「beam pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

To improve both the plotting accuracy and throughput at the time of plotting the same pattern by performing multiplexed exposure with an electron beam.例文帳に追加

同じパターンの描画に対して電子ビームを多重露光するにあたり、描画精度の向上とスループットの向上との両立を図ること。 - 特許庁

A CPU 31 of the control device 14 calculates the laser beam cumulative calorie in a drawing area on the basis of the irradiation parameter and the pattern data.例文帳に追加

制御装置１４のＣＰＵ３１は、照射パラメータと柄データとに基づいて描画領域におけるレーザ積算熱量を算出する。 - 特許庁

An image of the trace where the laser beam 25 passes through the irradiated pattern is transferred to the sample face 103 through the projection lens 17 to fabricate.例文帳に追加

照射されたパターンのレーザービーム２５の通過した軌跡の像を投影レンズ１７を通じて試料面１０３に転写し、加工を行う。 - 特許庁

A stripe-shaped pattern from a projection device 52 is made to agree with a main beam of light LL in the center of the right half face 28R so as to be projected on a subject.例文帳に追加

投影装置５２からストライプ状のパターンを右半面２８Ｒの中心の主光線Ｌ_Lに一致させて被写体に投影する。 - 特許庁

To provide a material and method for forming conductive pattern by which a fine disconnection-free conductive pattern can be formed with high sensitivity and high resolution through exposure and, in addition, a pattern can be formed directly with an infrared laser beam based on digital data.例文帳に追加

露光により高感度でパターン形成することができ、高解像度で、断線のない微細なパターンが得られ、且つ、赤外線レーザによりデジタルデータに基づき直接パターン形成が可能な導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a makeup cosmetic, capable of sharply and clearly forming a decorating pattern, when the decorating pattern, such as a character, a figure, and a pattern, is formed on a surface of a solid cosmetic by using a laser beam, and to prepare the makeup cosmetic.例文帳に追加

本発明はレーザ光を用いて固形化粧料の表面に文字、図形、模様等（加飾模様）の加飾を行うメーキャップ化粧料の製造方法及びメーキャップ化粧料に関し、加飾模様をシャープで鮮明に形成することを課題とする。 - 特許庁

In the stencil mask for batch electron beam exposure comprising a membrane region in which a stencil pattern is formed, and a bulk region surrounding the membrane region, the shape of a pattern region in which the stencil pattern is formed is hexagonal.例文帳に追加

ステンシルパターンが形成されるメンブレン領域と、このメンブレン領域を取り囲むバルク領域とからなるステンシルマスクにおいて、ステンシルパターンが形成される領域であるパターン領域の形状が六角形であることを特徴とする電子線一括露光用ステンシルマスク。 - 特許庁

To provide a method for forming an exposure pattern capable of detecting the connection failure of an exposure pattern unique to electron beam exposure technology with high accuracy in a Die to Die defect inspection just like a pattern failure caused by a process other than an exposure process.例文帳に追加

Die to Dieの欠陥検査において、電子線露光技術特有の露光パターンの接続不良を、露光プロセス以外のプロセスに起因するパターン不良と同様に精度良く検出することができる露光パターンの形成方法及び電子線露光装置の提供。 - 特許庁

To accurately irradiate a beam with a light distribution pattern conforming to a vehicle travelling condition, by an inexpensive and compact structure, in a vehicle headlamp provided with a lamp unit for low beam irradiation.例文帳に追加

ロービーム照射用の灯具ユニットを備えた車両用前照灯において、安価でコンパクトな構成により、車両走行状況に即応した配光パターンでのビーム照射を精度良く行えるようにする。 - 特許庁

A beam splitter 111 splits the overlapped beam returned and reflected from the two structures into two partial beams 117, 119 so as to be overlapped on a line detector 129, and an interference pattern is formed.例文帳に追加

また、ビームスプリッター１１１が、２つの構造体から戻り反射された重ね合わせ部分ビームをさらに２つの部分ビーム１１７、１１９に分割し、ライン検出器１２９上に重ね合わせて、干渉パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an information recording medium master disk and a substrate which have approximate design value without causing distortion of a Gray code pattern by a shift in irradiation timing between a main exposure beam and an auxiliary exposure beam.例文帳に追加

