「damage process」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a wiring substrate, a connection substrate, a semiconductor device and their production method in which production process can be carried out without requiring an expensive facility while eliminating damage on the package, and to provide a circuit substrate and an electronic apparatus.例文帳に追加

高額な設備なしで工程を行うことができ、パッケージへのダメージをなくす配線基板、接続基板、半導体装置及びこれらの製造方法、回路基板並びに電子機器を提供する。 - 特許庁

To restrain increase of EOT(Equivalent Oxide Thickness) involved in treatment process for improving film quality of a tantalum pentoxide film and prevent generation of plasma damage.例文帳に追加

５酸化タンタル膜の製造方法に関し、５酸化タンタル膜の膜質向上のための処理工程に伴う酸化膜容量換算膜厚ＥＯＴの増加を抑制するとともに、プラズマダメージの発生を防止する。 - 特許庁

To prevent deformation or deterioration in precision in a working process of a thin layered fixing roller and deterioration in strength, deformation or damage in the fixing roller at rotational driving force transmission.例文帳に追加

薄肉化した定着ローラの加工工程における変形や精度の低下、並びに回転駆動力伝達時における定着ローラの強度の低下や変形および破損の防止を可能とする。 - 特許庁

To provide a method of forecasting quantitatively a damage inflicted to an insert by the heat, pressure or shear stress of an injection material, in an injection material filling process, and a device using this method.例文帳に追加

射出材料の熱や圧力もしくはせん断応力によって発生する射出材料充填工程におけるインサート物の損傷を定量的に予測する方法および装置を提供すること。 - 特許庁

To eliminate necessity of a manager storing a rejected banknote discriminated as a defective due to damage etc. in a money depositing process, and to treat it as money deposition information of a device in a closing operation.例文帳に追加

入金処理時に汚損等により金種不明と鑑別されたリジェクト紙幣結局責任者等が保管する必要をなくし、締上げ時にも装置の入金情報として扱うことを可能にする。 - 特許庁

To provide a method for producing a surface-emitting laser capable of aligning a center axis of a surface relief structure with that of a current confinement structure with high precision to reduce a surface damage during the producing process.例文帳に追加

表面レリーフ構造と電流狭窄構造との中心軸を高精度に位置合わせでき、作製過程において、表面への損傷の軽減が可能な面発光レーザの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a washing device capable of preventing damage of a substrate caused by drooping of the substrate, by performing a washing process of the substrate while maintaining the substrate in a floating state using a floating unit.例文帳に追加

フローティングユニットを用いて基板をフローティング状態に維持したままで基板の洗浄工程を行うことによって、基板の垂れによる破損を防止することができる洗浄装置を提供する。 - 特許庁

To obtain a cleaning apparatus capable of stably cleaning a residue on an image carrier over a long period and suppressing the damage of the image carrier as much as possible, and to obtain a process unit and an image forming apparatus.例文帳に追加

長期的に安定して像担持体上での残留物を清掃することができ、かつ、像担持体へのダメージを極力抑制することのできるクリーニング装置、プロセスユニット及び画像形成装置を得る。 - 特許庁

To provide an optical head device and its manufacturing method capable of preventing damage in a flexible substrate even when position adjustment work for a light-emitting element during a manufacturing process is made with the light-emitting element lit.例文帳に追加

製造途中で発光素子を点灯させての発光素子の位置調整作業を行う場合でも、フレキシブル基板の損傷を防止可能な光ヘッド装置およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a new method of evaluating the life of a material for grasping a damage process of the material prior to the occurrence of fatigue crack, and a method for preventing fatigue failure of the material from occurring.例文帳に追加

疲労亀裂発生前に材料の損傷過程を捉えることのできる新規な材料の寿命評価方法を提供するとともに、材料の疲労破壊を未然に防止する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process cartridge which achieves facilitation of exchanging operation, prevention of the waste of resources and further restraint of damage of a latent image carrier, and an image forming apparatus and an image forming method.例文帳に追加

交換作業を容易に行うことができ、資源の無駄も防止でき、さらに、潜像担持体が傷つくのを抑制することのできるプロセスカートリッジ、画像形成装置および画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor whose mechanical strength such as wear resistance and damage resistance is excellent and whose repetitive stability is high and a process cartridge and an electrophotographic device possessing the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加

