「damage process」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an apparatus for measuring optically a printing sheet which guarantees thorough cleaning, practically generates no damage of a measuring head caused by cleaning, and enable an operator to completely concentrate in monitoring of the printing process in progress, and to provide a method for actuating it.例文帳に追加

徹底的な清掃を保証し、清掃によって引き起こされる測定ヘッドの損傷が事実上起こり得ず、進行中の印刷プロセスの監視に操作者が完全に集中することができるような、印刷枚葉紙を光学的に測定する装置とそれを作動させる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface-oxidized abrasion-resistant lubrication coating film which prevents the occurrence of damage in a contacting object which is an opponent that abrades or comes in contact with a base material or the coating film, by using an inexpensive material with a simple process, and can show high lubricity for a long period of time.例文帳に追加

簡単な方法で，かつ，廉価な材料を使用して，母材や被膜の摩耗，接触の相手方となる被接触物体に損傷が発生することを防止でき，長期に亘り高い潤滑性を発揮することのできる表面酸化耐摩耗潤滑被膜を提供する。 - 特許庁

The apparatus for high temperature industrial process containing a connection part with at least one flange is protected from mechanical damage by at least one support lug by which at least one flange of the connection part with at least one flange is connected to at least one flange.例文帳に追加

少なくとも１つのフランジ付接続部を含む高温工業プロセス用装置であって、少なくとも１つのフランジ付接続部の少なくとも１つのフランジが、少なくとも１つのフランジに連結した少なくとも１つのサポートラグにより機械的損傷から保護されている装置。 - 特許庁

To suppress thermal damage of a surface skin during a heating process of the surface skin while shortening the heating time, in a method of manufacturing a laminated molded article made by press-integrating a core material and the surface skin by a pressing die after setting a hot melt on the surface skin side and heating-softening processing the surface skin.例文帳に追加

ホットメルトを表皮側に設定して、表皮を加熱軟化処理した後、圧着金型で芯材と表皮とをプレス一体化する積層成形品の製造方法において、表皮の加熱工程時における表皮の熱的ダメージを抑え、かつ加熱時間を短縮化する。 - 特許庁

Since the connection of a memory cell block with the plate line is obtainable without using a contact cBE-M1 between the bottom electrode of the ferroelectric capacitor-plate line metal wiring, a deterioration of the ferroelectric capacitor due to a process damage caused by the formation of the above contact can be eliminated.例文帳に追加

プレート線と、メモリセルブロックとの接続を、強誘電体キャパシタの下部電極−プレート線金属配線間のコンタクトｃＢＥ−Ｍ１を用いずに実現出来るため、上記コンタクト形成に起因するプロセスダメージによる強誘電体キャパシタの劣化を無くすることが出来る。 - 特許庁

To provide a developing device which hardly causes damage such as deformation, bending and turning up of an elastic sheet member, due to drop and shock in the physical distribution from when the developing device is manufactured in a factory to when a user performs the opening operation of a seal member sealing toner in a toner storage chamber and to provide a process cartridge.例文帳に追加

工場で生産された時からユーザがトナーをトナー収容室に封止している封止部材を開封操作するまでの、物流時の落下や衝突に起因する、弾性シート部材の変形、折れ曲がり、めくれ等の損傷が発生し難い現像装置及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a hydrogen ion conductive polymer membrane with a catalyst layer for a fuel cell without causing a wrinkle or looseness of the hydrogen ion conductive polymer membrane in a machining process or in handling, damage such as a pin hole or micro-crack thereof, or a crack, wear or pollution of the catalyst layer.例文帳に追加

加工工程や取扱い中における水素イオン伝導性高分子膜の皺や弛み、ピンホール、マイクロクラックなどの損傷、および触媒層のクラックや摩耗、汚染などが発生しない燃料電池用触媒層付き水素イオン伝導性高分子膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and equipment for evaluating the life time and process damage of a semiconductor substrate on the basis of the intensity of haze light by aiming at the haze light being scattering light emitted from an area in which strong scattering body does not exit when the crystal defect of a semiconductor substrate surface layer is evaluated by light scattering.例文帳に追加

半導体基板表層の結晶欠陥を光散乱で評価する際、強い散乱体が存在しない領域から発せられる散乱光であるヘイズ光に着目し、このヘイズ光の強度に基づいて半導体基板のライフタイムおよびプロセスダメージを評価する方法及び装置を提供する。 - 特許庁