主露光ビームと補助露光ビームの照射タイミングのズレによるグレーコードパターンの歪みが発生せず、設計値に近い情報記録媒体用原盤及び基板の製造方法を提供することである。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of outputting an image pattern for evaluation so as to detect the fine change of a beam pitch in the subscanning direction of a light beam, and an evaluation chart.例文帳に追加

本発明は、光ビームの副走査方向の微小なビームピッチの変化を検知するため評価用画像パターンを出力することが可能な画像形成装置およびその評価チャートを提供することを目的とする。 - 特許庁

Thus the main beam 115 of the directional pattern is refracted passing through the cover 116 to correct the tilt angle θ, resulting in that the beam is vertical with respect to the outer plane P3 of the cover 116.例文帳に追加

これにより、放射指向性の主ビーム１１５が誘電体カバー１１６を通過して屈折し、チルト角θが修正されて誘電体カバー１１６の外側の平面Ｐ３に対して垂直な方向になる。 - 特許庁

Pattern data in the part for performing image drawing by the variable shaping system are assigned to an electron beam image drawing device whose luminance is high, and data in the part for performing image drawing by the collective figure system are assigned to an electron beam image drawing device whose luminance is low.例文帳に追加

可変成形で描画を行う部分のパターンデータを輝度の高い電子ビーム描画装置に割り当て、一括図形方式で描画を行う部分を輝度の低い電子ビーム描画装置に割り当てる。 - 特許庁

The off-control light L5 going downward (or upward) with respect to a low beam can be overlapped on a light distribution pattern LP for a dipped beam and radiated to a road surface or the like by an off-control light irradiation device 8.例文帳に追加

ＯＦＦ制御光照射装置８により、ロービームに対して下（または上）に出射するＯＦＦ制御光Ｌ５をすれ違い用の配光パターンＬＰに重ね合わせて路面などに照射することができる。 - 特許庁

To provide a device for setting laser beam machining data with which a working pattern for forming a working line or a working face having a wider width than the width of the working line by a laser beam is generated easily.例文帳に追加

レーザ光による加工線幅よりも広い幅を有する加工線又は加工面を形成するための加工パターンを容易に生成することができるレーザ加工データ設定装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

When the equipment is used, the pattern is positioned to an accurate position, and high-accuracy electron beam lithography can be performed even when the height of a sample in the image forming surface of the beam changes by preventing unnecessary deflection of electrons caused by the focal point correction.例文帳に追加

本発明によれば、焦点補正による不要な電子偏向防止されてビーム結像面である試料面の高さ変化があっても正確な位置にパターン露光され高精度の電子ビーム描画が可能となる。 - 特許庁

A light indication pattern can be clearly and visually shown to observers because the laser beam makes fallen snow or ice on a road existing in the advancing pass of the beam color even when there is fallen snow or frozen rainwater with snow on the road face.例文帳に追加

また、路面上に積雪、雨雪水の凍結等がある場合も、レーザビームが、ビーム進行経路に存在する積雪や氷を発色させるため、光表示パターンをはっきりと観察者に視認させることができる。 - 特許庁

After the heat treatment, the mask blank is conveyed into an electron beam lithography machine 102 being in a vacuum state, through a conveyance chamber 106 kept in a vacuum state, and a pattern is drawn on the mask blank in the electron beam lithography machine 102.例文帳に追加

熱処理後には、マスクブランクを真空状態に保持された搬送チャンバ１０６内を通して真空状態にある電子線描画機１０２内に搬送し、この電子線描画機１０２内でパターンを描画する。 - 特許庁

An ultrasonic wave of a beam pattern for focusing loosely the ultrasonic wave so that a focusing diameter of the ultrasonic beam becomes larger than a radius of curvature of a hook shoulder part of the blade fitting section is transmitted/received by using the phased array search probe 15.例文帳に追加

