「damage process」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an aqueous reducing composition for the first step of a process to permanently reshape the hair, generating strong and long acting curling action but hardly causing damage on the hair.例文帳に追加

強くかつ持続性のあるカーリング作用を生じるが毛髪へのダメージは少ない、パーマネントリシェイプ施術の第一段階のための水性還元組成物の提供。 - 特許庁

To provide a furnace building process for building a refractory brick layer in a furnace such as a converter and a refining furnace used for non-ferrous smelting, allowing little damage of refractory bricks caused by spalling.例文帳に追加

非鉄製錬用転炉や精製炉などの非鉄製錬用の炉において、スポーリングによる耐火煉瓦の損傷の少ないの耐火煉瓦層を築炉する方法を提供する。 - 特許庁

To prevent electrical static damage of the capacity insulation film of a capacitor due to static electricity in the manufacturing process of a semiconductor device having the capacitor of an MIM structure.例文帳に追加

ＭＩＭ構造のキャパシタを有する半導体装置の製造工程において、帯電による上記キャパシタの容量絶縁膜の帯電破壊を簡便な手法で防止する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of improving handleability in an assembly process of a semiconductor chip and capable of suppressing damage of the semiconductor chip.例文帳に追加

半導体チップの組立工程におけるハンドリング性を向上し、しかも、半導体チップの損傷を回避する半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor memory element capable of preventing damage of etching by protecting a tunnel insulating film exposed upon a gate pattern etching process.例文帳に追加

ゲートパターンエッチング工程の際に露出するトンネル絶縁膜を保護してエッチング損傷を防止することが可能な半導体メモリ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor laser in which the contamination or damage of edges caused during a manufacturing process is suppressed, and the semiconductor laser obtained by the method.例文帳に追加

製造工程中に被る端面の汚染や損傷を抑制するようにした半導体レーザの製造方法及びこれによって得られる半導体レーザを提供すること。 - 特許庁

To reduce damage on a semiconductor layer due to irradiation with an electron beam for forming a low resistance p-type layer in the fabrication process of a III nitride based compound semiconductor element.例文帳に追加

III族窒化物系化合物半導体素子の製造過程において低抵抗p型化する際の電子線照射によって半導体層が受けるダメージを低減する。 - 特許庁

Looking at the Japanese economy, it suffered serious damage in the wake of the Great East Japan Earthquake which occurred on March 11 last year, just in the middle of the recovery process from the recession following the Lehman crisis. 例文帳に追加

日本経済について見れば、リーマン危機後のマイナス成長からの回復過程において昨年3月11日に起きた東日本大震災のダメージは大きかった。 - 財務省

To form a silicide layer without giving any damage to a semiconductor substrate in a process for forming a silicide region and a non-silicide region of an MOS (metal oxide semiconductor) transistor employing silicide technique.例文帳に追加

サリサイド技術を用いてＭＯＳトランジスタのシリサイド領域及び非シリサイド領域を形成する工程において、シリサイド層を半導体基板へのダメージなく形成する。 - 特許庁

To provide a heat treatment method and a heat treatment apparatus which can prevent the occurrence of a process damage, while suppressing diffusion of an implanted impurity.例文帳に追加

注入された不純物の拡散を抑制しつつもプロセスダメージの発生を防止することができる熱処理方法および熱処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and a process cartridge where damage or soiling of a light guide due to contact with transfer material and furthermore soiling of an image on the transfer material can be prevented.例文帳に追加

転写材の接触によるライトガイドの傷つきや汚れ、さらに転写材上の画像の汚れを防止し得る画像形成装置およびプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of a resin component for fluidic devices which can secure the dimensional accuracy of a product even in a complicated shape and in which the possibility of causing the damage of a mold is small.例文帳に追加

複雑な形状であっても製品の寸法精度を確保でき、且つ、型の破損を招くおそれが少ない流体機器用樹脂部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for packaging electronic components having bumps and a structure for packaging electronic components having bumps for preventing the occurrence of damage in an ultrasonic junction process.例文帳に追加

超音波接合過程におけるダメージ発生を防止することができるバンプ付電子部品の実装方法およびバンプ付電子部品の実装構造を提供すること。 - 特許庁

To provide a production method in a freezing or freeze-drying process of a microorganism biomass by which the damage or extinction of the biomass is prevented and which provides a high survival rate.例文帳に追加

