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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > X marksに関連した英語例文

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X marksの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 61



例文

X marks the spot. X 例文帳に追加

印がその地点を示している. - 研究社 新英和中辞典

Magnification correction amount in the x-axis direction of the mask is acquired, based on an alignment error Δx2 in the x-axis direction between other x-axis marks and the marks of the mask corresponding to it.例文帳に追加

他のx軸用マークとそれに対応するマスクのマークとのx軸方向の位置合わせ誤差Δx_2に基づいて、マスクのx軸方向の倍率補正量を求める。 - 特許庁

A pattern portion X, within which register marks TC, TM, TY and TK, is photographed with a color camera.例文帳に追加

トンボマークTC、TM、TY、TKが印刷された絵柄部分Xをカラーカメラで撮影する。 - 特許庁

Files of the X-ray images and the marks are stored in hard disc 52.例文帳に追加

X線画像とマーク上のデータとのファイルは、ハードディスク52に逐次保存される。 - 特許庁

例文

The first mark consists of first and second X marks for detecting the position in the X direction, and a first Y mark for detecting the position in the Y direction wherein the first and second X marks are provided oppositely while being spaced apart by a specified distance in the Y direction.例文帳に追加

第1のマークは、X方向の位置を検出するための第1第2のXマークと、Y方向の位置を検出するための第1のYマークとからなり、第1第2のXマークはY方向に所定距離離れて対向して設けられる。 - 特許庁


例文

Related to an x-y rectangular coordinate system parallel to the surface of the wafer, two x-axis marks for alignment are arranged at different positions of the x-coordinates on the wafer surface, while two y-axis marks are arranged at different positions of y-coordinates.例文帳に追加

ウエハの表面に平行なxy直交座標系を考えたとき、ウエハの表面上のx座標の異なる位置に、位置合わせ用の2つのx軸用マークが配置され、y座標の異なる位置に2つのy軸用マークが配置されている。 - 特許庁

Each of X-shaped marks 2a, 2b 2c, 2d is disposed at the same position as each of cross-shaped alignment marks Ra, Rb, Rc, Rd of a reticle R2 as a base reticle.例文帳に追加

X字状の各アライメントマーク2a,2b,2c,2dは、元レチクルとしてのレチクルR2の十字状の各アライメントマークRa,Rb,Rc,Rdと同一な位置に設けた。 - 特許庁

In the product distribution map 605A, characters 606, such as 'x' marks or 'o' marks are plotted on the coordinates corresponding to product position information of the item for classification.例文帳に追加

その製品分布図605Aには、分類対象の品目の製品位置情報に該当する座標に「×」印や「○」印等のキャラクタ606をプロットする。 - 特許庁

The aligner measures the surface position of a street line SL with respect to the alignment marks AM formed on the line SL by irradiating the surface of the line SL which is different from the marks AM with light ILX.例文帳に追加

ストリートラインSL上に形成されたアライメントマークAMに対し、アライメントマークAMとは異なるストリートラインSL上に照明光IL__Xを照射してストリートラインSLの表面位置を計測する。 - 特許庁

例文

Further, after a gate electrode 22 and a third positioning mark 22' are formed, dimensions in an X direction and a Y direction of the third positioning marks 22' are measured, and also a displacement amount of the centers of the positioning marks 9', 19' is measured.例文帳に追加

また、ゲート電極22、および第3の位置合わせマーク22′が形成した後、第3の位置合わせマーク22′のX方向およびY方向の寸法を測定するとともに、位置合わせマーク9′、19′の中心のずれ量を測定する。 - 特許庁

例文

Then, marks indicating the roles of the disk position X and the disk position Y are set in the recording of the history state.例文帳に追加

次いで、履歴状態の記録内に、ディスク位置Xおよびディスク位置Yの役割を示す標識を設定する。 - 特許庁

Subsequently the X and Y alignment marks thus produced are used for the step of alignment in a lithographic process.例文帳に追加

その後、生成されたX及びYのアライメントマークが、リソグラフィプロセスのアライメントステップに使用される。 - 特許庁

Then, the image of the sheet laminate 10 is taken by an X ray so that the position of an internal electrode 21 and the positions of the positioning marks 23 and 25 can be detected.例文帳に追加