フェーズドアレイ探触子１５を用いて、翼植込み部のフック肩部の曲率半径よりも、超音波ビームの集束径が大きくなるように超音波を緩く集束するビームパターンの超音波を送受信する。 - 特許庁

To provide a method of controllably reflecting electrons from an array of electron reflectors to make electron beam projection lithography possible at low cost because of maskless processing, and a device of a dynamic pattern generation machine for reflective electron beam lithography.例文帳に追加

マスクレスのため低コストで電子ビーム投影リソグラフィを可能にする、電子反射板のアレイから制御可能に電子を反射する方法と、反射電子ビームリソグラフィのためのダイナミックパターン生成機の装置を提供する。 - 特許庁

To provide a stencil mask for batch electron beam exposure having a stencil pattern region capable of exposing to high throughput in batch electron beam exposure while reducing the loss of yield due to connection.例文帳に追加

電子線一括露光において、高スループットに露光することが可能で、かつ、つなぎによる歩留まりの低下を軽減することが可能なステンシルパターン領域を持つ、電子線一括露光用ステンシルマスクを提供すること。 - 特許庁

The device manufacturing method includes generating a first type radiation using a second-type radiation beam, monitoring the quality of the second-type radiation and projecting the radiation beam with a first-type pattern onto a substrate.例文帳に追加

デバイス製造方法は、第１タイプの放射を第２タイプの放射ビームを用いて発生することと、第２タイプの放射の品質をモニタすることと、第１タイプのパターン付き放射ビームを基板上に投影することを含む。 - 特許庁

In such a constitution, a visible beam pattern by the visible beam of the self vehicle or other vehicle is prevented from becoming hard to see for drivers of vehicles due to daylight or the like, and the visibility is improved.例文帳に追加

かかる構成においては、日中等に起因して車両の運転者が自車両または他車両の可視光ビームによる可視光パターンを視認し難いものとなることはなく、その視認性が向上する。 - 特許庁

When the wavelength of a laser beam of a wavelength variable laser is controlled (step S0), an optical system or a hologram recording medium is moved (step S1), and a state where a light beam is made incident on a wavelength control pattern is made.例文帳に追加

波長可変レーザのレーザ光の波長を制御する際（ステップＳ０）には、光学系ないしはホログラム記録媒体を移動して（ステップＳ１）、波長制御パターンに光ビームが入射される状態にする。 - 特許庁

To provide a laser beam quenching method with which the quenching in a large area is performed in a short time, and a laser beam quenching method and an apparatus with which the quenching having a complicated pattern can easily be performed.例文帳に追加

大面積の焼入れを短時間で行えるレーザ焼入れ方法を提供すること、および、複雑なパターンの焼入れを容易に行うことができるレーザ焼入れ方法およびレーザ焼入れ装置を提供すること。 - 特許庁

In the pattern exposure process, the time when the electron beam 83 passes on the exposure position reference mark 21 is detected with the electron detector and the timing for irradiating the electron beam 83 is controlled with reference to the passing time.例文帳に追加

パターン露光を行う工程において、露光位置参照マーク21上を電子ビーム83が通過する時刻を電子検出器により検出し、通過時刻を基準として電子ビーム83を照射するタイミングを制御する。 - 特許庁

A frequency recycle pattern 600 includes a cell to be covered with band width assigned to the basic communication beam and includes a cell to be covered with band width assigned to the transient communication beam as well.例文帳に追加

本方法は、実質的に重複しない周波数帯に割り当てられる、ｎ個の基本通信ビーム（３０２〜３０８）を発生するステップを含み、これら基本通信ビームは第１組の所定帯域幅全体に及ぶ。 - 特許庁

To provide a SOI substrate easily manufactured and occurrence of warpage of which is prevented, mask blanks for charged particle beam exposure employing the SOI substrate, and a mask for charged particle beam exposure wherein the positional precision of its mask pattern is high.例文帳に追加

製造が容易で基板の反りが防止されたＳＯＩ基板、そのＳＯＩ基板を用いた荷電粒子線露光用マスクブランクス、およびマスクパターンの位置精度の高い荷電粒子線露光用マスクを提供する。 - 特許庁

