「damage process」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an easy-opening packing bag, which can be easily opened from a desired position with fingers, prevents damage to itself in a packaging process and a distribution stage, and has excellent hygienic properties and a favorable appearance.例文帳に追加

所望の位置から手指で容易に開封することができ、包装工程や流通段階での破袋を防止するとともに、衛生性にも優れ、しかも良好な外観を有する易開封性包装袋を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that a substrate leakage current increases due to an interface level formed by plasma damage and thereby the image clarity of a CMOS image sensor declines in the case of omitting a high temperature heat treatment process.例文帳に追加

高温熱処理工程を省いた場合に、プラズマダメージによって発生した界面準位が原因で基板リーク電流が増大し、それによってＣＭＯＳイメージセンサの画像鮮明度が落ちることが課題である。 - 特許庁

To reduce the quantum of damage occurring in an image formation means arranged in the downstream of conveyance direction or in a continuous paper on which a picture is formed in an image forming process in the case of forming a picture in one side.例文帳に追加

搬送方向下流側に配置された画像形成手段または画像が形成される連続紙が、片面に画像を形成する場合の画像形成過程において受けるダメージの量を減少する。 - 特許庁

When the print size is set 4R or more or a print magnification X is set to S (e.g. 4.5 times) or more in the 135 negative film or a IX 240 type photographic film, it is decided that the damage recovery process is performed.例文帳に追加

また、１３５型のネガフイルムやＩＸ２４０型の写真フイルムで、プリントサイズが４Ｒ以上、又はプリント倍率ＸがＳ（例えば４．５倍）以上に設定されているときに、キズ消し処理を行うと判定する。 - 特許庁

In an initial drying process, the laundry is dried by defining a first drying temperature higher than a limit temperature, at which the laundry is subjected to thermal damage, as an air blowing temperature and defining a first air volume as a maximum air volume in a series of the drying operation.例文帳に追加

初期乾燥工程は、送風温度を、洗濯物が熱損傷を受ける限界温度よりも高い第１の乾燥温度とし、風量を一連の乾燥操作中での最大の第１風量として乾燥する。 - 特許庁

To provide an electro-optical apparatus having a reflection plate structure which does not receive a damage of etching in a process in which an electrode is formed in a reflection display region, a method of manufacturing the apparatus and electronic equipment.例文帳に追加

反射表示領域において、電極を形成する工程におけるエッチングにより損傷を受けない反射板構造を有する電気光学装置およびその製造方法、ならびに電子機器を提供すること。 - 特許庁

To provide a process for forming an insulating film of good film quality on a substrate to be processed while suppressing damage on the substrate to be processed or the insulating film being formed thereon.例文帳に追加

被処理基板やこの被処理基板に形成される絶縁膜に損傷が与えられるのを抑制しつつ、被処理基板に膜質の良好な絶縁膜を形成することができる絶縁膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of applying the constant and continuous tension and widthwise positioning to a following process with a simple structure not giving damage to the web material after a free tension dancer in the web material.例文帳に追加

ウエブ材料においてフリーテンションダンサーの後で、次工程に一定で連続した張力と幅方向の位置決めを付加する方法を、ウエブ材料にダメージを与えない単純な構造で提供することにある。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which is highly reliable by using a protective diode so as not to degrade the characteristic of the semiconductor device, as well as to prevent the occurrence of plasma charging damage in the plasma process of a wiring formation step.例文帳に追加

保護ダイオードにより半導体装置の特性を劣化させることなく、配線形成工程のプラズマプロセスにおいてプラズマチャージングダメージの発生を防止して、信頼性の高い半導体装置を実現できるようにする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a flash memory element which sufficiently compensates for an etching damage while preventing an occurrence of an abnormal oxidation in a metal layer, and enhances a reliability of the process and electric characteristics of the element.例文帳に追加

エッチングダメージを十分補償しながら金属層への異常酸化の発生を防止して工程の信頼性および素子の電気的特性を向上させることが可能なフラッシュメモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

By performing the charging process until the creeping discharge is terminated, the abnormality of the electrode shape can be corrected without causing damage to conductive parts 3.例文帳に追加

該帯電処理を沿面放電がなくなるまで行なうことにより、導電性部分３にダメージを与えることなく電極形状の異常を修正することができ、画像形成時における異常放電の抑制が可能となる。 - 特許庁

To provide a printed circuit board which is capable of easily reducing electrostatic damage occurring in electronic parts which are mounted on a printed circuit board, in a manufacturing process without providing an additional part or pattern.例文帳に追加