次に、シート積層体10をX線で撮像することにより、内部電極21の位置と、位置決めマーク23、25の位置とを検出する。 - 特許庁

Reference marks 50, 51 formed on a core substrate 60 of a substrate 5 are image-formed on a fluorescent plate 12 by being irradiated with X rays from an X-ray generator 11, and this is imaged by a visible light CCD camera 13 to simultaneously detect positions of the reference marks 50, 51.例文帳に追加

基板5のコア基板60に形成された基準マーク50、51をX線発生器11からのX線照射により蛍光板12上に像を結び、これを可視光CCDカメラ13で撮像して基準マーク50、51の位置を同時に検出する。 - 特許庁

Both of the left and right vertical strip-like marks 1a and both of the front and rear horizontal strip-like marks 1b are used as scales for visual measurement of shift amounts in X and Y directions respectively to control the shift amounts, whereby positional relations in X and Y directions between the COF and the liquid crystal cell are freely adjusted.例文帳に追加

左右両側の縦帯状マーク1aと前後両側の横帯状マーク1bを、それぞれX方向とY方向のシフト量を目測する目盛として目合わせでシフト量をコントロールし、COFと液晶セルのX・Y方向の位置関係を自由に調整する。 - 特許庁

Description: For example, on Mac OS X 10.4. when using System. out.println in the Java code,the strings containing Japanese characters display correctly in the source code, but are displayed as question marks in the output window. 例文帳に追加

説明: たとえば Mac OS X 10.4 で、Java コードに System.out.println を使用している場合、日本語の文字を含む文字列は、ソースコードでは正しく表示されますが、「出力」ウィンドウではクエスチョンマーク (?) で表示されます。 - NetBeans

The classes of goods in relation to trade marks to which Chapter X of the Act shall apply and which are in the Act and the rules referred to as textile goods shall be classes 22 to 27 (inclusive) of the Fourth Schedule.例文帳に追加

織物法第X章が適用され,かつ,法及び本規則において織物と称する商品の商標に関する類は,第4附則の第22類から第27類まで(両類を含む)とする。 - 特許庁

(2) For the purpose of paragraph (1), references in section 3 and Part X of the Act and in the Trade Marks (Border Enforcement Measures) Rules to a registered trade mark shall be treated as references to a protected international trade mark (Singapore).例文帳に追加

(2)(1)の適用上,商標法第3条及び第X部並びに商標(国境強制措置)規則にいう登録商標は,保護国際商標(シンガポール)として扱われる。 - 特許庁

The marks for detecting position are put on a substrate in order to detect the position of the substrate along one direction (X direction) and the position of the substrate along a second direction (Y direction) orthogonal to one direction (X direction).例文帳に追加

基板上に形成されて、第1方向(X方向)に沿った基板の位置および第1方向と直交する第2方向(Y方向)に沿った基板の位置を検出するための位置検出用マーク。 - 特許庁

Markers 1c-1 and 1c-2 are spherical so as to be marks when the marker image of the X-ray resection marker 1 is extracted from an X-ray three-dimensional tomographic image.例文帳に追加

マーカ1c−1,1c−2は、球形状とすることにより、X線立体断層像からX線切除マーカ1のマーカ像を抽出する際の目印とすることができる。 - 特許庁

To provide a simple method for grasping a conversion rule for positioning in a navigation surgery using a position acquisition system 10, an X-ray device 1 and phantoms 20, 50 for X-ray calibration having X-ray impermeable marks 21, 51.例文帳に追加

位置捕捉システム(10)、X線装置(1)とX線不透過性マーク(21、51)を有するX線校正用ファントム(20、50)を用いるナビゲーション手術で位置合わせを行う目的で変換法則を把握する単純な方法を提供する。 - 特許庁

When the guide hole is bored, images of reference position marks 15a and 15b formed on the subplate 14 are picked up by X-ray image pickup devices 4a and 4b are processed to compute the distance between the two reference position marks 15a and 15b.例文帳に追加

ガイド穴を穿孔する際には、X線撮像装置4a,4bを用いて、サブプレート14に形成されている基準位置マーク15a,15bを撮像し、この撮像された基準位置マーク15a,15bを画像処理することにより、2つの基準位置マーク15a,15b間の距離を演算する。 - 特許庁