In the electron beam proximity exposure method, a mask 32 is disposed in proximity to a wafer 44 and a mask pattern formed on the mask 32 is transferred to a resist layer on the wafer 44 by scanning the mask 32 with an electron beam.例文帳に追加

ウエハ４４にマスク３２を近接配置し、電子ビームによってマスク３２を走査することにより該マスク３２に形成されたマスクパターンをウエハ４４上のレジスト層に転写する電子ビーム近接露光方法である。 - 特許庁

Besides, in addition to the first electron beam for forming the image for the inspection, a second charged-particle beam 104 is radiated beforehand onto the wafer 9 to be inspected to conduct the inspection after the condition of the electric potentials of the circuit pattern materials are stabilized.例文帳に追加

また、検査用画像を形成するための第一の電子線以外に第二の荷電粒子線１０４を被検査基板９に照射し、回路パターンの部材の電位状態を安定させた後に検査を実施する。 - 特許庁

The lyophilic layer 101 is provided in such a manner that the surface of the liquid-repellent layer 102 is modified to be lyophilic and then to selectively remove a part of the layer by a laser beam emitted from a laser beam source 110 into the pattern.例文帳に追加

親液性層１０１は、撥液性層１０２の表面を親液性に改質した後、その一部をレーザ光源１１０から出射されるレーザビームにより選択的に除去してパターンを形成したものである。 - 特許庁

The vehicle operation supporting system 1 comprises a beam irradiation device 5 for irradiating the road surface with a visible light beam B in a predetermined pattern, and an optical filter 13 for transmitting reflected light of the visible light beam B reflected from the road surface to the vehicle at a predetermined transmittance characteristic.例文帳に追加

車両運転支援システム１は、道路路面上に所定のパターンで可視光ビームＢを照射するビーム照射装置５と、道路路面から車両に対して反射してくる可視光ビームＢの反射光を所定の透過率特性で透過させる光学フィルタ１３と、を備えている。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system to provide the radiation beam RB, a support structure to support a patterning device functioning to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section, a substrate table to hold a substrate, and a projection system to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置が、放射ビームＲＢを供給するイルミネーションシステムと、放射ビームの断面にパターンを与えるように機能するパターニングデバイスを支持するサポート構造と、基板を保持する基板テーブルと、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁

A weight controller (WC 19-13)obtains a weight coefficient for determining a beam pattern and a transmission beam direction and obtains a transmission time slot based on a table that stores the relationship between the transmission beam direction and a time slot used for radiating in that direction.例文帳に追加

重み制御器（ＷＣ１９−１３）は、送信ビーム方向情報に基づき、ビームパタンと送信ビーム方向とを定める重み係数を求め、且つ、送信ビーム方向とその方向に放射するときに使用するタイムスロットとの関係を記憶したテーブルに基づき、送信タイムスロットを求める。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes an illumination system configured to condition the radiation beam, a support constructed to support a patterning device configured to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section, a substrate table constructed to hold a substrate, and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成するパターニングデバイスを支持する支持部と、基板を保持する基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板の目標部分に投影する投影システムと、を備える。 - 特許庁

The lithographic method includes using an illumination system to provide a radiation beam having an illumination mode, using a patterning device to impart the radiation beam with a pattern in its cross-section, and projecting the patterned radiation beam onto a plurality of substrates.例文帳に追加

リソグラフィ方法が提供され、同方法は、照明システムを使用して照明モードを有する放射ビームを供給すること、パターニングデバイスを使用して放射ビームに断面においてパターンを与えること、複数の基板上に前記パターニングされた放射ビームを投影すること、を含む。 - 特許庁

The regulation of a low beam attitude of the shade 5 in the three directions can regulate the position of the low beam attitude of the shade 5 with high precision to ensure a given low beam light distribution pattern LP with high precision, even without a request for high precision tolerance to the solenoid 6.例文帳に追加

