| 例文 |
charge patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 220件
The static charge pattern-developing toner contains the charge control agent.例文帳に追加
その荷電制御剤を含有する静電荷像現像用トナー。 - 特許庁
The pattern of this shape living in eightdimensional charge space例文帳に追加
8次元チャージ空間に存在するこのパターンは - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
Next, pattern data for a charge-up countermeasure necessary for charge up is extracted from the layout pattern data (S2).例文帳に追加
次に、前記レイアウトパターンデータからチャージアップ対策に必要なチャージアップ対策用パターンデータを抽出する(S2)。 - 特許庁
A rhythm pattern DB server 112 is put in charge of downloading of the pattern data that the user selects.例文帳に追加
ユーザーが選択したパターンデータのダウンロードは、リズムパターンDBサーバー112が行う。 - 特許庁
Next, charge-up countermeasure information is extracted from the pattern data for the charge-up countermeasure (S3).例文帳に追加
次に、前記チャージアップ対策用パターンデータからチャージアップ対策情報を抽出する(S3)。 - 特許庁
A prescribed charge pattern is formed by giving deposition charge 50 to an insulative substrate 20 by a charge applying head 100 before the formation of a plotting pattern by the discharge fluid.例文帳に追加
さらに、絶縁性基板20に対し、吐出流体による描画パターン形成前に、電荷付与ヘッド100によって付着電荷50を与え、所定の電荷パターンを形成する。 - 特許庁
To provide a method for forming pattern data for lithography which forms light exposure pattern data and a charge particle drawing pattern data by separating a pattern suitable for light exposure and a pattern inadequate for the same.例文帳に追加
光露光に適したパターンと、不適切なパターンを分離して光露光パターンデータと荷電粒子描画パターンデータを生成するリソグラフィ用パターンデータ生成方法を提供すること。 - 特許庁
An alignment charge recording layer pattern is arranged on the alignment key region.例文帳に追加
前記アライメントキー領域上にアラインメント電荷記録層パターンが配置される。 - 特許庁
The control gate lower pattern is formed on the charge retention layer 9.例文帳に追加
制御ゲート下層パターン11は、電荷保持層9上に形成されている。 - 特許庁
DEVELOPER FOR ELECTROSTATIC CHARGE PATTERN DEVELOPMENT, IMAGE FORMING APPARATUS, AND IMAGE FORMING METHOD例文帳に追加
静電荷像現像用現像剤、画像形成装置及び画像形成方法 - 特許庁
It is arranged such that a cell charge recording layer pattern crosses the cell active region.例文帳に追加
セル電荷記録層パターンが前記セル活性領域を横切るように配置される。 - 特許庁
Two front-stag MOS transistor M1, M2 for charge transmission are configured in a N-channel pattern, and two rear-stage MOS transistor M3, M4 for charge transmission in a P-channel pattern.例文帳に追加
前段2つの電荷転送用MOSトランジスタM1、M2をNチャネル型で構成し、後段2つの電荷転送用MOSトランジスタM3、M4をPチャネル型で構成する。 - 特許庁
ELECTROSTATIC CHARGE IMAGE DEVELOPER AND ELECTRICALLY CONDUCTIVE WIRING PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
静電荷像現像剤及びそれを用いた導電性配線パターンの形成方法 - 特許庁
A charge transfer electrode 6 is formed by performing etching through the mask pattern 7.例文帳に追加
マスクパターン7を介したエッチングを行って、電荷転送電極6を形成する。 - 特許庁
The relation of an inspection condition with pattern data and charge voltage is preliminarily stored.例文帳に追加
検査条件とパターン情報、帯電電圧との関連を予め記憶させておく。 - 特許庁
A cell gate pattern in which a charge storing layer is installed is arranged in the cell region, and a high voltage type gate pattern a low voltage type gate pattern and a resistance pattern are arranged in the peripheral region.例文帳に追加
セル領域に電荷貯蔵層が備えられたセルゲートパターンが配置され、周辺領域に高電圧型ゲートパターン、低電圧型ゲートパターン及び抵抗パターンが配置される。 - 特許庁
To enable the extraction of charge-up countermeasure information from layout pattern data in a short period of time.例文帳に追加
レイアウトパターンデータからチャージアップ対策情報を短時間で抽出できるようにする。 - 特許庁
To prevent a short circuit with metal lines which ought not be connected by constituting a dummy pattern in a position proximate to the outline of the pattern of the wiring concentrated with a charge and inducing a charge damage by a a charge difference with the adjacent metal lines to the dummy pattern.例文帳に追加
本発明は、チャージが集中する配線のパターン外廓と近接された位置でダミーパターンを構成して隣接されたメタルラインとのチャージディファレンスによるチャージダメージをダミーパターンへ誘導することによって連結してはならないメタルラインとの短絡を防止する。 - 特許庁
First, a silicon oxide film pattern and a silicon nitride film pattern are formed on a semiconductor substrate as a tunneling layer and on the charge trapping layer.例文帳に追加