菌体の損傷又は死滅を防止し、高い生残率を有する、微生物菌体の凍結又は凍結乾燥工程における製造方法を提供する。 - 特許庁

A method for promoting wound or tissue damage healing includes a process for irradiating an affected part with multicolor radiation in wavelength in a range of about 405-904 nm.例文帳に追加

創傷または組織損傷の治癒を促進する方法が、略４０５から９０４ｎｍの範囲の波長内の多色放射で患部を照射する工程を含む。 - 特許庁

Since the resist can be removed at a normal temperature, damage to the substrate is small, and since this process does not use any chemical; the load onto the environment is reduced markedly.例文帳に追加

この発明は常温でのレジスト除去が可能なため、基板へのダメージが小さく、また薬品を一切使用しないプロセスであるため環境負荷が大幅に低減できる。 - 特許庁

Since the alignment mark structure protects the alignment mark against damage and prevents the alignment mark from being deteriorated through CMP process, definite quality of the alignment mark 102 can be sustained visually.例文帳に追加

このアライメントマーク構造によってアライメントマークが損なわれかつＣＭＰプロセスによって劣化するのを防止するため、アライメントマークの視覚的に明瞭な品質が保たれる。 - 特許庁

To provide a nitride semiconductor device and its manufacturing method which minimize crack and damage to be generated in a nitride semiconductor unit element, when a laser lift-off process is performed.例文帳に追加

レーザリフトオフ工程時、窒化物半導体単位素子に発生するクラックや損傷を最小限にする窒化物半導体素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A protection layer 31t is formed on a hard mask, or a non-oxidized resist strip process is used, so as to avoid the damage of oxidization to the lower hard mask layer 31.例文帳に追加

ハードマスクに保護層３１ｔを形成することにより、あるいは非酸化レジスト・ストリップ・プロセスを用いることにより、下部ハードマスク層３１に対する酸化ダメージを回避する。 - 特許庁

To prevent oxidation, contamination or damage of a surface of a carrier injection layer constituting a group III nitride semiconductor HEMT which contacts a surface protective film in steps of a manufacturing process.例文帳に追加

III族窒化物半導体HEMTを構成するキャリア注入層の、表面保護膜と接する面が製造工程の過程において酸化、汚染及び損傷されない。 - 特許庁

To provide an etching method which simplifies a manufacturing process, and eases damage to mesa side walls to enable the manufacturing of a semiconductor with reduced current leakages.例文帳に追加

製造工程を簡素化できると共に、メサ側壁に与えるダメージを軽減して、リーク電流が低減された半導体素子を製造できるエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process for removing an organic layer easily and surely using ozone and water vapor without causing any damage on a metal layer.例文帳に追加

オゾンと水蒸気とを用い、金属層にダメージを与えずに、簡易で確実に有機物層の除去を行なうことができる有機物層の除去方法を提供する。 - 特許庁

A nondestructive process for an evaluation of the subsurface damage of the optical element comprises to measure a reflection light intensity by focusing a microscope onto a point of the optical element.例文帳に追加

光学素子の表面下の損傷を評価するための非破壊的なプロセスは、光学素子内の点に顕微鏡の焦点を合わせ、反射光の強度を測定する。 - 特許庁

To prevent damage to a semiconductor element due to a load in a manufacturing process or in use, in tags or cards embedded with a semiconductor device with an ID function.例文帳に追加

ＩＤ機能を持った半導体装置が埋め込まれたタグまたはカード類において、製造工程中や使用中の負荷によって生じる、半導体素子の破損を防止する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an image sensor which can prevent damage on hard micro lenses in a subsequent process such as packaging and bumping by forming the lenses with an inorganic matter.例文帳に追加

無機物でハードマイクロレンズを形成することで、後続のパッケージング及びバンピングなどの工程によるマイクロレンズの損傷を防止できるイメージセンサの製造方法とする。 - 特許庁

To completely suppress peeling of interlayer film resulting from weakness in strength of close contact of a low-k film and damage generated during the dicing process.例文帳に追加

本発明は、ｌｏｗ−ｋ膜の密着強度の弱さやダイシング時のダメージに起因する、層間膜剥がれを抑制できるようにすることを最も主要な特徴としている。 - 特許庁

To provide an organic resin coating metal plate not containing a lubricant for causing a damage or adhesion of foreign matter in a film-like organic resin and to provide a process of manufacturing the same.例文帳に追加