The elastomeric casing may also incorporate a static seal or temporary dynamic seal to facilitate in-process testing or dirt exclusion, as well as one or more additional dirt exclusion features to protect the fluoropolymer seal from damage caused by environmental contaminants during the use of the seal.例文帳に追加

エラストマケーシングはさらに、工程間試験または汚れ排除を容易にするために静的シールまたは一時的な動的シール、および、シールの使用中に環境汚染物によって引起される損傷からフッ素共重合体シールを保護するための１つ以上の追加の汚れ排除機構を組込んでもよい。 - 特許庁

To provide a flash memory element in which a semiconductor substrate in the boundary of a cell region and a peripheral circuit region can be protected from an etching step for forming first and second trenches and a leak current generated due to damage on the semiconductor substrate can be prevented from increasing, and to provide its fabrication process.例文帳に追加

セル領域と周辺回路領域との境界部の半導体基板を第１トレンチおよび第２トレンチの形成のためのエッチング工程から保護することができ、半導体基板の損傷で発生する漏れ電流の増加を防止することができる、フラッシュメモリ素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a developing device, process cartridge, and image forming apparatus, which can reduce malfunctions, such as scattering of a developer stored previously at shipping to the outside of a developing device during transport or damage to an image carrier, when a plurality of carrying members are provided side by side to face a developer carrier.例文帳に追加

複数の搬送部材が現像剤担持体に対向するように並設された場合であって、出荷時に予め収容した現像剤が、輸送時等に現像装置外に飛散したり像担持体を傷つけたりする不具合が軽減される、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a cutter polishing machine with which, when performing polishing process of reciprocatively moving a polishing tool with respect to the cutting edge of the cutter in a secured state, the operation of reciprocating movement of the polishing tool can be carried out soundly and quickly, thereby polishing the cutter soundly and quickly while reducing the risk of damage to the cutting edge.例文帳に追加

固定された状態の刃物の刃部に対して研磨具を往復移動させる研磨作業を行う際に、研磨具の往復移動の操作を安心して素早く行うことができ、これにより刃物の研磨を刃部の損傷を招くおそれが少なく安全かつ迅速に行うことができる刃物研磨機を提供する。 - 特許庁

To provide an agitating blade which is disposed in an agitation tank used in a beer-producing process to store a yeast slurry, can uniformly agitate and mix the whole yeast slurry in a short time without causing the mixing failure of the yeast slurry of non-Newton fluid, does not damage the yeast, and does not lower the biological activity of the yeast.例文帳に追加

ビール製造プロセスにおいて使用する酵母液貯留用攪拌槽に具備された攪拌翼に関し、非ニュートン流体である酵母液の混合不良を生じさせることなく槽内全体を短時間で均一に攪拌混合することができ、且つ酵母を損傷させず、その生物活性も低下させない攪拌翼の提供。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device for improving operating characteristics and process yield by preventing generation of an etching residue or a damage of a semiconductor substrate and preventing an oxidation of a tungsten layer by a high temperature step such as an ion implantion for forming an LDD region and a source/drain regions.例文帳に追加

食刻残留物が発生するか又は半導体基板が損傷されることを防止し、LDD領域及びソース／ドレイン領域を形成するためのイオン注入工程等の高温工程により前記タングステン層が酸化する現象を防止し、素子の動作特性及び工程収率を向上させる技術を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a recyclable electrophotographic roller suppressing physical damage of an electrophotographic roller, removing a developer-derived fixed material fixed to the surface without impairing the characteristics thereof, and being recyclable as various types of electrophotographic rollers of an image forming apparatus using an electrophotographic process.例文帳に追加

電子写真用ローラの物理的なダメージを抑制し、その特性を損なうことなく表面に固着した現像剤由来の固着物を除去し、電子写真プロセスを利用する画像形成装置の各種電子写真用ローラとして再利用可能な再生電子写真用ローラの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of dislodging an organic coating and a remover which can remove a photoresist which does not receive deterioration even if it is the organic coating in which managements, such as photoresist, did deterioration curing in response to a damage with an ion implantation, etc. in a manufacturing process, which is no problem in an environmental side, and is economically cheap.例文帳に追加

