「density dependency」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a radiation sensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, dependency on pattern density distribution and surface smoothness.例文帳に追加

感度、解像度、パターン疎密度への依存性、表面平滑性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a heat developable photographic sensitive material excellent in development humidity dependency and having high image density and image stability.例文帳に追加

現像処理湿度依存性に優れ、画像濃度、画像安定性の高い熱現像写真感光材料を提供する。 - 特許庁

Consequently, electron density n_e and electron temperature T_e of the plasma can be calculated from resonance frequency dependency of the electron density n_e and the electron temperature T_e of the plasma.例文帳に追加

これにより、プラズマの電子密度ｎ_e及び電子温度Ｔ_eの共振周波数依存性から当該プラズマの電子密度ｎ_e及び電子温度Ｔ_eを算出することができる。 - 特許庁

An output density correction value selection portion 204 determines an output density correction value of a CMY ink, based on hue of Gy ink which is colorless color material of high optical source dependency.例文帳に追加

出力濃度補正値選択部２０４は、光源依存性の高い無彩色色材であるＧｙインクの色味を基準として、ＣＭＹインクの出力濃度補正値を決定する。 - 特許庁

To obtain a method for forming a fine pattern in which controllability of pattern dimensions can be ensured and dependency on the density of pattern can be controlled.例文帳に追加

パターンの微細化に際して、パターン寸法の制御性を確保することができ、かつ、パターンの疎密依存性を制御できるようにする。 - 特許庁

To reduce medium noise in recording and reproduction and to enhance the dependency of output on recording density.例文帳に追加

記録再生時における媒体ノイズの低減並びに出力の記録密度依存性を向上させた垂直磁気記録媒体を提供することを課題とする。 - 特許庁

Furthermore, the image of high quality is obtained since there is no dependency on voltage from the shaft body side to the developing roller surface side and image density is stably obtained.例文帳に追加

しかも、軸体側から現像ローラ表面側には電圧依存性がないため、画像濃度も安定して得ることができ、高品質の画像得ることができる。 - 特許庁

To provide a nitride semiconductor light emitting element having a structure adjusting dependency of emission efficiency of injected current against current density.例文帳に追加

注入される電流の電流密度に対する発光効率の依存性を調整可能にする構造を有する窒化物半導体発光素子を提供する。 - 特許庁

Consequently, deposition reaction of metal ions with soft acceptor property is accelerated to reduce temperature dependency of writing density of black.例文帳に追加

これにより、軟らかいアクセプター性を有する金属イオンの析出反応が促進され、黒の書き込み濃度の温度依存性を小さくすることができる。 - 特許庁

Since, in the tin-copper alloy plating bath, ditioaniline and a nonionic surfactant are jointly used, a tin-copper alloy film small in current density dependency can be obtd., and an Sn/Cu film compositional ratio can be stabilized in a wide region from low current density to high current density.例文帳に追加

スズ−銅合金メッキ浴にジチオジアニリンと特定のノニオン系界面活性剤を併用するため、電流密度依存性の小さいスズ−銅合金皮膜を得ることができ、低電流密度から高電流密度までの広い領域でＳｎ／Ｃｕ皮膜組成比を安定にできる。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition which ensures improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device and is excellent in preservability at room temperature and in line density dependency.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、更に室温保存性及び疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive-acting photoresist composition having high sensitivity, not causing the deposition of undissolved matter in the preparation of a resist solution or after storage and excellent in density dependency.例文帳に追加

高感度を有し、レジスト液の調製時に、あるいは経時保存後に不溶解物の析出を生じず、疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition which ensure the improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device and is excellent in low temperature preservability and density dependency.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、更に低温保存性及び疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a diffusion transfer type photographic product, having high sensitivity and high maximum density, superior discrimination with an improved white background and having improved temperature dependency in development.例文帳に追加

高感度で、最高濃度が高く、白地の改良されたディスクリミネーションに優れ、かつ現像時の温度依存性が改良された拡散転写型写真製品の提供。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition which ensures the improved edge roughness of a resist pattern in the production of a semiconductor device and is excellent in preservability and density dependency.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、レジストパターンのエッジラフネスが改善され、更に保存性及び疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

Mainly the complexing agents (A) and (B) work so as to eliminate the current density dependency while effectively reducing an electrode potential of zinc and tin, and make zinc and tin smoothly codepositted.例文帳に追加