特に部品追加やパターン追加などを伴わず、簡単に、プリント配線基板に実装されている電子部品の製造過程における静電気破損を低減させることができるプリント配線基板を提供する。 - 特許庁

To realize the reduction of the cost of a raw material, the improvement of the quality of a single crystal, the reduction of the damage to a crucible, the simplification of the structure of an opening/closing mechanism, and the reduction of the time for a raw material feeding process.例文帳に追加

原料コストの低減、単結晶の品質の向上、るつぼに与えるダメージの低減、開閉機構の構造の簡易化、融液の液温の低下防止、原料供給プロセスの時間短縮を図る。 - 特許庁

To provide a high quality halftone mask which can reduce the loads of a production process with reduced cost and causes no damage to a pattern, and to provide a manufacturing method for the halftone mask and a halftone mask blank used therefor.例文帳に追加

ハーフトーンマスクにおいて製造工程の負荷を減らしてコストダウンが図れ、かつパターンにダメージがない高品質なハーフトーンマスクおよびその製造方法、さらにこれに用いるハーフトーンマスクブランクスを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a silicon wafer that simplifies the heat treatment in a device production process, eliminates the need of providing a backside damage, and improves the gettering capability of the silicon wafer, and also to provide the silicon wafer.例文帳に追加

デバイス製造工程における熱処理を簡略化させ、且つバックサイドダメージを与える必要なしで、シリコンウェーハのゲッタリング能力を向上させるシリコンウェーハの製造方法及びシリコンウェーハを提供する。 - 特許庁

When the arm part 33 is arranged in the groove part 93 of the grommet 9 in the shifting process, a protection part 34 and the filter member 87 are separatedly arranged to suppress the damage of the filter member 87.例文帳に追加

そして、ずらし工程にて、腕部３３をグロメット９の溝部９３内に配置する際、保護部３４とフィルタ部材８７を離間させて配置することで、フィルタ部材８７に破損が生じることを抑制できる。 - 特許庁

Since the upper surface of the ridge protective layer 10 is lower than the upper surface of the waveguide 11, the ridge waveguide 11 is protected against damage during fabrication process of element and chipping of crystal is reduced significantly.例文帳に追加

このリッジ保護層１０の上面の高さは、導波路１１の上面の高さよりも低いので、素子作製工程でリッジ状の導波路１１を傷つけることが無くなり、結晶カケなどが大幅に低減される。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for mounting components wherein the manufacturing efficiency can be improved and the damage to the work can be also reduced by improving the processing procedures in the mounting process.例文帳に追加

実装工程内の処理手順に改良を加えることにより、製造効率を向上させることができるとともにワークの損傷をも低減することのできる実装方法及び実装装置を提供する。 - 特許庁

To sufficiently shorten a waiting time in a post-process and to make damage or trouble hardly occur even when producing a semiconductor base material to be used for the semiconductor wafer of a large diameter.例文帳に追加

後工程における手待ち時間を十分に短縮することができると共に、大口径の半導体ウエハに使用される半導体基材を製造する場合においても破損や不具合が生じ難いものとする。 - 特許庁

To provide a constant velocity universal joint capable of efficiently using lubricating oil, having long service life, reducing damage to boot made of rubber, and further reducing manufacturing costs by simplifying a manufacturing process.例文帳に追加

潤滑油を効率よく用い、長寿命でゴム製ブーツの痛みも少ない等速自在継手とし、また製造工程をより簡単にできて生産コストの低減にも役立つ等速自在継手とすることである。 - 特許庁

To process a probe by avoiding inadvertent damage on a sample and reducing scattering and adhesion as much as possible of sputtering particles of heavy metal which are constituents of the probe and a sample stage.例文帳に追加

本発明の目的は、試料の意図しない損傷を回避し、プローブや試料ステージなどの成分である重金属のスパッタ粒子の試料への飛散や付着を極力低減して、プローブを加工することに関する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a light-emitting device wherein a damage etc. is less likely to occur at a light-emitting layer by dispensing with a process of pasting a transluscent conductive semiconductor substrate to the light-emitting although it is provided.例文帳に追加

透光性導電半導体基板を有しつつも、該基板を発光層部に貼り合せる工程が不要であり、ひいては発光層部に損傷等が発生しにくい発光素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic image forming method, an electrophotographic image forming device and a process cartridge capable of maintaining high image quality over a long term by preventing the damage of a photoreceptor due to the attachment/detachment of a transfer means.例文帳に追加