製造工程中でイオン注入等で損傷を受けてフォトレジスト等の上層部が変質硬化した有機被膜であっても、変質を受けていないフォトレジスト共々、大きな剥離速度で除去でき、環境面でも問題なく、経済的にも安価な、有機被膜の除去方法及び除去剤を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for and a method of treating a cut surface of a glass plate which is capable of shortening the time required for such treatment process without the need for large-scale circumferential equipment while effectively preventing the occurrence of damage such as cracks or defects to maintain the quality of the glass plate including safety, strength or the like.例文帳に追加

ひび割れや欠損等の破損の発生を効果的に防いでガラス板の安全性や強度等の品質を保持しつつ、大規模な周辺設備を必要とせずにガラス板の切断面の処理工程にかかる時間を短縮することのできるガラス板の切断面の処理装置及び処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a stepping motor having a lead screw formed on a rotational shaft by a rolling process, enabling high-speed and high-accuracy movement of a moved body as a material of the rotational shaft, reducing an abrasion and a damage of a rolling dice and using a material for taking an environment into consideration.例文帳に追加

転造加工によってリードスクリューが回転軸に形成されたステッピングモータにおいて、回転軸の材質として、被移動体の高速かつ高精度な移動を可能にするとともに、転造用ダイスの摩耗や損傷を低減し、かつ、環境への配慮がなされた材質を使用したステッピングモータを提供すること。 - 特許庁

To provide a metal transfer plate usable for producing a multi-layered printed wiring board which solves problems wherein large damage is given to a copper wiring pattern in a final soft etching process and inter-line insulation reliability is low since unwanted base copper layer between the copper wiring patterns can not be completely removed.例文帳に追加

最後のソフトエッチング工程では銅配線パターンに強いダメージを与え、しかも銅配線パターン間の不要となった下地銅層を完全に除去できず、線間絶縁信頼性が低かったという問題を解決できる多層プリント配線板の製造に用いることのできる金属転写板を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing device of an organic EL device and a method for manufacturing an organic EL device, for stabilizing plasma, controlling an irradiation volume so as not to damage an anode and irradiating plasma uniformly on the anode, in a process of irradiating plasma on the anode of the organic EL device.例文帳に追加

有機ＥＬ装置の陽極に対してプラズマを照射する工程において、プラズマを安定させ、陽極にダメージを与えないように照射量を制御し、陽極に対して均一にプラズマを照射することができる有機ＥＬ装置の製造装置及び有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor element which minimizes TED (Transient Enhanced Diffusion) phenomenon of impurities which is generated in heat treatment process and other successive heat treatment processes for relaxing damage due to ion implantation and prevents lowering of upper film quality caused by outgassing.例文帳に追加

イオン注入による損傷を緩和させるための熱処理工程やその他後続の熱処理工程の際に発生する不純物のＴＥＤ（Ｔｒａｎｓｉｅｎｔ Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｄｉｆｆｕｓｉｏｎ）現象を最大限抑え、アウトガス（ガス抜け）による上部膜質の低下を防止することが可能な半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for laminating a ceramic green sheet preventing peeling from a support film caused by handling, enabling prevention of the ceramic green sheet from damage or deformation by ensured peeling of the support film from the ceramic green sheet in a transfer process, and enabling an improved productivity.例文帳に追加

ハンドリングによるセラミックグリーンシートの支持フィルムからの剥離を防ぎつつ、転写工程におけるセラミックグリーンシートからの支持フィルムの剥離が確実に行われることにより、セラミックグリーンシートの破損や変形を防ぐことができるとともに、生産性を向上できるセラミックグリーンシートの積層方法を提供する。 - 特許庁

The method for attaching a subgasket to an ionomer membrane, wherein the methods provide for the precise location of the subgasket relative to the other component edges of the fuel cell, such as the catalyst layers, so as provide the functionality required to extend the ionomer membrane life and prevent damage to the ionomer membrane during the assembly process.例文帳に追加

その方法は、イオノマー膜の寿命を延長するために必要とされる機能性を提供するように、およびアセンブリ処理中のイオノマー膜への損傷を回避するように、触媒層などの燃料電池の他の構成要素縁部に対してサブガスケットを正確に配置することを可能にする。 - 特許庁

To provide a production method by which a versatile salt and versatile bittern each having a desired ion composition are efficiently obtained in a simple process using brine obtained by a production method which prevents damage to various ions, particularly magnesium and sulfate ions as essential components of bittern, natural infinitesimal ions and infinitesimal organic components.例文帳に追加

