「damage process」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide the arrangement structure of a flexible flat cable for making it unnecessary to carry out any bonding process with a double-sided adhesive tape, and for preventing the solder peeling of a cable end or the damage of a cable caused by engagement.例文帳に追加

両面粘着テープによる貼り付け工程を不要とし、ケーブル端部の半田剥がれや、噛み込みによるケーブルの破損を防止できるフレキシブルフラットケーブルの配設構造を提供する。 - 特許庁

Here, a contract making process part on the Web server 130 makes an insurance contract for compensating monetary damage caused in the use of the Inernet through the mentioned communication means.例文帳に追加

ここで、Ｗｅｂサーバ１３０の契約締結処理部は、インターネットを利用することにより受けた金銭的損害を補償する旨の保険契約を、上述の通信手段を介して締結する。 - 特許庁

To provide a method of fabricating a photodiode for a CMOS image sensor, the method being able to prevent plasma damage causing dark current or heavy metal contamination due to a photoresist removal process.例文帳に追加

暗電流の原因となるプラズマ損傷や感光膜除去工程による重金属汚染を防止することのできるＣＭＯＳイメージセンサのフォトダイオードの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain a capacitive sensor wherein damage on a weight can be controlled, and to obtain a method of manufacturing a capacitive sensor wherein a process of forming a protrusion can be simplified.例文帳に追加

錘部の損傷を抑制することのできる静電容量式センサを得るとともに、突起の形成工程の簡素化を図ることのできる静電容量式センサの製造方法を得る。 - 特許庁

To perform a high-precision process by suppressing the shooting-out of a resist or striation caused by resist damage when patterns are formed by dry etching by using a resist of post-ArF lithography generation as a mask.例文帳に追加

ＡｒＦリソグラフィー世代以降のレジストをマスクとしたドライエッチングによるパターン形成において レジストダメージに起因するレジスト突き抜け及びストライエーションを抑制した高精度加工を行う。 - 特許庁

To provide an aqueous resin dispersion which makes it possible to form a coating film excellent in water resistance, particularly resistance to whitening by hot water, blocking resistance, and resistance to freezing damage, and its production process.例文帳に追加

耐水性、特に耐温水白化性と、耐ブロッキング性と、耐凍害性とに優れる塗膜の形成を可能とする水性樹脂分散体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a deicer composition which causes little corrosion of structures such as roads, etc., and vehicles, gives little damage on the environment and exerts an excellent deicing effect, and its preparation process.例文帳に追加

道路等の構造物と車両に対する腐食被害と環境に及ぼす被害が少なく、かつ優れた融氷能力を有する融氷剤組成物およびその製造方法の提供。 - 特許庁

By increasing the torque gain in the process where the pressurizing force reaches the set pressurizing force (PR1) from the start of the pressurization like this, the overshoot of pressure is prevented and the damage to the work piece is reduced.例文帳に追加

このように、加圧開始から設定加圧力（ＰＲ１）に達する過程でトルクゲインを大きくすることにより、圧力のオーバシュートが防げ、ワークピースへのダメージを小さくすることができる。 - 特許庁

To provide a high reliability/high quality piezoelectric element in which a high orientation effect is realized even in a nonthermally deposited/annealed piezoelectric film and damage on the piezoelectric film is lessened during fabrication process.例文帳に追加

非加熱成膜・アニールによる圧電性膜でも高配向性を実現し、かつ製造過程での圧電性膜へのダメージを軽減した、高信頼性・高品質な圧電素子を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a disc-shaped substrate hard to damage or break workpieces when the workpieces are inserted into a metal shaft in a process of grinding the outer circumferential surfaces of the workpieces.例文帳に追加

ワークの外周面を研磨する工程において、ワークを金属シャフトに挿入するときに、ワークに傷を付けにくく、また破損させにくい円盤状基板の製造方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a method hardly causing the damage to a magnetic disk when both of the magnetic disk and a master for magnetic transfer are brought into contact with each other in the magnetic transfer process, even though particles exist in the magnetic disk and the master.例文帳に追加

磁気ディスク及び磁気転写用マスタにパーティクルが存在しても、磁気転写の工程における両者の接触時に磁気ディスクへのダメージが発生し難い方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation process, a liquid droplet discharge apparatus and a circuit module by which drying efficiency of a liquid droplet is improved and thermal damage of a substrate and a pattern is alleviated.例文帳に追加