主に錯化剤（Ａ）と（Ｂ）の作用で亜鉛とスズの電極電位差を有効に縮小させながら、電流密度依存性を排除して亜鉛をスズと円滑に共析化できる。 - 特許庁

To provide a high-temperature superconducting coil where performance of high temperature superconducting wire having magnetic field direction dependency of critical current density is fully exhibited, current density is high, loss of flux flow is small, and a magnetic field which can be used is large.例文帳に追加

臨界電流密度の磁場方向依存性のある高温超電導線材の性能を充分に発揮させて、電流密度が高く、フラックスフローの損失が少なく、利用できる磁場が大きい高温超電導コイルを提供する。 - 特許庁

Concerning this non-linear element 2, the increase quantity of the positive dielectric flux density D corresponding to the electric field E in the dependency of the dielectric flux density D and the electric field E is small in a low electric field area and large in a high electric field area.例文帳に追加

この非線形要素２は、電束密度Ｄと電界Ｅとの依存性において電界Ｅに対する正の電束密度Ｄの増加量が低電界領域において小さく高電界領域において大きい。 - 特許庁

To provide a thermal transfer image receiving sheet having high smoothness, excelling in transfer density, having low environmental dependency in printing, improving density unevenness of a high density part even in high energy printing, having less image blur after the lapse of time of printed matter and preventing the occurrence of rugged unevenness in a part with a large density difference in an image of high contrast.例文帳に追加

高い平滑性を有し、転写濃度に優れ、印画時の環境依存性が小さく、高エネルギー印画時にも高濃度部濃度ムラを改善し、印画物の経時後の画像にじみが少なく、更にコントラストの高い画像において濃度差が大きい箇所での凹凸ムラが発生するのを防止する感熱転写受像シートを提供する。 - 特許庁

Although, with respect to the temperature dependency, the drain current density is rapidly reduced in the vicinity of a range from the room temperature to 150°C in the conventional art, the present invention operates with stability to a temperature of 900°C.例文帳に追加

温度依存性に関しては、従来技術では室温から１５０℃付近でドレイン電流密度は急激に減少したが、本発明では９００℃まで安定して動作した。 - 特許庁

To stabilize a Zn content in an electrodeposited film by effectively eliminating the current-density dependency of the Zn content, in a neutral bath for bright tin-zinc alloy plating, and to impart the film a superior glossy appearance.例文帳に追加

中性光沢スズ−亜鉛合金メッキ浴において、電流密度依存性を有効に排除して電着皮膜のＺｎ組成を安定化させ、優れた光沢外観を付与する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition for exposure with far UV having high resolving power, good fitness for a halftone phase shift mask (side lobe light resistance) and lowered density dependency.例文帳に追加

高い解像力を有し、ハーフトーン位相差シフトマスク適性（サイドロープ光耐性）が良好かつ疎密依存性が低減された遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The judging section 22 extracts a region having a size 7×7 including a target pixel from the image, calculates a total density complexity for four directions, and judges whether or not the ten thousand lines are included in response to the presence or absence of angle dependency of the total density of complexity.例文帳に追加

原稿種別判別部２２は、画像から注目画素を含む７×７の大きさの領域を抽出し、４つの方向についての総和濃度繁雑度を算出し、総和濃度繁雑度の角度依存性の有無に応じて万線を含むか否かを判定する。 - 特許庁

To obtain a positive type photosensitive composition which ensures enhanced dissolution discrimination between non-image and image parts, has high sensitivity and high resolving power, causes no problem on development defects and has excellent density dependency.例文帳に追加

非画像部と画像部の溶解ディスクリミネーションが向上し、高感度および高解像力であり、更に現像欠陥に対して問題が生じず、かつ疎密依存性の優れたポジ型感光性組成物を得る。 - 特許庁

To provide an iron base powdery mixture for powder metallurgy excellent in room temperature and warm fluidity and formability and moreover, small in the temperature dependency of fluidity and green density, and to provide its producing method.例文帳に追加

室温及び温間において、流動性、成形性に優れ、しかも流動性、圧粉密度の温度依存性が小さい、粉末冶金用鉄基粉末混合物およびその製造方法を提案する。 - 特許庁

To provide a positive type photoresist composition having satisfactory sensitivity and resolving power in the formation of a contact hole pattern for the production of a semiconductor device, less liable to generate particles in a resist solution and excellent in line density dependency.例文帳に追加