、多様なイオン、特に苦汁の主成分であるマグネシウムや硫酸イオン、天然の微量イオン及び微量有機成分を損なわない製造方法により得られたかん水を用い、所望のイオン組成を有する多用途塩及び多用途苦汁を、簡易な工程で効率よく得る製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain an evaporation source which has superior heat responsibility on heating and cooling, gives no molecular damage to vaporizing materials 2, and hence is most suitable for a manufacturing process of an organic electroluminescent element by means of laminating films of organic polymer materials, through sequentially evaporating the several vaporizing materials 2 and depositing them on a substrate 17.例文帳に追加

加熱、冷却時の熱応答性に優れ、しかも蒸発材料２に分子的なダメージを与えることなく、それ故に複数の蒸発材料２を順次蒸発させて基板１７上に堆積させる必要がある有機高分子材料の多層膜を使用した有機エレクトロルミネッセンス素子の製造に最適な蒸着源を得る。 - 特許庁

To provide a new printed circuit board manufacturing method assuring the through-hole forming process of an insulation film of the relevant printed circuit board with higher accuracy and effectiveness for entire area of the printed circuit board without generation of problems such as generation of damage on circuit patterns and elimination of conductive circuits due to the over-etching.例文帳に追加

プリント配線板の全面積にわたって精度良く、かつ効率的に、しかもオーバーエッチングによる回路パターンへのダメージ発生や導体回路の消失といった問題を生じることなしに、当該プリント配線板の絶縁層を貫通加工することが可能な、新規なプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

By the method of forming a transparent electrode film on an organic thin film without causing charge-up and with sputtering damage restrained, an improvement in characteristics (driving, life or the like) is expected for the transparent organic electroluminescent element and a top-emission organic electroluminescent element with a final film-forming process applied in the sputtering method.例文帳に追加

有機薄膜上への透明電極成膜をチャージアップを起こさず、かつスパッタリングダメージを抑制させながら行う方法であって、最終成膜プロセスがスパッタリング法である透明有機電界発光素子やトップエミッション型有機電界発光素子においては特性（駆動、寿命等）向上が期待できる。 - 特許庁

To provide a mold structure for a door trim capable of molding the upper part, ornament part and lower part of the door trim by one process wherein respective skin materials are thermally fusion-bonded to a predetermined resin substrate without damaging and wrinkling the skin materials and applying damage or defectiveness to the resin substrate, and its molding method.例文帳に追加

本発明は、ドアトリムにおいて、各表皮材が所定の樹脂基材に熱溶着され、表皮材に損傷やしわが生じたり、樹脂基材に損傷や不良を与えることなく、アッパー部、オーナメント部、ロアー部を一工程で成形することができる金型構造とその成形方法を提案する。 - 特許庁

To provide a cleaning liquid for lithography showing uniformly favorable cleaning property for resists in various kinds and types of compositions such as resists for i-line specification, KrF specification or ArF specification, a silicon-containing resist and a chemically amplified positive resist, having preferable drying property after the process and causing no damage to characteristics of the resist by cleaning.例文帳に追加

ｉ線仕様、ＫｒＦ仕様、ＡｒＦ仕様の各種レジスト、ケイ素含有レジスト、化学増幅型ポジ型レジストなど多種多様の組成のレジストに対して一様に良好な洗浄性を示し、処理後の乾燥性が良く、洗浄によりレジストの特性がそこなわれることのないリソグラフィー用洗浄液を提供する。 - 特許庁

To provide a method for beating pulp, capable of producing bulky pulp having higher rigidity than ever, while keeping freeness at a level similar to that given by mechanical treatment, by suppressing damage to a pulp fiber and internal fibrillation thereof and investigating a procedure for adjusting the freeness, in a process for producing the pulp, and therefore capable of improving bulkiness of paper which is a product.例文帳に追加

パルプの製造工程において、パルプ繊維の損傷と内部フィブリル化を抑えて濾水度を調製する方法を検討することによって、機械的処理と同等の濾水度のレベルにおいて、より剛度の高い嵩高なパルプを製造し、製品である紙の嵩高性を向上する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum heat insulating panel and a refrigerator using the same, which is hardly fractured and superior in stability with lapse of time by preventing remarkable deterioration of durability of a barrier container caused by damage of a film surface caused by impact when a vacuum heat insulating panel is rubbed or touched from the external in its manufacturing process.例文帳に追加