液滴の乾燥効率を向上させるとともに、基板やパターンの熱的損傷を軽減させたパターン形成方法、液滴吐出装置及び回路モジュールを提供する。 - 特許庁

To provide a surface treatment process which reduces damage to a photoresist and a substrate, in improving wettability of the surface for the purpose of eliminating defects in plating or wet etching.例文帳に追加

めっき処理やウェットエッチング処理の不良をなくすために表面の濡れ性を向上させる際に、フォトレジストおよび下地へのダメージを減らした表面処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a solar cell sealing material which ensures very good deaeration in the sealing process during manufacture of solar cells, and can prevent damage on the solar cells reliably.例文帳に追加

太陽電池製造時の封止工程において、エアーの抜けが非常に良好で、しかも、太陽電池セルの破損を確実に防止することができる太陽電池封止材を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing method of enabling rework by causing no damage on the lower layer in the SOD film formation process of a semiconductor manufacturing apparatus, and to provide the semiconductor manufacturing device.例文帳に追加

半導体装置のＳＯＤ膜形成工程において、下層にダメージを生じることなくリワークを可能とする半導体製造方法および半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inexpensive and environment-friendly resist peeling device which does not use plasma causing damage during a resist peeling process in manufacturing a semiconductor device and a liquid crystal panel.例文帳に追加

半導体装置、液晶パネルの製造におけるレジスト剥離工程において、ダメージの原因となるプラズマを使用しない、安価で、環境にやさしいレジスト剥離装置を提供する。 - 特許庁

To provide a process for producing liquid crystal panels which improves the transportability in a transportation line and ensures the easy parting of sheet glass without damage.例文帳に追加

搬送ラインにおける搬送性を向上させるとともに、薄板ガラスを損傷させることなく分断を容易かつ確実に行うことのできる液晶パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

To enable quick discharge at the time of programming, simplifying a process at the time of forming contacts of a cell array part and a peripheral circuit part, and reducing etching damage.例文帳に追加

プログラム時の放電を迅速に行い、セルアレイ部及び周辺回路部のコンタクト形成時の工程を単純化し、蝕刻損傷を減らすＮＯＲ型フラッシュメモリ装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nonvolatile memory element which can avoid an occurrence of a damage in an information storage layer and an occurrence of film peeling in an element structure, and further simplify a manufacturing process.例文帳に追加

情報記憶層への損傷の発生、素子構造における膜剥がれの発生を回避することができ、しかも、製造工程を簡素化し得る不揮発性メモリ素子を提供する。 - 特許庁

To solve a matter of substrate damage when an insulating film is formed, a matter of stress to a substrate, and a matter of difficulty of forming an insulating film except nitride silicon in a cat-CVD process.例文帳に追加

絶縁膜形成時における基板ダメージの問題、基板に対する応力の問題、ｃａｔ‐ＣＶＤ法における窒化シリコン以外の絶縁膜形成が困難という問題を解決する。 - 特許庁

To provide a composition for peeling a photo-resist capable of reusing without the reduction of an essential peeling capability or a damage of a metallic pattern and capable of reducing an expense in a photoetching process.例文帳に追加

実質的な剥離性能の減少や金属パターンの損傷無しに再使用できて、写真エッチング工程の費用を減少させることができるフォトレジスト剥離組成物を提供する。 - 特許庁

To achieve a process for polishing a wafer extremely thin after forming a circuit therein, dicing the wafer into individual chips and bonding the chip to a support through a die attach film without causing any warp or damage of the wafer.例文帳に追加

回路形成後のウエハを、極薄に研磨し、個片化して、このチップを支持体にダイアタッチフィルムを介して接着するまでの工程を、ウエハ反りやウエハ破損なく実現する。 - 特許庁

To provide a wafer frame storage box in which a wafer damage rate is effectively reduced and manufacture costs are reduced by reducing impulse force that a wafer receives during a wafer carriage process.例文帳に追加

ウェーハの運搬過程中、ウェーハが受ける衝撃力を低下させることにより、効果的にウェーハの破損率を低下させ、製造コストを下げるウェーハの骨組貯蔵ボックスを提供する。 - 特許庁

To provide a means which enables a process unit to be inserted into/extracted from an apparatus body without damage to an LED head by using a simple constitution, without reducing flexibility of the design of the apparatus.例文帳に追加

