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buffer elementの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 567件
The device consists of a buffer 20 which outputs clock signals inputted from a PC 12, a band pass filter circuit 22 which is composed of R, L and C elements, a rectifying circuit 24 which coverts selected signals into d.c., a comparator 26 which outputs the signals converted into d.c. to a timing controller 16 and executes resetting, and a logical arithmetic element 28.例文帳に追加
PC12から入力されたクロック信号を出力するバッファ20と、R、L、Cの各素子で構成するバンドパスフィルタ回路22と、この選択された信号を直流に変換する整流回路24と、直流に変換された信号をタイミングコントローラ16に出力してリセットを行うコンパレータ26、論理演算素子28とよりなるものである。 - 特許庁
The EL element comprises a thick film dielectric layer 3 formed by a powder calcination method, a thin film dielectric layer 6, a phosphor thin layer 5 interposed between the dielectric layers 3, 6, and a buffer layer 7 made of zinc oxide (ZnO) as a main component interposed between the thin film dielectric layer 6 and a transparent electrode 8.例文帳に追加
粉体焼成法により形成された厚膜誘電体層3と、薄膜誘電体層6と、これらの誘電体層3,6間に蛍光体薄膜5を有するEL素子であって、前記薄膜誘電体6と透明電極8の間に酸化亜鉛(ZnO)を主成分とするバッファ層7を有する構成のEL素子およびその製造方法とした。 - 特許庁
To minimize deterioration of characteristics of an element by preventing an increase of resistance of a bit line and a storing electrode by lowering a deposition temperature of a buffer oxide film formed before deposition process of a nitride film for a gate spacer and by preventing out-diffusion of impurities implanted to a source/drain region.例文帳に追加
ゲートスペーサ用窒化膜の蒸着工程の前に形成する緩衝酸化膜の蒸着温度を低め、ソース/ドレイン領域に注入された不純物のアウト・ディヒュージョンを防ぐことにより、ビットラインと貯蔵電極のコンタクト抵抗の増加を防いで素子の特性の劣化を最小化させ、素子の特性及び信頼性を向上させること。 - 特許庁
The organic light emitting element includes an anode 2, a cathode 3 facing the anode, an organic light emitting layer interposed between the anode and the cathode, an electron transport layer containing an alkali metal compound or alkali earth metal compound interposed between the organic light emitting layer and the cathode, and a buffer layer interposed between the organic light emitting layer and the electron transport layer.例文帳に追加
アノード電極と、アノード電極と対向するカソード電極と、アノード電極とカソード電極との間に介在された有機発光層と、有機発光層とカソード電極との間に介在されたアルカリ金属化合物またはアルカリ土類金属化合物を含有する電子輸送層と、有機発光層と電子輸送層との間に介在されたバッファ層とを備える有機発光素子を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a group III nitride semiconductor light emitting element excellent in both productivity and light emitting property by a method of forming a uniform crystal film on a substrate in a short time period to grow a group III nitride semiconductor excellent in crystallinity with a high crystal density on an intermediate layer as a buffer layer or the like.例文帳に追加
基板上に、均一性の良い結晶膜を短時間で成膜することが可能な方法で、バッファ層のような中間層上に結晶性及び結晶の稠密性がともに良好なIII族窒化物半導体を成長させることができ、生産性に優れるとともに、優れた発光特性を備えたIII族窒化物半導体発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
A CPU 11 compares a disconnection position detected by the disconnection checking circuit 20 with a predetermined printing area in print data, and if a printing position by the heating element at the disconnection position is determined to overlap with the printing area, printing is performed from, e.g., a reverse direction (from the underside of the printing layout), for the print data expanded into the print buffer of a RAM 13.例文帳に追加