真空断熱パネルの製造過程における外方からの擦れや当たりによる衝撃でフィルム表面が傷つき、バリア容器の耐久性能が大きく悪化することを防止して、破損しにくく経時安定性に優れた真空断熱パネル、およびこのパネルを用いた冷蔵庫を提供する。 - 特許庁

To overcome such a problem that foreign matter is put fast between patterns being processed to result in an impossibility to proceed and also suppress damage to a base board to possible minimum by separating perfectly the foreign matter of a thin and long shape having a greater particle size than a abrasive material having intruded into the sandblasting device or included in the abrasive material in the sandblasting process.例文帳に追加

サンドブラスト加工において、サンドブラスト装置内に混入したり、研磨材に混入した研磨材より粒径の大きな細長い形状の異物を完全に分離することにより異物が加工するパターンの間に詰まって加工できない問題や基板へのダメージを最小限に抑える。 - 特許庁

To reduce temperature unevenness generated in the width direction perpendicular to the traveling direction during a heating process of a belt recording member, while preventing damage of the belt caused by performing belt shift control, in an image heating device for heating an image on the recording member by the endless belt generating heat by a magnetic flux from a magnetic flux generating means.例文帳に追加

磁束発生手段からの磁束により発熱するエンドレス状のベルトにて記録材上の画像を加熱する画像加熱装置において、ベルトの寄り制御を行うことによるベルトの破損を防止しつつベルトの記録材の加熱処理中に走行方向と直交する幅方向の温度ムラの発生を低減すること。 - 特許庁

In the manufacturing method of the organic EL display in which the sealing layer for shielding the element from the open air is formed in the light-emitting side of the organic EL element, before forming the sealing layer, an aging process of electric-field aging, heating aging, or both agings are performed in the environment where a damage is not given to the element.例文帳に追加

有機ＥＬ素子の光発光側に、素子を外気から遮断するための封止層を形成する有機ＥＬディスプレイの製造方法において、封止層を形成する前に、素子にダメージを与えない環境下において、電界エージング、加熱エージングもしくは両エージングを併用したエージング工程を行なう。 - 特許庁

To provide a forming method of a contact hole/interlayer insulating film, etc. which form the contact hole/interlayer insulating film, shorten and simplify the entire manufacturing process, reduce a cost, and use a dispersant or solvent which does not damage during the usage of organic semiconductor material without limiting a selection of insulating film material.例文帳に追加

コンタクトホール／層間絶縁膜を形成・製造する工程全体の短縮化、簡素化、コストダウンを図れ、また絶縁膜材料の選定が限定されることなく有機半導体材料を使用しても損傷を与えない溶剤・溶媒を用いることが可能なコンタクトホール／層間絶縁膜の形成方法等を提供する。 - 特許庁

Even if a plurality of transmission cables 1 receive external forces at every manufacturing process when formed into an assembled cable, since each transmission cable 1 is covered with the cushion material 1 as the outermost layer, the deformation of the signal wire 3 is alleviated, the damage to each signal wire 3 is alleviated, and the fluctuations of the internal skew are reduced.例文帳に追加

複数本の伝送ケーブル１が集合ケーブル化されるときに各工程で外力を受けても、各伝送ケーブル１はクッション材１３の最外層で被覆されているので、信号線３の絶縁層５の変形が軽減され、各信号線３に与えるダメージが軽減され、対内スキューのバラツキが少なくなる。 - 特許庁

The MHLW will also consider inspection items at the time of importation for steady execution of the Positive List system, which in general prohibits sales of food products containing amounts of residual agricultural chemicals etc. that exceed the amount determined as not causing health damage (hereinafter simply referred as “the Positive List system”), and will also request the promotion of safety measures during the production, manufacturing and processing (hereinafter referred to as “the production process”) stages in exporting countries and, as necessary, conduct on-site inspections in exporting countries to confirm the management of residual agricultural chemicals, etc.例文帳に追加

また、引き続き農薬等が人の健康を損なうおそれのない量として定められる量を超えて残留する食品の販売等を原則禁止するいわゆるポジティブリスト制度（以下「ポジティブリスト制度」という。）の着実な施行のため、輸入時の検査項目について検討する。 - 厚生労働省

To provide a manufacturing apparatus and a manufacturing method of a plasma display device, in which reduction in damage to the substrate is made possible by eliminating electrification on the substrate, that is generated at sandblast process and partition wall of high manufacturing yield, high quality and high precision can be made, and also low cost and high quality display can be realized.例文帳に追加