First, second, and third patterns 70, 72, and 74 are formed wherein the positions of the first marks 60A are different from each other by a distance corresponding to one mark element 62 in an X direction and in a Y direction, and the first marks 60A are colored R, G, and B.例文帳に追加

互いに第1マーク60Aの位置がマークエレメント62の1つ分X方向およびY方向において異なり、かつ、第1マーク60Aの色をR,G,Bとした第1、第2、第3のパターン70、72、74を形成する。 - 特許庁

A reference position is set at the end part of the scannable range of an ink jet carriage and marks for detecting the reference position are put at the operating position of the ink carriage and at a predetermined position (of distance X from the reference position) on a timing fence provided with pitch marks for speed control.例文帳に追加

インクキャリッジの走査可能範囲の端部の基準位置を設置し,インクキャリッジの動作の位置,速度制御に用いる等ピッチマークが施されたタイミングフェンス上の所定位置(上記基準位置からXの距離)に基準位置検出マークを設ける。 - 特許庁

These marks 22 and slits 18a and 18b are so designed that the marks 22 are completely shielded of light and both of the quantities of the light passed through the respective slits 18a and 18b are made zero only when the alignment in an X-axis direction, i.e., a displacement direction, is completed.例文帳に追加

これらマーク22とスリット18a・18bとは、変位方向であるX軸方向における位置合わせが完了したときのみ、マーク22に光が完全に遮光されて各スリット18a・18bを通過する通過光光量がどちらもゼロとなるように設計されている。 - 特許庁

Marks Za2 and Zb2 are arranged on the same side and If the disk is, for example, eccentric by δ along an X axis, marks Za2 and Zb1 side are outputted precedently by δ to a rotational angle as compared with the origin signal obtained when the disk is not eccentric while marks Za1 and Zb2 are delayed and outputted as well.例文帳に追加

同じ側に配置されているマークZa2、Zb2は、例えばX軸方向にδだけディスクに偏心等の位置ずれが生ずると、マークZa2、Zb1は偏心していないときの原点信号に比べて、回転角に対してδだけ進んで出力され、一方でマークZa1、Zb2は同様に遅れて出力される。 - 特許庁

(1) The provisions of Part X of the Act and the Trade Marks (Border Enforcement Measures) Rules (R 2) shall, with the necessary modifications, apply in relation to goods which are, in relation to a protected international trade mark (Singapore), infringing goods within the meaning of section 3 of the Act.例文帳に追加

(1)商標法第X部及び商標(国境強制措置)規則(R2) の規定は,必要な変更を加えて,保護国際商標(シンガポール)に関連して商標法第3条にいう侵害にあたる商品である商品に関連して適用される。 - 特許庁

The alignment mark 33 on the cell side consists of two separation marks 331, 332 which are provided at a fixed interval in the direction perpendicular to the alignment direction X, and aligned so that positions of both ends in the alignment direction X may become the same position.例文帳に追加

セル側アライメントマーク33は、配列方向Xに対して垂直な方向に一定の間隔をあけて設けられると共に、配列方向Xの両端部の位置が同一の位置となるように揃えられた2つの分離マーク331、332からなる。 - 特許庁

A mask mark M (MX, MY) on the mask and a pallet mark MP (MPX, MPY) on the wafer pallet are simultaneously imaged with the microscope imaging apparatus including two pairs of focusing optical systems from the direction orthogonal to the mask and wafer surface to measure two-dimensional position displacement between these marks.例文帳に追加

マスク及びウエハの面と直交する方向からマスク上のマスクマークM(M_X 、M_Y )とウエハパレット上のパレットマークMP(MP_X 、MP_Y)とを2組の結像光学系を有する顕微鏡撮像装置によって同時に撮像し、これらのマーク間の二次元の位置ずれ量を測定する。 - 特許庁

To machine free curves with high accuracy and high quality without causing control axes for movement on X-Y coordinates to alternately move and stop or generating joint marks on a machined surface.例文帳に追加

X−Y座標移動用の制御軸の動作、停止が交互に起きることがなく、加工面に継ぎ目マークが付つくこともなく、高精度、高品質の自由曲線加工を行えるようにすること。 - 特許庁

The first mark is formed by arranging a plurality of slender X measurement marks (X1 to X4) so that the longitudinal direction orthogonally crosses the scribe line.例文帳に追加