装置の設計の自由度を減少させることなく、簡単な構成で、ＬＥＤヘッドを傷つけることなくプロセスユニットを装置本体に挿抜することができる手段を提供する。 - 特許庁

To provide a CMC article (18) and a process for producing the article to have a layer (22) on its surface that protects a reinforcement material (15) within the article from damage.例文帳に追加

その表面上に物品（１８）内の強化材料（１５）を損傷から保護する層（２２）を有するＣＭＣ物品（１８）及び該ＣＭＣ物品（１８）を製造する方法を提供する。 - 特許庁

A contact hole is formed by an etching process for reducing ion energy and an O_2 flow rate with the progress of etching depth, and the damage layer to be formed on the base is suppressed.例文帳に追加

本発明は、イオンエネルギーおよびＯ_２流量を、エッチング深さの進行と伴に低減するエッチング工程によりコンタクトホール形成し、下地に形成されるダメージ層を抑制する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor apparatus in which resin can be separated from a resin sealing apparatus in the minimum state of damage into resin in a semiconductor chip sealing process.例文帳に追加

半導体チップの封止工程において、樹脂内部への損傷を最小限にした状態で樹脂封止装置から樹脂を離型できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the deterioration or damage of a semiconductor laser element in an assembling process of an optical disk drive by making a surge not applied between terminals of the semiconductor laser element in an optical pickup.例文帳に追加

光ディスク装置の組み立て工程において、光ピックアップにおける半導体レーザ素子の端子間にサージを印加しないようにして、半導体レーザ素子の劣化又は破損を防止する。 - 特許庁

Dynamic stress in the assembly process is absorbed and dispersed by the cushioning film 11, thus reducing damage given to a semiconductor element, or the like under the semiconductor electrode 3.例文帳に追加

組立工程での力学的ストレスを緩衝材膜１１で吸収し分散させて、半導体電極３の下の半導体素子などに与えるダメージを低減させることができる。 - 特許庁

To provide a thin-film transistor suppressing damage to an active layer in forming source and drain electrodes while a process for manufacturing the thin-film transistor can be simplified, and to provide a method for manufacturing the thin-film transistor.例文帳に追加

ソース・ドレイン電極形成時の活性層へのダメージを抑制するとともに、製造工程の簡略化を図ることが可能な薄膜トランジスタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus in which a photoreceptor is free of wear, damage and deterioration by ozone and by which high image quality is stably obtained over a long period of time, and to provide an image forming method and a process cartridge.例文帳に追加

感光体の摩耗、損傷及びオゾンによる劣化のない、長期にわたり高画質が安定して得られる画像形成方法、画像形成装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

Since the wafer 1 rotates at a speed lower than in the spin drying process, the natural oxide film is removed from the wafer 1 while the occurrence is prevented of damage, pollution, or watermark stains in the wafer 1.例文帳に追加

スピン乾燥に比べてウエハ１を低速回転で乾燥できるので、ウエハの破損や汚染およびウオータマークの発生を防止しつつウエハ１基板の自然酸化膜を除去できる。 - 特許庁

However, due to concerns over the effectiveness of arbitration procedures and worries that initiating an arbitration process would damage relations with the host country, the number of arbitration cases submitted by investors initially remained at a very low level.例文帳に追加

しかし、当初は提訴による受入国との関係悪化や仲裁手続の実効性等に対する懸念から、投資家による仲裁付託件数は非常に低い数字で推移した。 - 経済産業省

To provide a production process of light-permeable electromagnetic wave shielding material in which a metal plating layer is formed with a uniform thickness while enhancing production efficiency and preventing damage and burnout.例文帳に追加

製造効率が向上し、傷付き及び焼切れが防止され、均一な厚さで金属めっき層が形成された光透過性電磁波シールド材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process unit capable of preventing damage of a developing unit when driving force is input into a driving input unit of the developing unit while the developing unit is arranged in a detachment position, and to provide an image forming apparatus including the process unit.例文帳に追加

現像ユニットが離脱位置に配置された状態で、現像ユニットの駆動入力部に駆動力が入力された場合に、現像ユニットの損傷を防止することができるプロセスユニット、および、そのプロセスユニットを備える画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device which suppresses the warpage of a semiconductor board while preventing damage to the semiconductor element formation surface of the board in a semiconductor element forming process to eliminate troubles in a semiconductor element manufacturing process.例文帳に追加

