) of removing the first oxide film and the step (Step S6) of forming the second oxide film, the SiC semiconductor is disposed in an atmosphere in which the ambient air is blocked.例文帳に追加

第１の酸化膜を除去する工程（ステップＳ４）と、第２の酸化膜を形成する工程（ステップＳ６）との間において、ＳｉＣ半導体は大気が遮断された雰囲気内に配置される。 - 特許庁

Moving from the first part to the second part, the end address of the first session is transformed into the address of the second session (a step S3).例文帳に追加

第１セッションから第２セッションに移ると、第１セッションのエンドアドレスが第２セッションのアドレスに変換される（ステップＳ３）。 - 特許庁

The step difference pattern includes a first step difference pattern 11, formed by digging down a principal surface of a substrate 2; and a second step difference pattern 13, formed by further digging down the principal surface of the substrate 2, in continuation with the first step difference pattern 11 below the first step difference pattern 11 formed by digging down the principal surface of the substrate 2.例文帳に追加

段差パターンは、基板２の主面を掘り下げて形成された第１段差パターン１１と、基板２の主面を掘り下げた第１段差パターン１１の下方に、第１段差パターン１１に連続して更に基板２の主面を掘り下げて形成された第２段差パターン１３と、を有している。 - 特許庁

The second step is conducted in a condition where a flow ratio of a semiconductor material gas is lower than in the first step.例文帳に追加

第２の工程は、第１の工程よりも半導体材料ガスの流量比が小さい条件で行う。 - 特許庁

The second step is started after a prescribed delay d1 with respect to the first step and continued for a prescribed time t2.例文帳に追加

第２の段階は各第１の段階に対し所定の遅延ｄ１後に起動し所定時間ｔ２継続する。 - 特許庁

A first database is accessed using the measurement of the geometrical value (step S2) to calculate exposure amount (step S3).例文帳に追加

形状値の測定結果を用いて第１のデータベースにアクセスし（ステップＳ２）、露光量を算出する（ステップＳ３）。 - 特許庁

At first, the progress of the game is detected (step S300), and then making information is displayed (step S310).例文帳に追加

先ずゲームの進行度を検出し（ステップＳ３００）、次いで、メイキング情報の表示処理を行なう（ステップＳ３１０）。 - 特許庁

The first step 30 and the second step 46 on which an operator 5 can be elevated and lowered are provided on an ingot loader 10.例文帳に追加

インゴットローダー１０にオペレータ５が昇降可能な第１踏み台３０と第２踏み台４６を設ける。 - 特許庁

A method for manufacturing the probe 1 includes a base layer formation step, a seed film formation step, a first resist layer formation step, a hydrophilic treatment step, a second resist layer formation step, a probe formation step, and a removal step.例文帳に追加

また、本発明のプローブ１の製造方法は、下地層形成工程、シード膜形成工程、第１レジスト層形成工程、親水処理工程、第２レジスト層形成工程、プローブ形成工程および除去工程を備える。 - 特許庁

A bearing sleeve for adjusting a bearing central position of the first step gear configuration for a worm shaft and an axis of the second step gear configuration is provided in a bearing part of the first step gear configuration.例文帳に追加

一段目ギア構成の軸受中心位置を、ウォーム軸と二段目ギア構成の軸に対し調整可能にするための軸受スリーブを一段目ギア構成の軸受部に設けている。 - 特許庁

A coverage of the fine silica particles in the second covering step is made larger than that in the first covering step.例文帳に追加

第二被覆工程でのケイ酸微粒子の被覆率は、第一被覆工程での被覆率よりも大きくなるようにする。 - 特許庁

The liquid outlet 9 of the liquid gas separator 3 is connected to the suction port 11 in a first step of a two-step jet scrubber 4.例文帳に追加

気液分離器３の液体出口９を、２段式ジェットスクラバー４の１段目の吸引口１１と接続する。 - 特許庁

The core-layer forming step is a step for forming a first side surface region 16a including the tip 12c of the tapered section 12.例文帳に追加

コア層形成工程は、テーパ部１２の先端１２ｃを含む第１側面領域１６ａを形成する工程である。 - 特許庁

In the dehydrogenating step, the dehydrogenating step is conducted at a second processing chamber temperature T_2 higher than the first processing chamber temperature T_1.例文帳に追加

脱水素工程では、第１処理室温度Ｔ_1よりも高い第２処理室温度Ｔ_2で脱水素処理を行う。 - 特許庁

The mass of ions to be implanted in the first implantation step is larger than that in the second implantation step.例文帳に追加

第１注入工程で注入するイオンの質量は、第２注入工程で注入するイオンよりも大きくする。 - 特許庁