「damage process」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an organic electroluminescent element capable of preventing the element from damage caused by the irradiation of an ultraviolet ray during a manufacturing process.例文帳に追加

製造工程における紫外線による素子の損傷を防止することができる有機電界発光素子を提供する。 - 特許庁

To prevent thermal damage of filter base material and improve fuel economy by reducing a fuel use quantity during a forcible regeneration process.例文帳に追加

フィルタ基材の熱損傷を防止するとともに、強制再生処理時の燃料使用量を低減し燃費を向上させる。 - 特許庁

In the thin film formation method for forming a thin film in a surface of a processing object S by sputtering, a prevention film formation process for forming a charging damage prevention film 80 for preventing charging damage in the surface of the processing object by sputtering is carried out as a preceding process of a thin film formation process for forming a thin film 82.例文帳に追加

被処理体Ｓの表面にスパッタリングにより薄膜を形成する薄膜形成方法において、前記薄膜８２を形成する薄膜形成工程の前工程として、前記被処理体の表面にチャージングダメージを防止するためのチャージングダメージ防止膜８０をスパッタリングにより形成する防止膜形成工程を行う。 - 特許庁

To provide an object processing device and an object processing method which realizes a process low in cost, low in damage, and mild in environment by suppressing any damage to a substrate in peeling and cleaning processes to the minimum.例文帳に追加

剥離及び洗浄工程で基板への損傷を最小に抑え、低コストで低ダメージ、環境に優しいプロセスを実現することができる対象物処理装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

To inexpensively evaluate the damage given to a gate insulating film by charges entering contact holes or through holes due to a plasma process with high accuracy in a short time by providing a device which can detect the damage with high sensitivity.例文帳に追加

プラズマプロセスによってコンタクトホールまたはスルーホールに侵入した電荷のゲート絶縁膜に与えるダメージを高感度に検出する装置を実現し、低コストで高精度かつ短時間にダメージを評価する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of achieving ideal device characteristics by reducing plasma damage, especially plasma damage in a process after metal film formation, with simple configurations and processes.例文帳に追加

簡単な構成且つ工程で、プラズマダメージ、特に金属膜形成以降の工程におけるプラズマダメージを低減して好適なデバイス特性を実現することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a processing condition inspection method of damage recovery processing in which process recognition can be performed merely through the damage recovery processing and a change in processing conditions can be detected with high sensitivity.例文帳に追加

ダメージ回復処理単独でのプロセス確認を行うことができ、プロセス条件のずれを高感度で検出することができるダメージ回復処理の処理条件検査方法を提供すること。 - 特許庁

An element damage determination unit 13 calculates a cumulative value of a damage value using a Coffin-Manson rule for a plurality of finite elements of a continuum based on a result of a stress/distortion analyzing process, and determines whether or not the cumulative value of the damage value is equal to or exceeds a threshold.例文帳に追加

要素損傷判断部１３が、応力及びひずみの解析結果に基づいて、連続体の複数の有限要素について、コフィンマンソン則を用いて損傷値の累積値を算出し、損傷値の累積値が閾値以上であるか否かを判断する。 - 特許庁

To provide a cylinder cabinet capable of reducing a load of a damage preventive device by controlling exhaust quantity of process gas from the cylinder cabinet and reducing device cost of a process gas supplying facility and maintenance cost of the damage protective device while maintaining sufficient safety.例文帳に追加

シリンダーキャビネットからのプロセスガスの排気量を制御して除害装置の負荷を低減させることができ、十分な安全性を保ちながらプロセスガス供給設備の装置コストや除害装置の保守コストの削減を図れるシリンダーキャビネットを提供する。 - 特許庁

The removal of the damage layer 7 on the rear surface of the semiconductor substrate 1 and a process for planarizing the inner wall surface of the via hole 9 are continuously performed from the ashing process by the same device.例文帳に追加

次に、半導体基板１の裏面のダメージ層７の除去及び、ビアホール９の内壁面の平坦化工程についても、上記アッシング工程と同一装置で連続的に行う。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device from which the damage given to an element by a plasma process or doping process performed in an LDD forming step is reduced to the utmost.例文帳に追加

ＬＤＤ形成工程に於けるプラズマプロセスやドーピングプロセスが原因となり生じる素子の損傷を極力低減した半導体装置の作製方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a process restart device capable of reducing damage caused by the occurrence of a failure in a mission critical process (which is indispensable for implementing an operation).例文帳に追加

ミッションクリティカル（業務の遂行に必要不可欠）なプロセスが障害を起こした場合に、その停止による損失を少なくすることを可能とするプロセス再起動装置等を提供する。 - 特許庁

To improve wear resistance of a small-diameter member, by avoiding defect and damage of a coated hard material in an edge part due to plasma generated in a forming process of the coating hard material process, and by maintaining adhesion of a film.例文帳に追加