第1マークは、細長い形状の複数のX計測マーク(X1〜X4)が、その長手方向がスクライブラインと直交するように並べられて形成される。 - 特許庁

A board stage 4a is fixed on an X-axis slider of this device, and a plurality of recognition marks 15 related to the arrangement of cutting clearance grooves 6a are provided on the upper surface.例文帳に追加

装置のX軸スライダーには、基板ステージ4aが固定されており、その上面には、切断逃げ溝6aの配置と関連付けられた複数の認識マーク15が設けられている。 - 特許庁

Places where check boxes 106 for selecting dates being under respective dates on calendars 101, 102 displayed on a display screen became X marks become dates which are selected by a user.例文帳に追加

表示画面上に表示されたカレンダ101、102上の各日付の下にある日付選択のためのチェックボックス206がX印になっているところが、ユーザの選択している日付になる。 - 特許庁

Marks are detected at each position in the positive/negative directions of the X axis and in the positive/negative directions of a Y axis from the light axis, thus determining the rotation, magnification, and orthogonal error of the reticle fiducial mark 51.例文帳に追加

光軸上からX軸の正・負方向及びY軸の正・負方向の各位置においてマーク検出を行うことにより、レチクルフィジシャルマーク51の回転・倍率・直交誤差を知ることができる。 - 特許庁

By picking up the images of such marks projecting them on an X axis and taking positional cross- correlation of the patterns obtained as a result with each other, the displacement of the first layer and the second layer is detected.例文帳に追加

このようなマークを撮像し、X軸に投影し、その結果得られたパターン同士の位置的な相互相関をとることにより、第1の層と第2の層の位置ずれが検出できる。 - 特許庁

At least several of a plurality of X-ray images acquired continuously in a time series are displayed and an interface is presented to enable the indication of marks showing the points of attention in the images (step S201).例文帳に追加

時系列的に連続して取得された複数のX線画像の少なくともいくつかの画像を表示し、それらの各々に着目点を示すマークを指示可能なインターフェースと呈示する(ステップS201)。 - 特許庁

(3) This frame has intersection display marks, such as "+" and "x", printed or engraved beforehand at intersections where the external grading lines are considered to intersect each other when extended inward on a resin plate on the liquid crystal monitor.例文帳に追加

(3)このフレ−ムには,液晶モニタ−上の樹脂板において,上記外付け格子線を内部方向に延長した場合,交わるであろう交差点に,「+」や「・」印の交差点表示印を予め印刷あるいは刻みこんでおく。 - 特許庁

A traffic information image display on a display means comprises a display coordinate system 31 capable of displaying the X-coordinate and Y-coordinate of the other airplane, and other airplane symbols 32a and 32b, and altitude difference marks 33a and 33b.例文帳に追加

表示手段に表示される交通情報画像は、他機のX座標およびY座標を表示することができる表示座標系31と、他機シンボル32a,32bと、高度差記号33a,33bとを含んでいる。 - 特許庁

Plural cells are set on a pattern base plate, and a thin film bearing member 3 where plural pattern thin films and alignment marks are formed is set on a x-y-0 stage 4 in each cell.例文帳に追加

パターン基板上に複数のセルを設定し、各セル内に複数のパターン薄膜、および位置合わせマークを形成した薄膜担持体3をx−y−θステージ4上にセットする。 - 特許庁

The arrow marks M1 and M2 are respectively made to point to the same direction as those of the X components and Y components of the increase/decrease chart at a position where the pointer P is displayed.例文帳に追加

矢印マークM1とM2は、それぞれポインタPが表示されている位置における増減表のX成分の向き及びY成分の向きと同じ方向を示すようにする。 - 特許庁

Matching of the cutting groove 6a to the X-axis is performed by sequentially and automatically recognizing the recognition marks 15 not by work for visually confirming the edge of the cutting clearance groove 6a.例文帳に追加

切断逃げ溝6aをX軸に合わせ込むのは、切断逃げ溝6aのエッジを目視確認しながらの作業ではなく、認識し易い認識マーク15を順次自動で認識し、それを基準にして行なう。 - 特許庁

In step S_2, the positions of alignment marks of a target layer X_n (1≤n≤M) and an alignment layer Y_n are measured, by using the superposition measuring instrument to obtain measured data A_n.例文帳に追加