フィルム状の有機樹脂中に傷付きや異物付着の原因となる滑剤を含有していない有機樹脂被覆金属板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lithographic material excellent in dirt resistance and printing quality in printing, excellent in damage resistance and printing resistance and using a silver complex salt diffusion transfer process.例文帳に追加

印刷時の耐汚れ性及び印刷画質に優れ、且つ耐傷性、耐刷性に優れた、銀錯塩拡散転写法を用いた平版印刷材料を提供することである。 - 特許庁

In one company that was producing/exporting ECU, airflow sensor, and power module for inverter stopped the production temporarily due to the damage, but has now almost completed the recovery process by the end of March.例文帳に追加

ECU、エアフローセンサー、インバーター用パワーモジュールを生産・輸出している企業も、被災により一時生産を見合わせていたが、3 月中にはおおむね復旧を完了している。 - 経済産業省

Then, in the damage determination process, damage determination means 4 which receives the flaw detection signal to be output from the eddy current flaw detector 3 determines that there is the damage in the screen 25 when the maximum value of an X direction component signal or the maximum value of a Y direction component signal in the flaw detection signal exceeds thresholds to be preset to each signal.例文帳に追加

そして、損傷判定工程では、渦流探傷器３から出力される探傷信号を受信した損傷判定手段４は、探傷信号における、Ｘ方向成分信号の最大値またはＹ方向成分信号の最大値が、それぞれの信号に予め設定される閾値を超える場合に、スクリーン２５に損傷があると判定する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a circuit board wherein a via hole is formed by a laser beam without giving a damage to the surface of a solder resist layer as well as in the process which removes the resin smear adhered to the via bottom without giving a damage on the surface of a solder resist layer.例文帳に追加

レーザー光により、ソルダーレジスト層の表面にダメージを与えることなくビアホールを形成することができ、かつ、ビア底に付着したスミアを除去する工程においても、ソルダーレジスト層表面のダメージを与えない回路基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a fixing device that detects damage of a fixing member itself and performs a fixing process to a recording medium according to the degree of damage of the fixing member in a fixing device of an electromagnetic induction heating system.例文帳に追加

電磁誘導加熱方式の定着装置において、定着部材自身の破損を検知することができる定着装置であって、当該定着部材の破損程度に応じて記録媒体への定着工程を実施することが可能な定着装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus designed such that a process cartridge with a separation member remaining attached thereto is transported while kept attached to the image forming apparatus, and that failure such as damage to a drive train for driving the process cartridge is restrained.例文帳に追加

本発明は、離隔部材を作用させたままプロセスカートリッジを画像形成装置に装着して輸送する事ができ、プロセスカートリッジを駆動する駆動列の破損等の不良を抑制できる画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a flash memory cell wherein an increase in thickness of an oxide film in a dielectric film can be restrained in a heat treatment process for compensating etching damage after an etching process for forming a stack gate is performed.例文帳に追加

スタックゲートを形成するためのエッチング工程を行った後、エッチング損傷を補償するための熱処理工程で誘電体膜内の酸化膜の厚さ増加を抑制することが可能なフラッシュメモリセルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus with a detachable process cartridge in which the occurrence of charging failure and excessive discharge can be eliminated, and damage to a latent image carrier 10 can be reduced even when a process cartridge C and the main body 20 of the image forming apparatus are replaced and used.例文帳に追加

プロセスカートリッジ着脱方式の画像形成装置について、プロセスカートリッジＣや画像形成装置本体２０を交換して使用した場合においても帯電不良や放電過多の発生をなくして潜像担持体１０へのダメージを減らす。 - 特許庁

To provide a process cartridge in which damage to an image carrier can be prevented by a simple constitution without a cost increase and miniaturization can be realized, and to provide an image forming apparatus which can be miniaturized by attaching the process cartridge to the apparatus.例文帳に追加

コストアップを招くことなく、像担持体の損傷を簡易な構成により防止することができ、かつ、小型化を図ることができるプロセスカートリッジ、および、そのプロセスカートリッジを装着して、小型化を図ることができる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a process for producing terminal electrodes of chip-like electronic parts which is capable of uniformly and thinly forming the terminal electrodes on the surfaces of chip substrates, enabling the formation of the finer terminal electrodes, does not damage the surfaces of electronic parts and is simple in the process.例文帳に追加

チップ基板表面に端子電極を均一に薄く形成することができ、端子電極の微細化が可能で、電子部品表面にダメージを与ず、かつ、工程の単純な、チップ状電子部品の端子電極の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technique for feeding back damage distribution computation owing to ion radiation in a real pattern and process such as 100 nm scale to the process development of a device within realistic computation time such as several hours or several days.例文帳に追加

