「diffraction intensity」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an optical branching device wherein the uniformity of the intensity among mutual branched light beams is high, the diffraction efficiency is large, and the mutual positioning among an input optical system, a diffraction grating and an output optical system is easy.例文帳に追加

分岐光相互間の強度の均一性が高く、回折効率が大きく、入力光学系、回折格子、出力光学系相互の位置決めが容易な光分岐器を提供する。 - 特許庁

In an X-ray diffraction chart made out by irradiating the thin diamond film layer, the diffraction peak intensity on the (110) surface of W exceeds 100 times that on the (200) surface of Cu.例文帳に追加

ダイヤモンド薄膜層にＸ線を照射して得られるＸ線回折チャートにおいて、Ｗの（１１０）面の回折ピーク強度がＣｕの（２００）面の回折ピーク強度の１００倍以上である。 - 特許庁

An Ni_3Sn_4 film, in which the thin film X-ray diffraction peak intensity ratio between SnO and Ni_3Sn_4, that is, SnO/Ni_3Sn_4 satisfies ≤0.046, is formed on the surface of a metal plate.例文帳に追加

金属板の表面に、SnＯとNi_3Sn_4の薄膜Ｘ線回折ピーク強度比SnＯ／Ni_3Sn_4が0.046以下を満足するNi_3Sn_4系皮膜を形成する。 - 特許庁

To calibrate the intensity of X-rays with high accuracy for a short time in quantitative analysis by an X-ray diffraction method using a monochromator.例文帳に追加

モノクロメータを用いたＸ線回折法での定量分析において、短時間で高精度なＸ線強度の較正を実現する。 - 特許庁

The fullerene whose half-width of peak of maximum intensity measured by X-ray diffraction is 0.20 ° or larger is reacted with the reactive gas.例文帳に追加

Ｘ線回折測定における最大強度のピークの半値幅が０．２０°以上であるフラーレン類と反応性ガスとを反応させる。 - 特許庁

The plate particles have a peak intensity ratio [003]/[104] of 1.6 or less in X-ray diffraction, and an aspect ratio of 2.1 to 20.例文帳に追加

板状粒子においては、Ｘ線回折におけるピーク強度比［００３］／［１０４］が１．６以下であり、アスペクト比が２．１〜２０である。 - 特許庁

A main beam and a sub beam which have different intensity distributions are generated from light emitted from a semiconductor laser 1 by means of a diffraction optical element 3a.例文帳に追加

半導体レーザ１の出射光から回折光学素子３ａにより、強度分布が異なるメインビーム、サブビームを生成する。 - 特許庁

A position information is obtained from a phase difference between diffraction orders of the two images indicated as intensity variations in the interfered orders.例文帳に追加

干渉された次数における強度変化として示される、２つの像の回折次数間の位相差から位置情報が得られる。 - 特許庁

The α-Mn_2O_3 has a new crystal structure in which peak intensity of lattice planes in X-ray diffraction satisfies (222)<(400).例文帳に追加

Ｘ線回折における格子面のピーク強度が（２２２）＜（４００）である新規な結晶構造を有するα−Ｍｎ_２Ｏ_３を用いる。 - 特許庁

Diffraction light generated by an index diffraction grating 13 is made to reinterfere with a moving diffraction grating 15; an interference pattern (periodic light intensity distribution) of the interference light is allowed to vibrate by rotational vibration of a modulation mirror 16; phase modulation of the periodic light intensity distribution is performed, and then the modulated signal is detected by a light receiving part 17.例文帳に追加

インデックス回折格子１３で発生した回折光を、移動回折格子１５で再干渉させ、その干渉光の干渉縞（周期的な光強度分布）を変調ミラー１６の回転振動で振動させ、その周期的な光強度分布の位相変調したうえで、受光部１７でその変調信号を検出する。 - 特許庁

The RHx compound (R represents one metal element in rare earth elements, H is hydrogen and (x) is 2 or around 2) has an FCC (face-centered cubic) structure and a crystalline structure showing high diffraction intensity on the (311) plane than the diffraction intensity on the (111) plane by X-ray diffraction pattern analysis.例文帳に追加

本発明のＲＨｘ（Ｒは希土類元素のうちのいずれか一の金属元素。Ｈは水素元素。ｘは２又はその近傍。）化合物は、ＦＣＣ構造を有し、かつ、Ｘ線回折パターン結果において（１１１）面の回折強度よりも（３１１）面の回折強度のほうが大きい結晶構造を有することを特徴とするものである。 - 特許庁

Outgoing light from an optical pickup 2 is made incident on a diffraction grating 9, sharing interference fringes formed by light projected from the diffraction grating 9 are received, the optical intensity of the received interference fringes is measured, and the focused position of the outgoing light from the diffraction grating 9 and the optical pickup 2 is controlled in accordance with the measured optical intensity to evaluate an irradiating position.例文帳に追加

光ピックアップ２からの出射光を回折格子９に入射し、回折格子９から出射した光により形成するシェアリング干渉縞を受像し、受像した干渉縞の光強度を測定し、測定した光強度により回折格子９と光ピックアップ２からの出射光の集光位置を調整して照射位置を評価する。 - 特許庁

This thin film of the wax composition consists of a composition containing the wax and has >1.0 value of a ratio (Ib/Ia) of diffraction intensity Ia in the normal direction of surface of the thin film of the wax composition in X-ray diffraction peaks developed by accompanying with the orientation of the crystallized wax to diffraction intensity Ib in a direction making right angle to the normal direction.例文帳に追加

本発明のワックス組成物薄膜は、ワックスを含有する組成物からなり、結晶化した前記ワックスの配向に伴い発現するＸ線回折ピークの前記ワックス組成物薄膜表面の法線方向の回折強度Ia及び該法線方向と９０度をなす方向における回折強度Ibの比Ib/Iaが１．０より大きい値である。 - 特許庁