この結果、シェード５のロービーム姿勢を３方向において規制することにより、ソレノイド６に対して高精度の公差を要求しなくとも、シェード５のロービーム姿勢を高精度に位置規制することができ、所定のすれ違い用の配光パターンＬＰが高精度に得られる。 - 特許庁

To obtain an arch-like or ring-like irradiation beam by providing a scattering device, which checks diffusion of irradiation beam to a projection system with which the pattern image of a mask in a lithography projection system is irradiated on a substrate and forming a fan-like curved line by reflecting a fine collimated incident beam.例文帳に追加

リソグラフ投影装置におけるマスクのパターンイメージを基板に照射する投影システムに照射ビームの拡散を制御する散乱装置を設けて、細いコリメート入射ビームを反射させて扇曲線形とすることにより、アーチ状あるいはリング状の照射ビームを得る。 - 特許庁

The lithography device comprises an illumination system providing a radiation beam, a support structure which supports a patterning device functioning to impart a pattern on the section of the radiation beam, a substrate table which supports a substrate, and a projection system which projects a patterned radiation beam to a target part of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、放射ビームの断面にパターンを付与するよう機能するパターニングデバイスを支持する支持構造と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与された放射ビームを基板の目標部分に投影する投影系とを備える。 - 特許庁

Lithography equipment has an illumination system for supplying beam of radiation, an array of individually controllable elements that function to give a pattern to a sectional face of the beam, a substrate table for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target part of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射線のビームを供給する照明系と、ビームの断面にパターンを与える働きをする個々に制御可能な要素の配列と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付与されたビームを基板の目標部分に投影する投影系とを有する。 - 特許庁

The transmitter, having an array antenna first uses a beam- forming network to estimate a transmission line space gain pattern, estimates the number of transmission beams and an angle of each beam, applies the beam space - time block coding processing to an input signal, and transmits the coded signal.例文帳に追加

アレイアンテナを有する送信機において、まずビームフォーミングネットワークを用いて、伝送路空間利得パターンを推定し、そして送信用ビーム数及び各ビームの角度を推定し、入力信号に対してビーム空間−時間ブロック符号化処理を行い、符号化した信号を送信する。 - 特許庁

The distortion in the image is corrected by deriving a deflecting rotational angle to the direction of observation of the charged particle beam and deforming the deflection pattern of the charged particle beam when the deflecting direction of the charged particle beam and the inclined axis of the sample are not in parallel.例文帳に追加

本発明では、荷電粒子ビームの偏向方向と試料の傾斜軸が平行となっていない場合に、荷電粒子ビームの観察方向に対する偏向回転角を求め、荷電粒子ビームの偏向パターンを変形することにより、画像の歪みを補正することに関する。 - 特許庁

The beam strength distribution of an irradiation pattern of the laser beam L to be irradiated on the overlapped plated steel sheets 1, 2 by cutting the center of the convex side of a condensing lens 15 inside a laser torch 10 concavely is set so that beam strength is made higher in the peripheral part than in the central part.例文帳に追加

レーザトーチ１０内の集光レンズ１５の凸面側中央を凹面状にカットして、重ね合せためっき鋼板１、２上に照射されるレーザビームＬの照射パターンのビーム強度分布を、中心部より周辺部の方でビーム強度が高くなるように設定する。 - 特許庁

The rotating reflector 26 emits the visible light from the LED units 154a, 154b as an irradiating beam by the rotational operation thereof, and forms a first light distribution pattern by making the irradiating beam scan and emits the infrared light from the infrared light unit 154c as an irradiating beam, and also forms a second light distribution pattern by making the irradiating beam scan.例文帳に追加

回転リフレクタ２６は、その回転動作により、ＬＥＤユニット１５４ａ，１５４ｂからの可視光を照射ビームとして出射するものであり、かつ、該照射ビームを走査せしめることによって第１の配光パターンを形成するとともに、赤外光ユニット１５４ｃからの赤外光を照射ビームとして出射するものであり、かつ、該照射ビームを走査せしめることによって第２の配光パターンを形成する、ように構成されている。 - 特許庁