半導体デバイス製造のコンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にレジスト液中のパーティクルの発生が少なく、疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device, preventing attack on a lower part of an SOG film induced at the time of wet cleaning owing to difference in density of the film which is made by film thickness dependency on hardening process of the SOG film.例文帳に追加

ＳＯＧ膜の硬化時に膜厚さの依存性によって発生する膜の緻密度の差によって、湿式洗浄時誘発されるＳＯＧ膜下部のアタックを防止できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Further, the glass ceramic material has an elastic modulus in addition to a thermal resistance, a low density, and a low coefficient of expansion, and the temperature dependency of the elastic modulus is lower than that of the CFC material and therefore the warpage is less during the period of heating.例文帳に追加

また、ガラス−セラミック材は、耐熱性があり、低密度、低熱膨張を兼備した高い弾性係数を有し、弾性係数の温度依存性は、ＣＦＣ材料より低いので、加熱中の反りが少ない。 - 特許庁

An image with a compensation relationship between colors decreased is formed by each scanning, and by forming an image without the relationship between colors, the dependency of the change of color density and color tone on the change of registration is decreased.例文帳に追加

各走査で補完関係を低減した画像を形成し、各色間で相関関係のない画像を形成することにより、レジストレーションの変化に対する画像濃度と色味の変化の依存度を低下させる。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in depth of focus and dependency on density distribution, as well as an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film and a patterning method using this composition.例文帳に追加

フォーカス余裕度及び疎密依存性に優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition having sufficiently high sensitivity and resolving power in the production of a semiconductor device and in the formation of a contact hole pattern, less liable to produce particles in a resist solution and excellent in dependency on density.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、コンタクトホールパターン形成において、十分な感度及び解像力を有し、更にレジスト液中のパーティクルの発生が少なく、疎密依存性に優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition which is suitable for use in microphotofabrication using far ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light and which has high sensitivity and small density dependency and is less liable to surface roughening in etching.例文帳に追加

遠紫外光、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用したミクロフォトファブリケーションに於いて好適に使用することができる、高感度であり、疎密依存性が小さく、エッチング時の表面荒れが少ないポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which ensures improved edge roughness of a resist pattern, deposits no insoluble matter in the preparation of a resist solution or after storage, is excellent in dependency on density and can reduce a sensitivity change after storage.例文帳に追加

レジストパターンのエッジラフネスが改善され、レジスト液の調製時に、あるいは経時保存後に不溶解物の析出を生じず、疎密依存性に優れ、経時保存後の感度変動を軽減できるポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an objective lens capable of sufficiently diffusing unnecessary light in the case of utilizing an optical disk whose recording density is low without enhancing the wavelength dependency of diffraction lens structure formed in an area dedicated to a high NA.例文帳に追加

高NA専用領域に形成された回折レンズ構造の波長依存性を強くすることなく、記録密度が低い光ディスクの利用時の不要光を十分に拡散させることができる対物レンズを提供すること。 - 特許庁

To provide a a high density magneto-optical recording medium which provides satisfactory jitter characteristics of a random signal without generating pattern dependency in recording mark length even when recording magnetic field sensitivity of a ultra fine mark in the recording medium is enhanced.例文帳に追加

高密度光磁気記録媒体において、極微小マークの記録磁界感度を向上させた場合においても、記録マーク長にパターン依存性を生じることなく、良好なランダム信号のジッタ特性が得られる媒体の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which ensures improved edge roughness of a resist pattern, deposits no insoluble matter in the prepara tion of a resist solution or after storage, is excellent in dependency on density and can reduce a sensitivity change after storage.例文帳に追加

レジストパターンのエッジラフネスが改善され、レジスト液の調製時に、あるいは経時保存後に不溶解物の析出を生じず、疎密依存性に優れ、経時保存後の感度変動を軽減できるポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive photoresist composition which improves edge roughness of a resist pattern, does not cause deposition of insoluble matter in the preparation of a resist solution or after storage, is superior in density dependency and can suppress a sensitivity change after storage.例文帳に追加