本発明は、１００ｎｍスケールという実パターンおよび実プロセスにおけるイオン照射によるダメージ分布計算を数時間、数日間といった現実的な計算時間内でデバイスのプロセス開発にフィードバックする手法を提供することを可能にする。 - 特許庁

To provide a production process of a solar cell element in which cost reduction is realized by protecting a solar cell element substrate against damage when etching residue is removed after micro protrusions/recesses are formed by dry etching thereby preventing the yield of process from lowering.例文帳に追加

ドライエッチングにより微細な凹凸を形成したときのエッチング残渣を除去するときに、太陽電池素子基板にダメージが入ることを防止し、工程の歩留まりの低下を防いで低コスト化を実現した太陽電池素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an operation control method for a washing-drying machine wherein the time for the completion of a drying process can be estimated, a fabric damage of laundry can be prevented from occurring by preventing the inside of a tank from becoming a high temperature even when a drying process is advanced, and of which the usability is favorable.例文帳に追加

乾燥行程が終了する時間を予測でき、乾燥行程が進行しても槽内が高温になることを防止して洗濯物の布傷みを防ぐことができ、使い勝手のよい洗濯乾燥機の運転制御方法を得る。 - 特許庁

An evaluation method has a process obtaining correlation of parameter indicating irradiation damage and hardness of a material identical to a member receiving irradiation, a process measuring the hardness of the member after exposed to radiation, and a process obtaining a parameter value of the member from the hardness of the member after exposed to the radiation and the correlation.例文帳に追加

照射を受ける部材と同等の材料について、照射損傷を表すパラメータと硬さとの相関関係を求める工程と、部材の放射線照射後の硬さを測定する工程と、部材の放射線照射後の硬さと相関関係とから当該部材のパラメータの値を求める工程と、を有する。 - 特許庁

In a process forming the MOS device on the main face of a silicon wafer, before wafer processing by the process device (an etching device, an ashing processing device, a sputter device and a CVD device) using the plasma, an insulating film is previously formed on the wafer rear face and reduces damage to the device caused by the process device using the plasma.例文帳に追加

シリコンウェハ主面にＭＯＳデバイスを形成するプロセスにおいて、プラズマを用いるプロセス装置（エッチング装置、アッシング処理装置、スパッタ装置、ＣＶＤ装置）によるウェハ加工前に、予めウェハ裏面に絶縁膜を形成しておき、プラズマを用いるプロセス装置起因によるデバイスヘのダメージを低減する。 - 特許庁

To provide the manufacture of a glass enclosure which enables lower- temperature of shorter-time getter activation by making smaller the damage that a non-vaporizable type getter has at the time of sealing and which preferably allows a vacuum baking process, essential for a manufacturing process for a glass enclosure wherein a vacuum is maintained inside, to serve also as a getter activating process.例文帳に追加

非蒸発型ゲッタが封着時に受けるダメージを、より小さくして、より低温、または、より短時間のゲッタ活性化を可能とし、更に好ましくは、内部を真空維持するガラス外囲器の製造工程に不可欠な、真空ベーキング工程がゲッタ活性化工程を兼ねることができるガラス外囲器の製造方法を提供する。 - 特許庁

To positively prevent the generation of coating damage in the heating process even in a high speed manufacturing line, to obtain an excellent resin coated DI can body with a quality without coating damage, and to dispense with degreasing cleaning after DI processing, and also to simplify the manufacturing processes.例文帳に追加

高速製造ラインであっても加熱工程での皮膜損傷の発生を確実に防止でき、皮膜損傷のない品質に優れた樹脂被覆ＤＩ缶体を得ることができ、且つＤＩ加工後の脱脂洗浄の必要もなく、しかも製造工程を単純化する。 - 特許庁

To provide a novel composition for treating articular cartilage damage constituted of a readily available cell and a biocompatible polymer, considering that treating methods of articular cartilage damage developed heretofore require a process for extracting bone marrow and have many problems from the viewpoints of operation processes and effects.例文帳に追加

これまでに開発された関節軟骨損傷の治療方法では、骨髄採取過程を必要とし、施術過程と効果面において多くの問題点を有しており、容易に得られる細胞及び生体適合高分子から構成される新しい関節軟骨損傷治療用組成物の提供。 - 特許庁