耐摩耗性および耐傷性の機械的強度が強く、かつ、繰り返し安定性に優れた電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing device and a manufacturing method of a wire harness wherein wiring works can be done easily with good workability without giving damage, and working process can be reduced drastically.例文帳に追加

損傷を与えることがなく、極めて容易に配策を行えるようにすることによって作業性に富み、工数を大幅に削減することができるワイヤハーネスの製造装置及び製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a multilayer wiring board structure and a manufacturing method thereof which ensure high reliability and superior electrical characteristics by reducing or avoiding any detachment or damage of resins during the mechanical cutting process.例文帳に追加

機械的な切断時の樹脂の剥離や損傷を軽減もしくは回避することにより、信頼性が高く、かつ電気的特性に優れた多層配線基板の構造及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To suppress the damage of a magnetic element and to prevent oxidation of a conductive member existing in a lower layer without using an ashing process for processing a lower electrode film when a semiconductor device equipped with the magnetic element is manufactured.例文帳に追加

磁気素子を備えた半導体装置の製造で、磁気素子のダメージを抑止し、下部電極膜の加工に灰化処理を用いないことで下層に存する導電部材の酸化を防止する。 - 特許庁

To provide a sheet post-processing apparatus that performs a neatly squaring process of a folding top part without any damage such as a wrinkle on a booklet spine, and to provide an image forming apparatus with the same.例文帳に追加

冊子の背部にしわといったダメージを与えることなく折り頂部を見栄え良く角付け処理するシート後処理装置およびこれを備えた画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for producing a diamond particle dispersion type metal-matrix composite material of superior quality, by reducing damage to diamond particles in the production process through using a discharging plasma sintering method.例文帳に追加

放電プラズマ焼結法を利用することにより、製造過程でのダイヤモンド粒子のダメージを少なくし、品質の優れたダイヤモンド粒子分散型金属基複合材料を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a metallic composite material having high thermal conductivity, with which damage to dispersed grains in the manufacturing process is reduced by utilizing an electro-discharging plasma sintering method.例文帳に追加

放電プラズマ焼結法を利用することにより、製造過程での分散粒子のダメージを少なくし、高い熱伝導率を有する金属基複合材料を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a multicolor printer which prevents damage to the surface of printing sheet during printing process or prevents varnish from accumulation in a sheet paper guide cylinder, and to provide a method for operating the multicolor printer.例文帳に追加

印刷プロセス中に印刷枚葉紙の表面の損傷を防止するか又は枚葉紙案内胴におけるニス堆積を防止する多色印刷機及び多色印刷機を運転する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a single or multiple gate field plate which can realize a device with a field plate, without a dry or wet etching process not doing much damage to a dielectric material.例文帳に追加

誘電性材料に与えるダメージの少ない乾式または湿式エッチングプロセスを用いることなく、フィールドプレートされたデバイスを実現できるシングルゲートまたはマルチゲートフィールドプレートの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a stress relief method of a silicon substrate that has an inexpensive process and no thermal damage, and can reduce an environment load in the stress relief for the silicon substrate.例文帳に追加

シリコン基板を対象としたストレスリリーフにおいて、低コストのプロセスで熱ダメージがなく、且つ環境負荷を低減することが可能なシリコン基板のストレスリリーフ方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method and a device for manufacturing a piezoelectric film structure for MEMS element capable of sufficiently protecting a piezoelectric film formed on a substrate against damage or contamination in a manufacturing process.例文帳に追加

基板上に形成された圧電膜が製造プロセス中の損傷あるいは汚染などから十分保護され得る、ＭＥＭＳ素子用圧電膜構造を製造するための方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide an art reducing the damage of hemocyte components in a blood supply process of a blood supply pump in the medical care to a hollow fiber membrane in particular and capable of uniformly supplying the blood to the hollow fiber membrane.例文帳に追加

医療における送液ポンプ、特に中空糸膜に対する送血行程における血球成分の損傷の低減及び、中空糸膜への均一な送血が可能となる技術を提供する。 - 特許庁

To eliminate the need for heat treatment over a long time in the impurity diffusion process while protecting a tunnel insulation film against damage due to implantation of impurity ions using a gate electrode as a mask.例文帳に追加