レジストパターンのエッジラフネスが改善され、レジスト液の調製時に、あるいは経時保存後に不溶解物の析出を生じず、疎密依存性に優れ、経時保存後の感度変動を軽減できるポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To reduce variation in pattern size due to density dependency of a pattern to be formed during dry etching processing on a light shield film as compared with a case wherein a conventional photomask blank having a light shield film is used, and to manufacture a mask with higher precision.例文帳に追加

遮光膜のドライエッチング加工時において、従来の遮光膜をもつフォトマスクブランクを用いた場合と比較して、形成するパターンの粗密依存性により生じるパターンサイズ変動を小さくすることができ、より高精度のマスクを製造することが可能になる。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material having low humidity dependency of the line width of characters in development and capable of ensuring high image density (Dmax) even in a low humidity environment as a heat developable photosensitive material particularly for a photomechanical process and particularly for a scanner and an image setter.例文帳に追加

特に写真製版用、特にスキャナー、イメージセッター用熱現像感光材料において、文字線幅の現像時の湿度依存性が小さく、低湿環境下でも高い画像濃度（Ｄｍａｘ）を確保することが可能な熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for forming a pattern with high sensitivity, excellent resolution of a trench pattern and good density distribution dependency, in order to stably form a high-precision fine pattern for producing a high-integration and high-precision electronic device.例文帳に追加

高集積且つ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、高感度、且つトレンチパターンの解像性に優れ、更には疎密依存性の良好なパターンを形成する為のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a CMP polishing agent capable of efficient and high-speed polishing with reduced influence of pattern density dependency and easy polishing process management without polishing scratches, with respect to CMP technology for smoothening an interlayer dielectric film, a BPSG film, and a shallow-trench-isolation insulation film.例文帳に追加

層間絶縁膜、ＢＰＳＧ膜、シャロートレンチ分離用絶縁膜を平坦化するＣＭＰ技術において、パターン密度依存の影響を少なく、効率的、高速に、研磨傷なく、かつ研磨プロセス管理も容易に、研磨できるＣＭＰ研磨剤を提供する。 - 特許庁

To provide: a new photoacid generator, suitable as a photoacid generator of a resist material, that controls elution in water especially in ArF immersion exposure, suppresses formation of foreign matter characteristic of immersion exposure, satisfies problems of density dependency and exposure margin, is effectively used, etc.; a resist material using the generator; and a pattern forming method.例文帳に追加

紫外線、遠紫外線、電子線、ＥＵＶ、Ｘ線、エキシマレーザー、γ線、又はシンクロトロン放射線の高エネルギー線に感応し、下記一般式（１ａ）又は（１ｂ）のいずれかで示されるスルホン酸を発生する化学増幅型レジスト材料用の光酸発生剤。 - 特許庁

To provide a soft electromagnetic wave absorber that is excellent in electromagnetic wave absorbability, thermal conductivity, flame retardant, and adhesive strength, is reduced in temperature dependency, has high-resistance and high-insulation characteristics, and is free from sticking limitation by making the high-density packing of a magnetic-loss material possible.例文帳に追加

磁性損失材料の高充填を可能にすることで、電磁波吸収性、熱伝導性、難燃性に優れ、温度依存性が少なく、かつ柔らかく、密着強度に優れ、高抵抗高絶縁特性を有し、貼り付け制限がない電磁波吸収体の提供。 - 特許庁

To provide an evaluation method of a capacitance of an electric double layer capacitor and an evaluation device of the capacitance of the electric double layer capacitor capable of obtaining a capacitance having little fluctuation of the capacitance even in a high current density domain, and having extremely little current dependency.例文帳に追加

高電流密度領域でも静電容量の変動が少なく、極めて電流依存性の小さい静電容量を把握することができる電気二重層キャパシタの静電容量の評価方法及び電気二重層キャパシタの静電容量の評価装置を提供する。 - 特許庁

To provide a new MnZnLi-based ferrite which has excellent high saturation magnetic flux density characteristics and excellent characteristics of reducing the temperature dependency of magnetic loss (core loss), can improve bending strength and further improve product yield, and are excellent in thermal shock resistance.例文帳に追加

高飽和磁束密度特性、磁気損失（コアロス）値の温度依存性を低減する特性に優れ、さらに、抗折強度の向上が図れ製品歩留まりのさらなる向上を図ることができ、さらにはコアの耐熱衝撃性に優れる新たなＭｎＺｎＬｉ系フェライトを提供する。 - 特許庁