被覆硬質材の形成プロセスで発生するプラズマによるエッジ部での被覆硬質材の欠陥やダメージを回避し、密着性を維持し、小径部材の耐摩耗性を改善する。 - 特許庁

To provide a process for producing a flexible substrate exhibiting excellent carrying performance of a flexible substrate material while suppressing damage on the substrate material.例文帳に追加

フレキシブル基板材料の搬送性がすぐれ、基板材料に与える損傷の少ないフレキシブル基板の製造方法を提案する。 - 特許庁

To provide a magnetic recording medium which suppresses film thickness distribution of process dust and a nonmagnetic material by preventing a damage onto the side wall of a magnetic pattern.例文帳に追加

磁性パターンの側壁へのダメージを防止し、プロセスダストや非磁性体の膜厚分布の発生を抑制できる磁気記録媒体。 - 特許庁

To provide the battery charger which minimizes damage to a battery pack caused by a charging process additionally rapidly charges this battery pack.例文帳に追加

充電プロセスに起因するバッテリパックへの損傷を最小にしつつ、そのバッテリパックを急速に充電するバッテリ充電器が望まれる。 - 特許庁

To provide a method for forming an element isolation film of a semiconductor element which prevents a plasma damage W to occur in the element isolation film forming process.例文帳に追加

素子分離膜形成工程で発生するプラズマ損傷Wを防止する半導体素子の素子分離膜形成方法を提供。 - 特許庁

To provide a method of forming contact holes in a semiconductor device that can enhance process yield by preventing damage to the field oxide film.例文帳に追加

フィールド酸化膜の損傷を防止して工程収率を向上させる半導体装置のコンタクトホール形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a boron-fiber-reinforced metal-matrix composite material having superior quality, by reducing damage to be formed on a reinforcing fiber in a manufacturing process.例文帳に追加

製造過程での強化繊維のダメージを少なくし、品質の優れたボロン繊維強化金属基複合材料を提供する。 - 特許庁

To solve the problem of damage to a photoreceptor by stipulating inclination in a horizontal direction of a developing device in an attaching and detaching process of the developing device.例文帳に追加

現像装置着脱過程での現像装置水平方向の傾きを規制して、感光体を損傷の問題を解消する。 - 特許庁

To provide a plasma processing method that can fast and evenly process a single crystal AlN substrate without causing damage to its surface.例文帳に追加

単結晶ＡｌＮ基板を表面にダメージを与えることなく高速かつ均一に加工可能なプラズマ加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an image display unit with excellent yield by restraining damage to component parts in a knocking process.例文帳に追加

ノッキング工程時における構成部品の破損を抑制しつつ、優れた歩留りを有する画像表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ejector not producing damage such as a flaw in the ejection process of a resin molded product.例文帳に追加

本発明は、樹脂成形製品の取出工程において、傷等の損傷を発生させない取出機を実現することを目的とする。 - 特許庁

Thus, defect and damage of the coated hard material at the edge part due to plasma generated in the forming process of the coating hard material, is prevented.例文帳に追加

これにより被覆硬質材の形成プロセスで発生するプラズマによるエッジ部での被覆硬質材の欠陥やダメージを回避する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method which minimize the damage to a thin substrate in a process where a support body is attached to/removed from the thin substrate.例文帳に追加

薄型基板と支持体を着脱する過程で薄型基板の損傷を最小化した装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

To prevent damage to an electrolyte film as much as possible by densifying a surface with a simple structure and process.例文帳に追加

簡単な構成及び工程で、表面を緻密化させることができ、電解質膜の損傷を可及的に阻止することを可能にする。 - 特許庁

The increased thickness permits dust and the damage on a hole transporting layer to be filled in a deposition process, therefore reducing the defects of the cathode.例文帳に追加

膜厚を厚くすることでその蒸着工程においてダストやホール輸送層の傷が埋まるので、陰極の欠陥が減少する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which electrostatic discharge damage of a thin film transistor can be suppressed and reliability is enhanced, and to provide its manufacturing process.例文帳に追加

薄膜トランジスタの静電破壊を抑制することができ、信頼性を高めた半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sheet feeder which is hard to damage a sheet surface even if air is blown off to float a sheet and solve the adhesion of the sheet and then the sheet is fed to a next process.例文帳に追加

エアーを吹き付けてシートを浮揚させて密着を解いて次工程にシートを供給しても、シート表面を傷めにくい。 - 特許庁

When the hydrogen annealing treatment for recovering the process damage is performed as shown in Figure, the nitride film 28 acts as a hydrogen supply source.例文帳に追加

図４の状態で工程ダメージ回復のための水素アニール処理を行なうと、窒化膜２８が水素供給源として作用する。 - 特許庁

To suppress deterioration of ferroelectricity or of reliability by reducing damage on a ferroelectric crystalline body, during the manufacturing process of a capacitor.例文帳に追加

キャパシタの製造プロセス中における強誘電結晶体へのダメージを低減して強誘電性或いは信頼性の劣化を抑制する。 - 特許庁

To recover a process damage by a hydrogen annealing treatment when a wiring layer with a Ti layer is provided above a MOS transistor.例文帳に追加

