「damage process」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a substrate treatment method capable of executing a cleaning process high in a removal rate and small in damage, and to provide a substrate treatment device.例文帳に追加

除去率が高く、ダメージが少ない洗浄処理を行うことができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To suppress thermal damage on an electronic component while simplifying the manufacturing process and to ensure a high vacuum state in a package easily.例文帳に追加

製造工程を簡単にし、電子部品等の熱的ダメージを抑制し、パッケージ内の高真空状態を容易に確保することを可能にする。 - 特許庁

Defective and damage of the hard film at the edge part due to plasma generated in the hard film coating process is avoided to maintain adhesion of the film.例文帳に追加

硬質皮膜被覆プロセスで発生するプラズマによるエッジ部での硬質皮膜の欠陥やダメージを回避し、皮膜の密着性を維持できる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having a dual-metal structure and capable of suppressing the damage of a gate insulating film in a process of a gate electrode being removed.例文帳に追加

デュアルメタルゲート構造を有する半導体装置において、ゲート電極除去する工程において、ゲート絶縁膜に与える損傷を抑える。 - 特許庁

To provide a production process of a semiconductor chip capable of obtaining semiconductor chips with high production efficiency without causing any damage or contamination.例文帳に追加

破損させたり汚染したりすることなく、高い生産効率で半導体チップを得ることができる半導体チップの製造方法を提供する。 - 特許庁

To protect circuits from damage by preventing laminated insulating films from exfoliation during a dicing process for multilayer interconnection structure semiconductor wafers.例文帳に追加

多層配線構造の半導体ウェーハをダイシングする場合において、積層された絶縁膜の剥がれを防止して回路を傷付けないようにする。 - 特許庁

To obtain a hydrogen fuel supply system capable of preventing a reactor and the like performing a regeneration process from suffering damage from a backfire phenomenon.例文帳に追加

再生工程を行う反応器等が逆火現象による損傷を被ることを防止することができる水素燃料供給システムを得る。 - 特許庁

a substance that protects cells from the damage caused by free radicals (unstable molecules made by the process of oxidation during normal metabolism). 例文帳に追加

フリーラジカル（正常な代謝における酸化の過程で生成される不安定な分子）による損傷から細胞を保護する作用をもった物質。 - PDQ®がん用語辞書 英語版

To provide a protein that can contribute to the DNA-repairing process by recognizing mutant DNA structures caused by chain damage and acting on the position to repair.例文帳に追加

損傷によって生じる特異的なDNA構造を認識して作用することにより、DNA修復過程に貢献しうるタンパク質を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma display panel capable of reducing temperature difference between a display region and a non-display region when an aging process is performed, and capable of minimizing damage of a plasma display panel (PDP) and aging process failure.例文帳に追加

エイジング工程を実施する時、表示領域と非表示領域間の温度差を小さくしてプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の破損とエイジング工程不良を最少化できるプラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and its manufacturing method wherein damage to a silicon chip in a manufacturing process of a semiconductor device and the generation of voids in a mounting process can be prevented collectively.例文帳に追加

半導体装置の製造工程におけるシリコンチップへのダメージの発生、及び実装工程におけるボイドの発生を一括して防止可能な半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a spacer tape, which enables the winding and storage of a lead frame, which consists of a series of components subjected to a basic outline punching process and a bending process simultaneously, without damage or derformation.例文帳に追加

基本外形打ちぬき加工時に同時に曲げ加工を施された部品が一連に繋がったリードフレームを、破損や変形がない状態で巻取り、保管することを可能とするスペーサーテープを提供する。 - 特許庁

To provide a jig for holding fuel cell separators by which damage to the fuel cell separators is prevented even if the fuel cell separators contact with the jig or hit it, in the course of setting to a boiling process, boiling performance, and setting from the boiling process.例文帳に追加

煮込み工程への搬入、煮込み、煮込みからの搬出において、セパレータが接触したり当たったりしてもセパレータを傷つけにくい燃料電池セパレータ保持用治具の提供。 - 特許庁

To protect sufficiently a nonvolatile semiconductor memory against the damage to the nonvolatile semiconductor memory given the electromagnetic waves generated in a plasma processing process or the like in advance of a wiring process.例文帳に追加

配線工程以前におけるプラズマ処理工程等で発生する電磁波が与える不揮発性半導体記憶装置へのダメージに対して、不揮発性半導体記憶装置を十分に保護する。 - 特許庁

Consequently, the liquid crystal display device can prevent occurrence of damage and dust of terminals and damage or the like due to contact of the mechanical terminals, and can improve reliability of products by maintaining quality in a manufacturing process of the liquid crystal panel.例文帳に追加