サンドブラスト時に発生する基板への帯電を解消することにより、基板へのダメージ軽減を可能とし、高歩留りで高品質及び高精度な隔壁を形成することができ、低コストで高品位な表示を可能とするプラズマディスプレイ表示装置の製造装置および製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for splitting a semiconductor package, by which not only the productivity can be drastically improved by making the damage occurrence rate of the semiconductor package zero, but also the semiconductor package having high quality can be produced while manufacturing cost is considerably reduced by integrating vacuum stations, in a process where the package is split.例文帳に追加

単数化工程時、半導体パッケージの傷つけ率をゼロ化し、生産性を顕著に向上させることは勿論、バキュームステーションを単一化して製作単価を大いに低くしながらも高品質の半導体パッケージを生産することができる半導体パッケージの単数化方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor element capable of preventing overlap of a doped region by cell channel ion implantation with a junction region by source/drain ion implantation and damage of a substrate in isotropic etching for formation of a valve pattern of a valve-shaped recess, improving refreshing characteristics of the element, and stabilizing a process.例文帳に追加

セルチャネルイオン注入によるドーピング領域とソース／ドレインイオン注入による接合領域とのオーバーラップ、及び、バルブ型リセスのバルブパターン形成のための等方性エチング時の基板の損傷を防止し、素子のリフレッシュ特性の改善及び工程の安定化が可能な半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide the process of polishing a multilayer wiring board with a polishing material and a polishing method in which damage is not given to a wiring board circuit, in which an elongation ratio of a wiring board is low, in which high polishing force is provided, and in which such performance that polishing irregularity will not be generated even when the wiring board has irregularities is provided.例文帳に追加

多層配線基板を研磨する工程において、配線基板回路に損傷を与えず、配線基板の伸張率が低く、高い研磨力を持ち、かつ、配線基板に凹凸があっても研磨ムラを生じない性能を有する研磨材と研磨方法を提供しようとするものである。 - 特許庁

To improve the TFT characteristics by reducing amount of hydrogen H_2 to be taken into a semiconductor thin film without any damage on the semiconductor thin film, in the plasma discharge process which is executed by the P-CVD apparatus for lift-up of a glass substrate having formed a semiconductor thin film from a lower electrode.例文帳に追加

Ｐ−ＣＶＤ装置により、半導体薄膜を成膜したガラス基板を下部電極からリフトアップする際に行うプラズマ放電処理において、成膜した半導体薄膜へダメージを与えることなく、また、半導体薄膜に取り込まれるＨ_2の量を少なくして、ＴＦＴ特性の向上を図る。 - 特許庁

To reduce as much as possible a probability of a glass substrate damage starting from a vent hole during a heat treatment process by evaluating and rationalizing suitably a surface condition of an internal circumferential surface of the vent hole formed on the glass substrate for a flat panel display such as a PDP and FED.例文帳に追加

ＰＤＰ用やＦＥＤ用に代表されるフラットパネルディスプレイ用のガラス基板に形成される排気孔の内周面の面性状を好適に評価した上で適正化して、熱処理工程を実行する際における排気孔を起点とするガラス基板の破損の発生確率を可及的に低減させる。 - 特許庁

To provide a method and a system for stopping insurance contracts that allows automatically stopping, upon the expiration of a rental contract, associated damage insurance such as fire insurance tailored to tenants of rental buildings, and reliably and securely operating such a process.例文帳に追加

賃貸建物入居者向け火災保険等の損害保険について、貸借契約の終了に伴ってこれに付帯する損害保険を自動的に停止することが可能であり、かかる処理を確実かつ安全に運用することが可能な保険契約停止方法及び保険契約停止システムを提供する。 - 特許庁

Substrate splices and defects are detected prior to reaching the coating position such that a feed-forward controller is able to momentarily retract the coating head both avoiding slot die damage and avoiding interruption of the coating process, yet the apparatus is able to return the coating head, with high precision, to its prior position once the splice or defect has passed.例文帳に追加

基材スプライス及び欠陥が塗布位置に到達する前に検知されるため、フィードフォーワード制御装置が塗布ヘッドを一時的に格納することにより、スロットダイの損傷を回避しつつ塗布プロセスの中断を避けることができるとともに、この装置によれば、スプライス又は欠陥が通過した後、塗布ヘッドをその元の位置に高精度で戻すことができる。 - 特許庁