ゲート電極をマスクとした不純物イオンの注入によるトンネル絶縁膜への損傷を防止しながら、不純物拡散工程における長時間にわたる熱処理を不要にできるようにする。 - 特許庁

In molding this slurry and sintering the molding, the sintering temperature can be lowered by the effect of B, the damage on a sintering furnace can be prevented and the cost over the entire part of process steps can be reduced.例文帳に追加

このスラリーを成形して焼結する際には、Ｂの働きによって焼結温度を低下でき、焼結炉へのダメージを防止できるとともに工程全体で低コスト化を図ることができる。 - 特許庁

(1) Any person who, without the consent of the owner of the patent, manufactures or imports objects protected by the patent or uses the patented process, shall be liable for the damage and prejudice caused.例文帳に追加

(1) 特許権者の承諾を得ないで，特許が保護する対象物を製造し又は輸入する又は特許方法を使用した者は，これより生じた損害及び不利益を賠償する責任を有する。 - 特許庁

To improve wear resistance of a coated small-diameter member, by avoiding defect and damage of a hard film in an edge part due to plasma generated in a hard film coated process, and by maintaining adhesion of the film.例文帳に追加

硬質皮膜被覆プロセスで発生するプラズマによるエッジ部での硬質皮膜の欠陥やダメージを回避し、皮膜の密着性を維持し、被覆小径部材の耐摩耗性を改善することである。 - 特許庁

To provide a shock-absorbing material for preventing any hitting damage caused by the carriage from the manufacturing process of steels and steel tubes to the shipping, in particular, the contact with steels and steel tube products with a pillar such as a frame.例文帳に追加

鋼材、鋼管の製造過程から出荷に至るまでの搬送、特に枠などの柱との鋼材・鋼管製品との接触による当たり疵を防止するための緩衝材を提供する。 - 特許庁

To provide an X ray mask which is not susceptible to damage at the time of handling or transportation because a thin film is not used as a mask blank and which can be produced conveniently because an etching process of Si substrate is not used.例文帳に追加

マスクブランクとして薄膜を使用しないことにより取扱いや運搬時に破損しにくく、またＳｉ基板のエッチング工程がないため簡易に製造できるＸ線マスクを提供する。 - 特許庁

To provide an undercoating treatment process for a cut part of an inorganic base plate, by which the waterproofness and adhesion to a coating film of the cut part can be improved and also excellent frost damage resistance of the inorganic base plate can be realized.例文帳に追加

無機質基板の切削加工部の防水性および塗膜との密着性を向上させ、優れた耐凍害性をも実現できる無機質基板の切削加工部下地処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a high-density-recording magnetic recording medium that avoids the thermal deformation of a substrate in a film formation process, damage, or the like and, especially, forms a magnetic layer on the substrate made of a plastic film.例文帳に追加

成膜工程における基体の熱変形や破損等の発生を回避し、特にプラスチックフィルムよりなる基体上に磁性層が形成された構成の高密度記録の磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a movable gate type field-effect transistor that employs a sacrificial layer process of removing a sacrificial layer at a low cost in a short period of time without causing damage, and improves mass-productivity.例文帳に追加

ダメージを生じさせることなく、安価かつ短時間に犠牲層を除去する犠牲層プロセスを採用し、量産性を向上させる可動ゲート型電界効果トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

A spin-on low-k CMP protective layer 5 prevents a damage which may occur on the low-k dielectric 3 due to an uneven CMP process from the center to an edge or in an area varied in metal density.例文帳に追加

スピンオン低ｋＣＭＰ保護層５は、中央部からエッジへのまたは金属密度が変化する領域におけるＣＭＰプロセスの非均一性のために生じ得る低ｋ誘電体３へのダメージを阻止する。 - 特許庁

To provide a probe card in which concentration of current of the probe card used for a test process in manufacture of a semiconductor device of SOC (System On Chip) consuming large current is prevented and damage of concentration is prevented.例文帳に追加

大電流を消費するＳＯＣ(System On Chip)などの半導体装置の製造における試験工程に用いるプローブカードの電流集中を防いでその損傷を防ぐプローブカードを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a liquid crystal unit which can surely work a panel shape to the desired one as well as prevent a panel structure from any damage due to a board cracking, etc., in shaping process of the liquid crystal panel.例文帳に追加