CPU11は、断線チェック回路20によって検出された断線位置と印刷データにおける所定の印刷エリアとを比較し、断線位置の発熱体による印刷位置と印刷エリアとが重なると判定された場合に、RAM13の印刷バッファに展開された印刷データに対して、例えば逆方向で(印刷レイアウトの下側から)印刷する。 - 特許庁
At least one two-input buffer for inputting a clock signal and the output signal of a gating circuit is inserted on the post-stage of the gating circuit directly driving an element to supply a clock and by connecting a fixed value signal to a terminal, to which the clock signal is directly connected, inside the gating circuit, to which the clock signal is directly connected, logically equivalent conversion is performed.例文帳に追加
被クロック供給素子を直接駆動しているゲーティング回路の後段に、クロック信号とゲーティング回路の出力信号を入力とする二入力バッファーを少なくとも1個以上挿入し、クロック信号が直接接続されているゲーティング回路の中でクロック信号が直接接続されていた端子に固定値信号を接続することで、論理的に等価な変換を行う。 - 特許庁
The element for optical modulation has a metal thin film or metal microstructure exciting a surface plasmon, a dielectric thin film which selects an optical frequency coupled to the surface plasmon, and a micropulse light source having a frequency spread in a region where near field light leaks, and is characterized in using buffer effect of the surface plasmon on the interface between metal and a dielectric.例文帳に追加
本光変調素子は、表面プラズモンを励起する金属薄膜または金属微細構造体と、表面プラズモンと結合する光周波数を選択する誘電体薄膜と、周波数広がりをもった微小パルス光源を近接場光のしみ出す領域に有し、金属と誘電体の界面における表面プラズモンの緩衝効果を利用することを特徴としている。 - 特許庁
Signal voltages Vsp, Vsn from a signal line driving circuit 3 are applied via an active element, such as a TFT, onto a display electrode on a matrix substrate 11, and a common voltage Vcom common to each display cell 13 is applied via a buffer circuit 4 to a counter electrode on a counter substrate 12, thereby applying a driving voltage to the liquid crystal in the liquid crystal display 13.例文帳に追加
TFTなどのアクティブ素子を介して信号線駆動回路3からの信号電圧Vsp・Vsnをマトリクス基板11上の表示電極に印加するとともに、各表示セル13に共通の共通電圧Vcom をバッファ回路4を介して対向基板12上の対向電極に印加することで、表示セル13における液晶に駆動電圧を印加する。 - 特許庁
Storage means 2-1 to 2-n preserve instruction fetch information composed of an issue interval between instruction fetch timing, which is sampled by trace driven simulators 1-1 to 1-n corresponding to respective element processors, on the assumption of complete hit of an instruction cache and issue timing of a preceding instruction, which occupies an instruction buffer entry to store a fetched instruction, and a fetch address.例文帳に追加
各単体プロセッサに対応するトレースドリブンシミュレータ1−1〜1−nで採取した、命令キャッシュが完全にヒットすると仮定したときの命令フェッチタイミングと、フェッチした命令が格納されるべき命令バッファエントリを占有していた先行命令の発行タイミングとの発行間隔、及びフェッチアドレスからなる命令フェッチ情報を記憶手段2−1〜2−nに保存する。 - 特許庁
An organic EL element 1 includes: a paired light transparent electrode 12 for making visible light transmit; a reflective electrode 15 for reflecting visible light; a light-emitting layer 13 formed between the light transparent electrode 12 and the reflective electrode 15; and a buffer layer 14 formed between the light transparent electrode 12 and the light-emitting layer 13 or between the reflective electrode 15 and the light-emitting layer 13.例文帳に追加
有機EL素子1は、対をなす、可視光を透過させる透過電極12、及び可視光を反射する反射電極15と、透過電極12と反射電極15との間に設けられた発光層13と、透過電極12と発光層13との間、又は反射電極15と発光層13との間に設けられたバッファ層14とを有する。 - 特許庁
Only a trailing edge is delayed only by two delay buffer steps from each input signal by supplying an OR output between a chip specification signal and a write display signal to the circuit 1, a glitch is removed by generating an OR output between an output of an address decoder 3 and an output signal from the OR gate 203 and the OR output is supplied to the write/read control terminal of the storage element 4.例文帳に追加