S_2 で重ねあわせ測定器を使ってターゲット層X_n (1≦n≦M)及びアライメント層Y_n のアライメント・マークの位置を測定して測定データA_n とする。 - 特許庁

The arrow marks M1 and M2 are made to point to the same direction as the directions of the X component and the Y component of the increase/decrease chart at positions where the pointers P are displayed, respectively.例文帳に追加

矢印マークM1とM2は、それぞれポインタPが表示されている位置における増減表のX成分の向き及びY成分の向きと同じ方向を示すようにする。 - 特許庁

By inputting symbol marks of each device on the symbol mark input screen 32 and defining name of data and so on of each device on the device definition screen 33, and specifying input point on the schematic connection diagram data input screen 31, the symbol marks of each device and their data names are input on the specified X-Y coordinate on the schematic connection diagram data input screen 31.例文帳に追加

また、CRT上に表示されたシンボルマーク入力画面32で各機器のシンボルマークを入力し、機器定義画面33で各機器のデータ名等を定義し、配線略図データ入力画面31上の入力点を指定することにより、各機器のシンボルマーク及びそのデータ名を配線略図データ入力画面31上の指定したX−Y座標上に入力する。 - 特許庁

Regarding the second and subsequent liquid crystal panels of the same specification, they are temporarily positioned based on the two alignment marks 56, 58, a predetermined deviation Δx is obtained with respect to the third alignment mark 62, and then they are shifted by half in the X direction.例文帳に追加

同一仕様の2枚目以降の液晶パネルについては,二つのアライメントマーク56,58に基づいて液晶パネルを仮に位置決めしてから,第3アライメントマーク62に関して所定の偏差Δxを求めて,その半分だけ液晶パネルをX方向にシフトする。 - 特許庁

To provide a chip-on film that can improve an accuracy and reduce the time for alignment by refining alignment marks so that position deviations in the X and Y directions can be immediately determined and corrected in a short time.例文帳に追加

X方向の位置ズレやY方向の位置ズレを直ちに判別して短時間で正確に修正できるようにアライメントマークを改良し、アライメント作業の精度向上と時間短縮を図ることができるチップオンフィルムを提供する。 - 特許庁

When a user sets the marks at desired positions in a plurality of frame images through the interface, a curved surface containing the points of attention set is generated in a 3D space in which a plurality of X-ray images are arranged in the direction of the time axis (step S202).例文帳に追加

このインターフェースを介して、ユーザが複数のフレーム画像の所望の位置にマークを設定すると、複数のX線画像が時間軸方向に並べられた3次元空間において上記設定された着目点を含む曲面が生成される(ステップS202)。 - 特許庁

On and after a second liquid crystal panel of the same specification, after the liquid crystal panel is temporarily positioned on the basis of two alignment marks 56 and 58, a prescribed deviation Δx is found concerning a third alignment mark 62 to shift the liquid crystal panel only by its half in an X direction.例文帳に追加

同一仕様の2枚目以降の液晶パネルについては,二つのアライメントマーク56,58に基づいて液晶パネルを仮に位置決めしてから,第3アライメントマーク62に関して所定の偏差Δxを求めて,その半分だけ液晶パネルをX方向にシフトする。 - 特許庁

A position measuring instrument separately and individually measures the X and Y coordinate positions of alignment marks by performing image synthesization by means of an image guide 60 and processing image signals of one screen quantity from an image pick-up element 72 by means of an image processor 80.例文帳に追加

各アライメントマークについて、イメージガイド60で画像の合成を行って、画像処理装置80において撮像素子72からの一画面分の画像信号を処理することにより、それらのXY座標をそれぞれ分離して個別に計測する。 - 特許庁

例文

A tilt quantity (θz) of the CCD camera 26 in the optical axis rotational direction can be calculated from θz=tan-1((By-Ay)/(Bx-Ax)), where (Ax, Ay) and (Bx, By) are X coordinates and Y coordinates of A and B as calibration reference marks 77 within the camera visual field 26G.例文帳に追加

校正基準用マーク77のAとB、それぞれのカメラ視野26GにおけるX座標とY座標を(Ax、Ay)および(Bx、By)とすると、CCDカメラ26の光軸回転方向の傾き量(θz)は以下の式で算出できる。 - 特許庁

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