液晶パネルの外形加工時において、確実にパネル外形を所望の形状に加工できるとともに基板割れなどによるパネル構造の損傷を防止することのできる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor optoelectronic device in which chipping of die can be prevented effectively, wear and damage of a cutting tool can be reduced greatly, and the yield of dicing process can be enhanced.例文帳に追加

ダイのチッピングを効果的に防止できると共に、切削工具の摩耗や損害の程度を大幅に低減でき、且つダイシング工程の歩留まりを向上できる半導体光電子装置を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering system by which damage given to a film in the process of film formation is reduced, a thin film uniform in film characteristics and film thickness can be formed at a high speed, and the material of a target can effectively be utilized.例文帳に追加

成膜中に膜に与えるダメージが小さく、膜特性および膜厚が均一な薄膜を高速で形成でき、さらにターゲットの材料を有効利用できるスパッタ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a production process and its molding unit for easily and stably molding optical elements without damage to the mold and the glass material by exactly knowing the deformation behavior of the glass material.例文帳に追加

ガラス素材の形状変化を把握し、型およびガラス素材に損傷なく簡易に安定して成形加工できる光学素子の成形方法およびその成形装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To obtain a calcium silicate hydrate which keeps a strength property as a building material and simultaneously satisfies water repellency, resistance to water permeability, and freeze-damage resistance without increasing a manufacturing process.例文帳に追加

本発明の目的課題は、製造工程が増やさずに建築材料としての強度物性を維持して撥水性、耐透水性、耐凍害性を同時に満足した珪酸カルシウム水和物を得るにある。 - 特許庁

To provide a high-precision hole and trench fabrication process in organic siloxane insulating film that gives no damage by an asher to the organic siloxane insulating film and causes none of problems of shape deterioration or foreign matter.例文帳に追加

有機シロキサン系絶縁膜にアッシャによるダメージを与えることがなく、かつ形状劣化や異物の問題を起こすことのない、有機シロキサン系絶縁膜の高精度な孔溝加工プロセスを提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a printed board with which an electrolytic deposition process can be suitably performed on specific terminal electrodes while suppressing damage and generation of stubs in the specific terminal electrodes.例文帳に追加

特定の端子電極における損傷やスタブの発生を抑えつつ、この特定の端子電極に対して好適に電解メッキ処理を実施できるプリント基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To cope with high speed processing while preventing damage caused by the bite-in of an article in up-belt or down-belt type sorting equipment for vertically sorting a supply article from an upstream process.例文帳に追加

上流工程からの供給物品を上下に振り分けするアップベルト式やダウンベルト式の振分装置において、物品の噛み込みによる破損を防止しながら、高速処理への対応を図る。 - 特許庁

To provide a thin-film transistor giving no damage to a semiconductor layer in a process for making conductivity of the semiconductor layer comprising an amorphous oxide including In, Ga, and Zn high, and in an etching process of a source electrode and a drain electrode, and to provide a liquid crystal display using the same.例文帳に追加

Ｉｎ、Ｇａ及びＺｎを含むアモルファス酸化物からなる半導体層の高導電率化工程やソース電極及びドレイン電極のエッチング工程において、半導体層にダメージを与えないような薄膜トランジスタ及びこれを用いた液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing semiconductor device which can prevent a problem in the dual damascene process that, when an SiN film is formed on the wiring including copper hillock, it is formed in unequal thickness, giving a physical and chemical damage resulting from break of SiN film during the process to the wiring.例文帳に追加

デュアルダマシンプロセスにおいて銅ヒロックを有する配線上にＳｉＮ膜を形成すると不均一な膜厚となり、工程中のＳｉＮ膜破れに起因する物理的化学的ダメージを配線に与えてしまうのを防止できる半導体装置の製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, which can suppress damage to a wire in a catalyst process carried out in an electroless plating process using a Co-based material etc., when manufacturing a semiconductor device having wires of Cu etc., and a semiconductor device manufactured by the method.例文帳に追加

Ｃｕなどの配線を有する半導体装置の製造においてＣｏ系材料などの無電解メッキ処理において行われる触媒プロセスでの配線へのダメージを抑制できる半導体装置の製造方法とその方法により製造された半導体装置を提供する。 - 特許庁