まず、半導体基板上にトンネリング層及び電荷トラップ層としてのシリコン酸化膜−シリコン窒化膜パターンを形成する。 - 特許庁
The pattern-forming material is discharged in a charged state, but the charge is removed by the ions and deformation, and discharging abnormalities or the like of the pattern-forming material due to static charge is suppressed.例文帳に追加
パターン形成材料は帯電した状態にて吐出されるが、イオンにより電荷が除去され、静電気によるパターン形成材料の変形や吐出異常等の発生が抑制される。 - 特許庁
To efficiently suppress charge-up of an isolated pattern without damaging the pattern in photomask defect correction using charged particle beam.例文帳に追加
荷電粒子ビームを用いたフォトマスク欠陥修正において、孤立パターンのチャージアップを、パターンを傷つけることなく、効率よく抑止する。 - 特許庁
The discharged electric charge is discharged through a copper foil pattern 3-2 to a screw 6 to a main chassis 4 (grounding potential).例文帳に追加
放電された電荷は銅箔パターン3−2→ビス6→メインシャーシ4(接地電位)と放電される。 - 特許庁
The analysis result information on the business pattern is presented to a person in charge of analysis.例文帳に追加
そして、その業務パターンに関する分析結果情報などが分析担当者に提示される。 - 特許庁
ELECTROSTATIC CHARGE IMAGE DEVELOPING ENCAPSULATED PARTICLE AND CONDUCTIVE WIRING PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
静電荷像現像用カプセル化粒子及びそれを用いた導電性配線パターン形成方法 - 特許庁
The MCU controls the charge and discharge of the battery voltage, generates charge and discharge pulse pattern waveforms of the battery voltage, measures the voltage value of at least one pulse pattern in the pulse pattern waveforms, and sets an averaged result of voltage values in an OCV.例文帳に追加
MCUはバッテリー電圧の充電および放電を制御して、バッテリー電圧の充放電パルスパターン波形を生成して、パルスパターン波形で少なくともひとつのパルスパターンの電圧値を測定して、電圧値を平均した結果をOCVに設定する。 - 特許庁
The charge and discharge section performs charge and discharge to the capacitive load so that the potential of the capacitive load changes according to a potential change pattern of an analog signal.例文帳に追加
充放電部は、容量性負荷の電位がアナログ信号の電位変化パターンに倣って変化するように容量性負荷に対する充放電を行う。 - 特許庁
A lower insulation film pattern 112 thicker than the tunnel insulation film pattern 116 is arranged on the semiconductor substrate on the side face of the tunnel insulation film pattern 116 while being covered with the charge storage film.例文帳に追加
トンネル絶縁膜パターン116の側面の半導体基板上には、電荷貯蔵膜により覆われ、トンネル絶縁膜パターン116よりも厚い下部絶縁膜パターン112が配置される。 - 特許庁
To reduce poor charge failure of a pattern and suppress lowering of throughput in imprint lithography.例文帳に追加
インプリントリソグラフィにおいて、パターンの充填不良欠陥を減少させ、かつ、スループットの低下を抑制する。 - 特許庁
To provide a technology capable of processing charge settlement in a period, corresponding to a service providing pattern.例文帳に追加
サービスの提供形態に応じた周期で課金決済処理を行うことが可能な技術を提供する。 - 特許庁
A charge phrase showing a charge content of result data of reexamination charge is retrieved with a receipt code keyword including a medicine name or diagnostic action name and a phrase keyword contained in the charge phrase, and forms a receipt extraction rule from a combination pattern thereof.例文帳に追加
再審査請求の実績データの請求内容を示す請求文言を、医薬品名や診療行為名を含むレセプトコードキーワードと請求文言に含まれる文言キーワードで検索し、その組合せパターンからレセプト抽出ルールを作成する。 - 特許庁
The person in charge of the design performs design of an arrangement pattern of an arranged object which is arranged at an arranging object as referring to the reference arrangement pattern.例文帳に追加
設計担当者は、基準配置パターンを参考にしながら配置対象物に配置する被配置物の配置パターンの設計を行うことができる。 - 特許庁
In the semiconductor integrated circuit, a transmitted pulse, having an impulse waveform is generated by a pull-up current I_PU and a pull-down current I_PD of a charge pump ChPump1... in pattern-generating cells of a pattern generator.例文帳に追加
インパルス波形の送信パルスは、パターン発生器のパターン発生セルのチャージポンプChPump1…のプルアップ電流I_PUとプルダウン電流I_PDとにより生成される。 - 特許庁
An image sensor controlling part makes an image sensor read each end part 71a of each line pattern 71 at a charge storage time T2 and a partial pattern 71b except each end part 71a at a charge storage time T1.例文帳に追加