これにより、機械的な端子同士の接触による端子部の傷やゴミの発生、損傷等を防止することができ、液晶パネルの製造工程における品質を維持して製品の信頼性を向上することができる。 - 特許庁

To provide an electrode for plasma generation used for carrying out cleaning and a reforming process of a base material to be processed damage-free in a pressure atmosphere in the vicinity of the atmospheric pressure.例文帳に追加

大気圧近傍の圧力雰囲気下において、ダメージフリーで被処理基材の洗浄、改質処理を行うプラズマ生成用電極を提供する。 - 特許庁

To provide an elastic roll which does not exert damage to a photoreceptor and imparts a good image printing characteristic thereto without having an intricate surface hardening treatment process step.例文帳に追加

煩雑な表面硬化処理工程を有することなく、感光体へのダメージのない、良好な印字特性を与える弾性ロールを提供する。 - 特許庁

To leave no trace of adhesive on chips and to prevent cracking or damage of ultrathin chips in the process of peeling protecting sheets from circuit pattern surfaces.例文帳に追加

チップの回路パターン面に貼付された保護シートを剥離する際に、粘着剤をチップに残すことなく、且つ、極薄チップの割れ、傷の発生も防止すること。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a honeycomb structure by which the distortion of the honeycomb structure is corrected to effectively prevent the damage of the structure in firing.例文帳に追加

ハニカム成形体の歪みを矯正して、焼成時における破損を有効に防止することが可能なハニカム構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device in which a damage on a substrate to be processed is suppressed while enhancing the etching rate of alumina.例文帳に追加

アルミナのエッチング加工速度を高めつつ、被処理基板へのダメージを抑えることができる半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a film transistor including a plasma CVD process which can form a high-quality silicon layer receiving less damage by plasma.例文帳に追加

プラズマダメージの少ない高品質のシリコン層を形成することのできるプラズマＣＶＤ工程を含む薄膜トランジスタの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To allow to confirm the polishing condition easily on the way of polishing process, and to prevent the fear of generating a damage on the lens surface by the confirmation.例文帳に追加

研磨工程途中での研磨状態の確認が容易に行え、また、この確認によってレンズ面に傷を発生させる虞れが生じないようにする。 - 特許庁

To provide a production process for thermally tempered glass products that can completely avoid the natural damage to thermally tempered glass caused by foreign substances including nickel sulfide.例文帳に追加

硫化ニッケルをはじめとした異物による風冷強化ガラスの自然破損を無くすことを可能とする風冷強化ガラス製品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor light-emitting element which can achieve excellent emission efficiency by controlling thermal damage to an active layer, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

活性層の熱ダメージを抑制することにより、優れた発光効率を実現することができる半導体発光素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To remove deposited adherents without imposing damage on aluminum and an anodized aluminum oxide base material as a process chamber base material as a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置であるプロセスチャンバー基材であるアルミニウムや陽極酸化アルミニウム基材にダメージを与えることなく、堆積した付着物を除去する。 - 特許庁

To provide a sealing film for a solar cell which has excellent transparency and can prevent damage of a power generation element in a sealing process.例文帳に追加

優れた透明性を有するとともに、封止工程における発電素子の破損を防止することが可能な太陽電池用封止膜を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of suppressing plasma damage to a gate insulating film of a TEG after a specific process.例文帳に追加

特定の工程以降からは、プラズマダメージがＴＥＧのゲート絶縁膜に加わることを抑制できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technology for reconciling damage suppression and minuteness given to a plasma MOS device in a process device utilizing the action of plasma.例文帳に追加

プラズマの作用を利用したプロセス装置において、プラズマのＭＯＳデバイスに与えるダメージ抑制と微細化を両立することが可能となる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor laser which enables it to reduce the mesa radius without using any manufacturing process which is difficult to control because it might damage the reliability of elements.例文帳に追加

素子の信頼性を損ねたり制御の容易ではない製法を用いたりすることなく、メサ径をより小さくすることの可能な半導体レーザを提供する。 - 特許庁

The electrolyte half layers 2a are peeled easily from the substrate 10 for manufacture, and the electrolyte half layers 2a are difficult to damage by a peeling process even in the case of the thin electrolyte half layers 2a.例文帳に追加

電解質半層２ａは製造用基板１０から容易に剥がれ、電解質半層２ａが薄くても薄利工程で破損しにくい。 - 特許庁

To provide a polishing device for simplifying a process, quickly polishing a sample without the possibility of damage, and capable of accurately controlling the thickness of the sample.例文帳に追加