半導体素子形成工程において、半導体素子の形成される面へのダメージを防止しながら、半導体基板の反りを抑制し、半導体素子の製造工程における不具合を解消することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an epitaxial growth method of semiconductor element in which a uniform shape can be formed epitaxially by preventing etching damage of a silicon peripheral insulation film being grown in the surface treatment process of a semiconductor substrate for SEG process.例文帳に追加

ＳＥＧ工程のための半導体基板の表面処理工程において成長させるシリコン周辺絶縁膜のエッチング損傷を防止することにより、均一な形状のエピチャネルを形成し得る半導体素子のエピチャネル形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device consisting of a group III-V nitride semiconductor in whose manufacturing process an element-separating and insulating film is formed in a short time and silicon is diffused in a process for forming the element-separating and insulating film without causing damage to electric characteristics, and those processes can be carried out together.例文帳に追加

III-Ｖ族窒化物半導体からなる半導体装置において、且つ短時間に素子分離絶縁膜を形成することと、素子分離絶縁膜の形成工程において電気特性を損なうことなくシリコンを拡散することとを両立できるようにする。 - 特許庁

To provide a toll collection system and a toll collection method which can prevent damage of excess charging for connecting traffic by simple process, even when the process can not be correctly executed at an exit toll gate to be connected.例文帳に追加

乗り継ぎ対象の出口料金所において正しく処理を行なえない場合においても、簡素な処理でありながらも乗り継ぎ通行に対する過剰課金の被害を防止することができる料金収受システムおよび料金収受方法を提供する。 - 特許庁

This ultrasonic flaw detection method has an excitation process for exciting the bottom end 5 of the rail 1 for the railroad so as to be made to vibrate in the height direction of the rail 1; and a detection process for detecting the reflected ultrasonic waves, having a prescribed frequency and a prescribed group velocity, generated in the excitation process, and detecting the location of the damage of the rail 1 for the railroad.例文帳に追加

本発明の超音波探傷方法では、鉄道用レール１の底端部５を、レール１の高さ方向に振動させるように加振する加振工程と、加振工程により発生する所定の周波数及び所定の群速度をもつ反射超音波を検出して鉄道用レール１の損傷の位置を検知する検知工程と、を備えている。 - 特許庁

Accordingly, even if the peeling 40 of interlayer film is generated due to weakness in the strength of close contact with a stopper material 13 of the low-k film 14 and damage 30 by the dicing process not only in the assembling process but also in the processes after the assembling process, growth of peeling 40 of the interlayer film can be prevented with the reinforcing pattern 20.例文帳に追加

これにより、アセンブリ時のみでなく、組み立て工程以降において、ｌｏｗ−ｋ膜１４のストッパー材１３との密着強度の弱さやダイシングによるダメージ３０に起因する層間膜剥がれ４０が発生したとしても、補強パターン２０によって層間膜剥がれ４０が進行するのをくい止めることが可能な構成となっている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which is capable of satisfactory recover a gate insulated film from process damage protecting a wiring layer, which is liable to be adversely affected by a high- temperature thermal treatment.例文帳に追加

高温の熱処理に弱い配線層に悪影響が生じることを防止しながら、ゲート絶縁膜のプロセスダメージ等を良好に回復し得る半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetic disk substrate which can reduce contamination of a cleaning machine during cleaning of a substrate and can reduce contamination of/damage to an inspecting head in a manufacturing process of an one-side magnetic disk.例文帳に追加

片面磁気ディスクの製造工程において、基板洗浄の際の洗浄機の汚染や、検査ヘッドの汚染・損傷を低減することができる磁気ディスク用基板を提供することを課題とする。 - 特許庁

As a result, the electron carrier layer can be formed by the spin coating method without any damage to a luminous layer, and the manufacturing process of the organic electroluminescence element is simplified, thereby saving time and reducing cost.例文帳に追加

これにより、発光層を全く損傷させずに電子輸送層をスピンコーティング法によって形成できるため、有機電子発光素子の製造工程が単純化され、時間及びコストが低減される。 - 特許庁

To maintain adhesion and to improve wear resistance of a small-diameter member by avoiding defect and damage of a coating hard material at an edge due to plasma generated in a formation process of the coating hard material.例文帳に追加

被覆硬質材の形成プロセスで発生するプラズマによるエッジ部での被覆硬質材の欠陥やダメージを回避し、密着性を維持し、小径部材の耐摩耗性を改善することである。 - 特許庁