画像センサ制御部は、画像センサに、電荷蓄積時間T2において各ラインパターン71の各端部71aを、電荷蓄積時間T1において各端部71aを除く部分パターン71bをそれぞれ読み取らせる。 - 特許庁
The pattern forming device 1 is provided with a stage 3 for holding a substrate 9, a discharging part 42 for discharging a pattern-forming material toward the substrate 9, an ionizer 45 for imparting ions to the discharged pattern-forming material, and a charge measurement part 46 for measuring charge volume of the pattern-forming material on the substrate 9.例文帳に追加
パターン形成装置1は、基板9を保持するステージ3、基板9に向けてパターン形成材料を吐出する吐出部42、吐出されたパターン形成材料にイオンを付与するイオナイザ45、および、基板9上のパターン形成材料の帯電量を測定する電荷測定部46を備える。 - 特許庁
The static charge and deformation preventing projecting parts 32 are higher than the optical pattern 33 and act as sticking points to a protection film.例文帳に追加
帯電・変形防止凸部32は光学パターン33より高く、保護フィルムとの密着点として作用する。 - 特許庁
The sales proceeds depositing machine is comprised of charge storages sectioned for each money exchange pattern installed at a lower cabinet space.例文帳に追加
売上金入金機の下段の保管庫スペースに両替パターン別に区切られた両替金保管庫を設ける。 - 特許庁
To monitor the charge-up time on an actual pattern, in real time, and to measure a wafer internal surface distribution of a self-match bias.例文帳に追加
実パターン上のチャージアップをリアルタイムに測定し、更に、自己整合バイアスのウェハ内面分布を測定する。 - 特許庁
To quickly discharge to a substrate positive and negative charge charged to a dummy pattern for CMP.例文帳に追加
CMP用ダミーパターンにチャージした正の電荷と負の電荷の双方を、速やかに基板に放電できるようにする。 - 特許庁
To heighten the coating deposition efficiency by reliably making a coating particle bear electric charge even if the width direction of a spray pattern is changed.例文帳に追加
スプレーパターンの幅寸法が変化したときでも確実に塗料粒子を帯電させ、塗着効率を高める。 - 特許庁
In this process, electrostatic charge that allows the pattern image to attach on the intermediate transfer belt 121 is removed using a detaching charger 161, before cleaning the pattern image.例文帳に追加
ここで、パターン画像がクリーニングされる前に、中間転写ベルト121上にパターン画像を静電吸着させている電荷を、分離チャージャ161により除去する。 - 特許庁
These extension pattern parts 31b are formed so as to be opposed to destabilization branching parts 41 of a conductor pattern for removing charge 40 outside the panel planning area 30A.例文帳に追加
この延長パターン部31bはパネル予定領域30Aの外側において除電用の導体パターン40の除電分岐部41と対向するように形成されている。 - 特許庁
To enable a highly accurate and high quality defect correction of an isolated fine pattern and an OPC pattern which is hardly observed by an ion beam defect correcting device because of charge-up.例文帳に追加
チャージアップのためにイオンビーム欠陥修正装置で観察しにくい微細化な孤立したパターンやOPCパターンの高精度かつ高品位な欠陥修正を可能にする。 - 特許庁
To provide an electric charge donor which enables a pattern in microstructure to be formed on a semiconductor surface through a simple process and a fine pattern forming body.例文帳に追加
本発明は、半導体表面に簡易なプロセスで、微細な構造のパターン形成が可能な電荷付与体、および微細なパターン形成体を提供することを主目的とする。 - 特許庁
To mainly provide a charge application body which enables pattern formation of a fine structure and a fine pattern molding in a semiconductor surface in a simple process.例文帳に追加
本発明は、半導体表面に簡易なプロセスで、微細な構造のパターン形成が可能な電荷付与体、および微細なパターン形成体を提供することを主目的とする。 - 特許庁
The operating pattern of the charge and discharge of the power storage system has previously been programmed and the operation of the power storage system can be controlled based on a programmed operating pattern.例文帳に追加
予め電力貯蔵システムの充電、放電の運転パターンをプログラム化し、そのプログラム化した運転パターンに基づいて電力貯蔵システムの運転を制御する。 - 特許庁
Consequently, the efficiency regarding the design of the arrangement pattern is enhanced, the labor of the person in charge of the design is relieved and determination of the arrangement pattern is assisted.例文帳に追加
したがって配置パターン設計にかかる効率を向上し、設計担当者の手間を低減させることができ、配置パターンの決定を支援することができる。 - 特許庁
A method for manufacturing the semiconductor integrated circuit comprises the steps of discharging a charge 9 stored on a barrier metal 8 to a silicon substrate 1 through a dummy pattern 120.例文帳に追加
バリアメタル8上に蓄積される電荷9を、ダミーパターン120を通してシリコン基板1へ放出する。 - 特許庁
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