工程を単純化し、迅速にしかも試料破損の恐れのない研磨が行え、且つ試料の厚さを精度よく制御することが出来る研磨装置の提供。 - 特許庁

To provide a heat treatment method and a heat treatment apparatus which can prevent the occurrence of a process damage, while suppressing diffusion of an implanted impurity.例文帳に追加

注入された不純物の拡散を抑制しつつもプロセスダメージの発生を防止することができる熱処理方法および熱処理装置を提供する。 - 特許庁

Accordingly, damage to the light-detection substrate 4 is prevented in each process to form the cavity layer 21, the DBR layers 22 and 23.例文帳に追加

これにより、キャビティ層２１やＤＢＲ層２２，２３を形成するための各プロセスにおいて光検出基板４にダメージが与えられるのを防止することができる。 - 特許庁

According to the present invention, since only one image taken with the electron microscope is basically necessary, a damage to the sample is reduced, and the process is performed in a short period of time.例文帳に追加

本発明によると、基本的には電子顕微鏡で撮像する画像は一枚で済む為、試料損傷低減が図れ、また、短時間で処理できる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for a plasma nitridation process that does not cause excessive damage of a silicon dioxide layer and a silicon substrate with nitrogen ions.例文帳に追加

二酸化シリコン層及びシリコン基板を窒素イオンで過剰にダメージを生じさせることのないプラズマ窒化プロセスのための方法及び装置を提供する。 - 特許庁

Thereby, the method of forming plating layer is capable of minimizing chemical damage which may occur on the substrate, in particular, the ceramic substrate during plating process while securing a sufficient plating thickness.例文帳に追加

十分なメッキ厚さを確保しながらメッキ過程で基板、特に、セラミック基板に生じ得る化学的な被害を最少化することが出来る。 - 特許庁

To avoid the damage within an element region in formation of a contact, and also to process a cell region and a control system circuit region around a cell into gates at the same time.例文帳に追加

コンタクトの形成における素子領域内のダメージを回避するとともに、セル領域とセル周辺制御系回路領域とを同時にゲート加工できる。 - 特許庁

To suppress damage to a terminal and a housing while enabling detection of incomplete terminal insertion in a process of assembling a connector and the terminal.例文帳に追加

コネクタと端子の組立工程において、端子及びハウジングの破損を抑制しつつ、より確実に端子半挿入を検出できるようにすること。 - 特許庁

To provide a method for forming a mask including a pattern forming process by lift-off, the method by which a film is accurately patterned while the occurrence of damage to a resist is suppressed.例文帳に追加

リフトオフによるパターンの形成工程を含むマスクの形成方法に関し、膜を精度良くパターニングし、しかもレジストのダメージ発生を抑制すること。 - 特許庁

To provide a carrying device of a thread-like elastic member and its related technology capable of reducing damage received to the thread-like elastic member in a carrying process.例文帳に追加

搬送過程におけて糸状弾性部材が受けるダメージを軽減できる糸状弾性部材の搬送装置及びその関連技術を提供する。 - 特許庁

After a wafer is subjected to a sintering processing, it is cooled down and taken out from the thermal treatment device, by which the wafer is capable of recovering from its damage on a MOS interface level in a preceding process.例文帳に追加

シンター処理後、いったん冷却してから取り出すことにより、ＭＯＳ界面準位などの前工程のダメージを短時間で回復させうる。 - 特許庁

To provide a method of inserting a tool for friction stir welding, wherein damage of a tool pin is detected without increasing a cycle time in a welding process.例文帳に追加

接合工程のサイクルタイムを増加させることなくツールのピンの破損を検出することができる摩擦撹拌接合のツール挿入方法を提供する。 - 特許庁

To reduce damage due to a multi-layer manufacturing process for a dielectric capacitor employed in an FeRAM and prevent the film peeling of an interlayer insulating film.例文帳に追加

ＦｅＲＡＭに用いられる強誘電体キャパシタへの多層製造工程によるダメージを低減し、かつ層間絶縁膜の膜剥がれを防止する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus, capable of reducing a damage ratio of a substrate by improving uniformity of a plasma in a high- pressure process.例文帳に追加

高圧力プロセスにおいて、プラズマの均一性を向上させ、基板のダメージ率を減少させることが可能なプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a tank and tank component fastening structure for securing sealing performance while suppressing damage to a sealed portion in a process of screwing a tank component.例文帳に追加

シールされる部分がタンク部品のねじ込み過程で損傷することを抑制でき、シール性を確保できる、タンクとタンク部品との締結構造を課題とする。 - 特許庁