ＭＯＳ型トランジスタの上方にＴｉ層付き配線層を設けた場合に水素アニール処理により工程ダメージの回復を図る。 - 特許庁

To reduce damage to a semiconductor substrate in a contact hole forming process by accurately detecting an etching end point of a silicon nitride film.例文帳に追加

窒化シリコン膜のエッチング終点を正確に検出して、コンタクトホール形成工程における半導体基板領域のダメージを低減する。 - 特許庁

Then, the testing method comprises a formation process for pushing the flat work 5 into the forming dice 1 by the punch 3, and a machining process for pushing a flat work 5' formed in the formation process into the ironing dice 2 by the punch 3, by using the testing apparatus, thus measuring the damage generated during the machining process.例文帳に追加

そして、上記装置を用い、板状ワーク５をパンチ３により成形ダイス１に押し込む成形工程と、成形工程で成形された板状ワーク５’をパンチ３によりしごきダイス２に押し込んでしごく加工工程と、からなり、しごき加工工程中に発生する損傷を測定する。 - 特許庁

To provide a fixing device that detects damage and a position of damage of a fixing roller itself and performs a fixing process to a recording medium according to the position and the degree of damage of the fixing roller in a fixing device of an electromagnetic induction heating system.例文帳に追加

電磁誘導加熱方式の定着装置において、定着ローラ自身の破損及び破損位置を検知することができる定着装置であって、当該定着ローラの破損位置及び程度に応じて記録媒体への定着工程を実施することが可能な定着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor-device damage evaluation method capable of statistically evaluating the damage of a constitution layer caused by etching, by a nondestructive manner with a small number of man-hours during the manufacturing process of the semiconductor device, to provide a manufacturing method for the semiconductor device, and to provide a damage evaluation apparatus for the semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造過程において、エッチングによる構成層のダメージを、非破壊に、且つ、少ない工数を以って統計的に評価することができる半導体装置の損傷評価方法および製造方法と、半導体装置の損傷評価装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the membrane electrode assembly comprises (i) a process of forming an electrolyte membrane by coating electrolyte or electrolyte solution on one of the faces of a first damage-preventing layer, and (ii) a process of bonding a second damage-preventing layer on an upper face of the electrolyte membrane.例文帳に追加

本発明の膜電極接合体の作製方法は、ｉ）第１の破損防止層の一方の面上に、電解質または電解質溶液を塗布することにより電解質膜を形成する工程と、ｉｉ）電解質膜の上面に、第２の破損防止層を接着する工程と、を備える。 - 特許庁

To provide a membrane electrode assembly having high sealability by minimizing damage of an electrolyte membrane due to expansion and contraction, and damage or detachment of each member due to heat treatment process during production, and to provide a production method therefor.例文帳に追加

膨張と収縮とによる電解質膜の破損、及び製造時の熱処理工程による各部材の破損や剥離を抑制し、シール性の高い膜電極接合体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a ceramic slurry production process which enables the production of a uniformly dispersed ceramic slurry without causing excessive damage to a ceramic powder, also to provide a ceramic green sheet production process and further to provide a multilayer ceramic electronic component manufacturing process.例文帳に追加

セラミック粉末に過度のダメージを与えることなく、均一に分散されたセラミックスラリーを製造することが可能なセラミックスラリーの製造方法、及びセラミックグリーンシートの製造方法並びに積層セラミック電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

The measurement and regulation process above is repeated, until the corresponding optical channel creates optimized performance with respect to the measured damage.例文帳に追加

この測定と調節のプロセスは、対応する光チャネルが測定されている損傷について最適化性能を生成するまで、繰り返される。 - 特許庁

The progress of the processing of the wafer of which defects have been detected (for example, a heat treatment process, such as rapid thermal anneal) is stopped to prevent damage to the wafer.例文帳に追加

欠陥が検知されたウェーハの処理（例えば、ラピッド・サーマル・アニールのような熱処理工程）の進行を停止し、ウェーハの破損を防止する。 - 特許庁

To provide a program, an information storage medium and an image generation system that can realistically represent damage to a model object by a simple process.例文帳に追加

モデルオブジェクトのダメージを簡易な処理でリアルに表現することができるプログラム、情報記憶媒体及び画像生成システムを提供すること。 - 特許庁

To provide an apparatus and method capable of simplifying a tissue slice isolating process and capable of avoiding the damage of the tissue slice.例文帳に追加

組織切片の孤立化プロセスの単純化が可能であり、更に、その際組織切片の損傷が回避可能な装置及び方法の提供。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus which allow cleaning process to be carried out without exerting damage on a pattern on a substrate.例文帳に追加

基板上のパターンにダメージを与えることなく洗浄処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a conservation method for jet pumps by which increase of fabrication process is suppressed and lowering of damage potential of jet pump beams can be attained.例文帳に追加

加工工数の増加を抑えながらジェットポンプビームの損傷ポテンシャル低減が得られるようにしたジェットポンプの保全方法を提供すること。 - 特許庁