そして、チップ指定信号と書き込み表示信号との論理和出力をライトパルス生成回路1に供給することで立ち下がりエッジのみ各入力信号よりディレイバッファ2段分だけ遅延させると共に、アドレスデコーダ3の出力とORゲート203の出力信号との論理和出力を生成することで、グリッジを除去し、この出力を記憶素子4の書き込み/読み出し制御端子に供給する。 - 特許庁
The method includes the steps of: triggering a buffer status report (BSR) which is a regular BSR and a power headroom report (PHR); and allocating resources on the uplink transmission resource when having uplink resource allocated for new transmission, wherein resource allocation priority of a medium access control (MAC) element of the BSR is higher than that of the PHR.例文帳に追加
方法は、レギュラーBSR(バッファ状態報告)であるBSRとPHR(電力ヘッドルーム報告)をトリガーする段階と、新規送信のために割り当てられたアップリンク伝送リソースを取得したときに、当該アップリンク伝送リソースに対してリソース割当を行い、BSRのMAC(媒体アクセス制御)制御要素のリソース割当優先順位をPHRのMAC制御要素のリソース割当優先順位より高くする段階とを含む。 - 特許庁
With the thin film EL element which has at least a laminated structure with a light-emitting layer and transparent electrode layer after an electrode layer having a pattern is formed on a substrate having electric insulation and then, a dielectric layer is formed into a multi-layer state by repeating a solution-coating burning method, a buffer layer is placed between the multi- layer dielectric layer and the electrode layer.例文帳に追加
電気絶縁性を有する基板上にパターンを有する電極層が形成され、さらに誘電体層が溶液塗布焼成法を複数回繰り返すことにより多層状に形成された後、発光層及び透明電極層が積層された構造を少なくとも有する薄膜EL素子であって、前記多層状誘電体層と前記電極層との間にバッファ層を備えた構造とする。 - 特許庁
One electrode is provided on a group III-V compound semiconductor-made buffer layer containing boron(B) and phosphorus(P) or arsenic(As) having a smaller forbidden band width than a lower clad layer, and another electrode is provided on a group III nitride semiconductor layer to obtain a group III nitride semiconductor light emitting element having a high light emission intensity and electrodes displaying good Ohmic characteristics.例文帳に追加
一方の電極を下部クラッド層よりも禁止帯幅を小とする硼素(B)とリン(P)または砒素(As)とを含むIII−V族化合物半導体から構成される緩衝層上に設け、他方の電極をIII族窒化物半導体層上に設けることにより、良好なオーミック特性を発揮する電極を備えた高発光強度のIII族窒化物半導体発光素子を得る。 - 特許庁
A method for manufacturing a photoelectric converter includes the steps of directly dissolving chalcogen elemental substance and metal in a mixed solvent including an organic compound containing a chalcogen element and a Lewis base organic solvent to prepare a material solution, applying the material solution onto a light absorbing layer 3 consisting of a first semiconductor to form a film, and heating up the film to form a buffer layer 4 consisting of a second semiconductor including a chalcogen compound semiconductor.例文帳に追加
含カルコゲン元素含有有機化合物とルイス塩基性有機溶剤とを含む混合溶媒に、カルコゲン元素の単体および金属を直接溶解させることにより、原料溶液を作製する工程と、第1の半導体から成る光吸収層3上に前記原料溶液を塗布して被膜を形成する工程と、前記被膜を加熱してカルコゲン化合物半導体を含む第2の半導体から成るバッファ層4を形成する工程と、を具備する。 - 特許庁
The light-emitting element 100 includes a pair of electrodes 2 and 7, a light-emitting layer 5 provided between the pair of electrodes 2 and 7 and having a donor-acceptor pair light emitting function, a buffer layer 4 and a carrier injection layer 3 containing a p-type semiconductor in this order.例文帳に追加
一対の電極2,7と、一対の電極2,7間に配置された、ドナー・アクセプター対発光機能を有する発光層5と、バッファ層4と、p型半導体を含むキャリア注入層3と、をこの順で備える発光素子100であって、発光素子100のエネルギーバンド図において、発光層5の価電子帯頂部のエネルギーレベルをVBM_i(eV)及びキャリア注入層3の価電子帯頂部のエネルギーレベルをVBM_p(eV)としたときに、バッファ層4の価電子帯が、下記式(1)の条件を満たすエネルギーレベルVBM_b(eV)の価電子帯頂部を有することを特徴とする。 - 特許庁
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