転写手段の脱着で発生する感光体の傷を防止し、長期的に高画質を維持することができる電子写真画像形成方法、電子写真画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To stabilize supporting of channel covers when only a plurality of the channel covers are arranged in many lines and are transferred to a printing process and to provide a method for printing the channel covers which hardly damage printing rolls.例文帳に追加

溝カバーだけを複数本多列に並べて印刷工程に移送させる際、溝カバーの支持を安定させるとともに、印刷ロールを損傷させにくい溝カバーの印刷方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a battery harness protection structure which does not bring about rise of assembling cost resulting from a new process and addition of new membranes and increase of noise and can effectively prevent damage of battery harness when a floor panel is deformed.例文帳に追加

新たな工程や新たな部材の付加による組立コストの上昇を招かず、ノイズも増大させないで、フロアパネル変形時のバッテリーハーネスの損傷を効果的に防止するバッテリーハーネスの保護構造を提供すること。 - 特許庁

Thereafter, a process apt to damage the center core 14 is not performed after the center core has been formed, so it is possible to form the core diameter smaller than a conventional one, and reduce the inductance.例文帳に追加

よって前記センタコア形成後に、前記センタコア１４に損傷を与え易い工程は行われず、よって前記センタコア１４のコア径を従来に比べ小さく形成でき、インダクタンスを低下させることが可能である。 - 特許庁

To provide a field emission display device and its manufacturing method for preventing increasing a resistance due to damage to a gate electrode in a manufacturing process and maintaining emission uniformity of the device in an excellent condition.例文帳に追加

製作過程でゲート電極が損傷して抵抗が上昇するのを防止し，表示装置の放出均一性を優れた状態に維持することができる電界放出表示装置，及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide the excellent electromagnetic wave shield sheet having a mesh metal thin film with strong adhesion with a base material and high process accuracy without damage and a filter for the PDP using the same.例文帳に追加

本発明は、基材との密着性が強く、加工精度が高く、かつ、損傷のないメッシュ金属薄膜を有する優れた電磁波シールドシートおよびそれを用いたＰＤＰ用フィルターを提供せんとするものである。 - 特許庁

To prevent damage of bonding between commutator segments or a commutator segment and a metal segment when fused in a disk type commutator of an outside surface bonding structure while complexity of structure and manufacturing process is restrained.例文帳に追加

構造及び製造工程の複雑化を抑止しつつ、外側面接合構造の円盤型整流子におけるフユ−ジング時の整流子片又は整流子片と金属片との接合の損傷を防止すること。 - 特許庁

To make feasible of applying the self alignment process to a gate insulating film having no damage thereto in the case of manufacturing a transistor having the gate insulating film of a high dielectric or ferroelectric in relation to the manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造方法に関し、高誘電体或いは強誘電体のゲート絶縁膜をもつトランジスタを製造する際、ゲート絶縁膜にダメージも与えずにセルフ・アライメント方法を適用できるようにする。 - 特許庁

Since the connection wiring is also housed in the recess 12, the connection wiring 11 is not damaged by the cooler during replacement of the cooler, and there is no need to carry out a wiring process to prevent its damage.例文帳に追加

また、接続配線１１も凹部１２に収納されるので、冷却器の交換時に、接続配線１１が冷却器によって傷つけられることがなく、その傷つきを防止する配線処理を行う必要もない。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer surface protection film which can be protected against damage even when the semiconductor wafer is made as thin as ≤200 μm, and to provide a production process of a semiconductor wafer employing that protection film.例文帳に追加

半導体ウェハが厚み２００μｍ以下に薄層化された場合であっても、その破損を防止し得る半導体ウェハ表面保護フィルム及び該保護フィルムを用いた半導体ウェハの保護方法を提供する。 - 特許庁

To construct an unauthorized approach prevention type computer system for preliminarily preventing any damage due to all unauthorized programs including virus by checking any unregistered program in a collation process in the preceding stage of execution.例文帳に追加

登録が行われていないプログラムは実行する前の段階で照合プロセスにより確認でき、ウィルスを含む全ての不正プログラムによる被害を事前に防止できる予防型不正進入コンピュータシステムの構築。 - 特許庁

While the relation with borrowing countries has been improving under this process, there are growing concerns over the cost implication of decentralization, and over excessive decentralization which might damage the integration of the Bank as a global institution. 例文帳に追加

この過程において、借入国との関係は改善してきている一方で、分権化に伴う費用負担や、過度の分権化により世銀がグローバルな機関としての性格を損なうおそれについて懸念も生じている。 - 財務省

To prevent the occurrence of a short circuit of electrodes in the EL element, and to improve productivity and a yield ratio, by eliminating the need for a little damage process of low-temperature as a vacuum film forming method of a metal reflective layer.例文帳に追加

ＥＬ素子において、電極の短絡を防止すると共に金属反射層の真空成膜法として低温の低ダメージプロセスの採用を不要とすることにより生産性及び歩留りの向上を図ることである。 - 特許庁

To provide a film roll supporting method and a handling method capable of precluding a damage likely generated when a taken-up film roll is handled by hand, heightening the reliability of the handling work, and enhancing the yield from the manufacturing process.例文帳に追加

巻き取られたフィルムロールを人手でハンドリングする際に損傷するのを防止し、ハンドリング作業の信頼性を高め、製造歩留まりを向上させるフィルムロールの支持方法及びハンドリング方法を提供する。 - 特許庁

When that slurry composition is employed in the polishing process of a semiconductor substrate including a metal layer, damage on the metal layer is minimized while sustaining the concentration of oxidizing agent at a constant level and more excellent polishing effect can be attained.例文帳に追加

金属層を含む半導体基板研磨工程時に前記スラリー組成物を用いると、酸化剤の濃度を一定に維持しながらも、金属層の損傷を最少化して、より優れた研磨効果を得ることができる。 - 特許庁

Based on the determined damage probability, the production decrease rate, and the restoration period, the CPU evaluates the process until the production of the production facilities 210 is restored, and displays the evaluation result as a production restoration curve (S50).例文帳に追加

そして、決定した損傷確率と生産低下率と復旧期間とに基づいて、生産施設２１０の生産が復旧するまでの過程を評価し、評価結果を生産復旧曲線として表示する（Ｓ５０）。 - 特許庁

To enable a highjack of a satellite and damage to the satellite or the like by an ill-intended third party to be eliminated without mounting a complicated process such as decrypting encrypted commands on the satellite side.例文帳に追加

衛星側に暗号化されているコマンドを復号化するような複雑な処理を実装することなく、悪意の第三者による衛星の乗っ取りや、衛星の損傷等の可能性を排除することができるようにする。 - 特許庁

In the process of forming the metal wires (13a, 13b), additives which reduce damage to the metal wires when the barrier layer 15 is formed are incorporated in the metal wires (13a, 13b).例文帳に追加

ここで、金属配線（１３ａ，１３ｂ）を形成する工程において、バリア層１５を形成するときに金属配線に与えられるダメージを低減する添加物を金属配線（１３ａ，１３ｂ）に含有させて形成する。 - 特許庁

The [Co/Ni]_x multilayer reference layer 23 is formed by a process using low power and high pressure argon gas to prevent a damage in an interface between Co and Ni and thereby to maintain the vertical magnetic anisotropy.例文帳に追加

［Ｃｏ／Ｎｉ］ｘ積層リファレンス層２３は、ＣｏとＮｉとの界面の損傷を防止し、これにより垂直磁気異方性を保つため、低いパワーと高圧のアルゴンガスとを用いたプロセスにより成膜する。 - 特許庁

When electric parts 32 and 33 are connected to a second surface 14, the base board 10 is supported by the support board 20, so the electric parts 31 and 32 that are connected to the first surface 13 do not contact a process stage 51, suffering no damage.例文帳に追加

第二面１４に電気部品３２、３３を接続するときには、支持基板２０でベース基板１０が支持され、第一面１３に接続された電気部品３１、３２は処理台５１に接触せず、ダメージを受けない。 - 特許庁

To provide a device that can perform uniform substrate treatment without causing treatment unevenness and does not damage a coating formed on the substrate when a substrate cleaning process is performed using ice particles.例文帳に追加

氷の微粒子を用いて基板の洗浄処理を行う場合において、処理むらを生じることなく均一な基板処理が可能であり、基板上に形成された被膜にダメージを与えることもない装置を提供する。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a semiconductor device in which damage on the interlayer insulating film group is reduced during laser processing, and the processing profile of a trench formed by laser processing can be improved.例文帳に追加

本発明は、レーザ加工をする際における層間絶縁膜群のダメージを低減するとともにレーザ加工によって形成される溝の加工形状を改善することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for oxide dielectric layer formation by a sol-gel process where the oxide dielectric layer is less likely to undergo damage by an etching liquid and has excellent dielectric properties such as high electric capacity.例文帳に追加

ゾル−ゲル法を用いて誘電層を形成し、その誘電層がエッチング液による損傷を受けにくく、且つ、高い電気容量等の誘電特性に優れた酸化物誘電層の形成方法を提供する。 - 特許庁