In the operational processing part, at least one of the double diffraction phase difference and main axis azimuth of the sample is calculated on the basis of a theoretical formula of the intensity of measuring light and the light intensity data of measuring light.例文帳に追加

演算処理部では、測定光の光強度の理論式と、測定光の光強度情報とに基づいて、試料の複屈折位相差及び主軸方位の少なくとも一方を算出する。 - 特許庁

To provide a method of measuring lattice constants, which can correctly and easily discriminate between the intensity peak of diffraction X-rays from a semiconductor substrate and the intensity peak of diffraction X-rays from a cladding layer, and which prevents the lattice constant of the semiconductor substrate and the lattice constant of the cladding layer from being changed wrongly.例文帳に追加

半導体基板からの回折Ｘ線の強度のピークとクラッド層からの回折Ｘ線の強度のピークとを、正しくかつ容易に識別することができ、半導体基板の格子定数とクラッド層の格子定数とを取り違えない格子定数の測定方法を提供することである。 - 特許庁

When first bottom B1 exists in the spatial intensity distribution of diffraction-scattered light from the measuring particle group measured by measuring optical systems (3, 4, 5, 6), the spatial intensity distribution data of the diffraction-scattered light from small angle side to that first bottom B1 is used to compute the particle size distribution.例文帳に追加

測定光学系（３，４，５，６）により測定された被測定粒子群による回折・散乱光の空間強度分布に、ファーストボトムＢ１が存在している場合には、小角度側からそのファーストボトムＢ１までの回折・散乱光の空間強度分布データを用いて粒度分布を算出する。 - 特許庁

The rolled copper foil, when recrystallization-annealed, develops a texture in which the intensity (I) of a rolled face (200) determined by X-ray diffraction has such a relation with the intensity (I_0) of the face (200) on the fine powder of copper determined by the X-ray diffraction, as to satisfy I_(200)/I_0(200)<1.0.例文帳に追加

再結晶焼鈍を施すことにより、Ｘ線回折で求めた圧延面の（２００）面の強度（Ｉ）が、微粉末銅のＸ線回折で求めた（２００）面の強度（Ｉ_０）に対し、Ｉ_（２００）／Ｉ_０（２００）＜１．０である集合組織が発現することを特徴とする圧延銅箔 - 特許庁

Therefore, by selecting one Debye ring, it is possible to obtain an XAFS signal related to its diffraction, obtain XAFS signal intensity sufficient for securing the intensity of a whole ring, and appropriately discriminate the diffraction patterns from the plurality of crystals.例文帳に追加

したがって、ひとつのデバイリングを選択して、その回折に関係するＸＡＦＳ信号を得えることができるとともに、環全体の強度を確保するために充分なＸＡＦＳの信号強度を得えることができ、複数の結晶からの回折パターンを適切に識別することができる。 - 特許庁

By the diffraction effect of light by the side edge part of the pit, a reflection return beam 34 has the maximum intensity in the direction tilted to the left side (B).例文帳に追加

ピットのサイドエッジ部による光の回折効果により、反射戻り光３４は、左側に傾いた方向に最大強度を有する（Ｂ）。 - 特許庁

To provide a pigment with diffraction grating imparting a rainbow color development on appearance of a coated film or molded article and manifesting a color development with high luminescence intensity.例文帳に追加

塗膜や成形物の外観に虹色発色を付与することができ、さらに発色強度の高い回折格子顔料を提供する。 - 特許庁

A photodiode PD, which outputs values of detection current corresponding to the intensity of light received, is disposed in a diffraction grating inspection apparatus 1.例文帳に追加

回折格子検査装置１に、受光した光の強度に対応した値の検知電流を出力するフォトダイオードＰＤが設けられている。 - 特許庁

To provide an excimer laser annealing system for forming a polycrystalline semiconductor film with high uniformity by eliminating beam intensity distribution due to diffraction of line beam.例文帳に追加

ラインビームの回折によるビーム強度分布をなくし、均一性の良い多結晶半導体膜を形成できるエキシマレーザアニール装置を提供する。 - 特許庁

The laser beam L is emitted to the measuring object 2, diffraction light S thereof turn in to a shadow side of the measuring object 2 is photoreceived, and the shape of the measuring object 2 is determined using the photoreceived intensity of the received diffraction light S.例文帳に追加

測定物２にレーザ光Ｌを照射し、測定物２の陰側に回り込むその回折光Ｓを受光し、受光した回折光Ｓの受光強度を利用して測定物２の形状を判別する。 - 特許庁

By lowering the height of the projected part of the diffraction grating layer 3 at a left end in the intra-layer direction and increasing it toward a right end, diffraction efficiency is distributed so as to just cancel the intensity profile of propagated light 500.例文帳に追加

回折格子層３の凸部の高さを、層内方向の左端で低く、右端へ行くほど高くすることにより、伝搬光５００の強度プロファイルをちょうど打ち消すよう回折効率を分布させている。 - 特許庁

By causing the diffraction in an optical path of an optical disk recorder, and changing a light intensity distribution on an image forming surface of a condenser lens 3 by using diffraction beams 1b, a pit shape is controlled according to the releasing property.例文帳に追加

光ディスク記録装置の光路中に回折を起こし、この回折光１ｂを用いて集光レンズ３の結像面における光強度分布を変えることにより、ピットの形状を離型性に応じてコントロールする。 - 特許庁

This silicon steel sheet has an extra-thin ceramic film consisting of crystallites having dominantly such orientations that a ratio of diffraction peak intensity (222)/(200) by X-ray diffraction can be 1.2 or higher, which is coated on the surface of the grain-oriented silicon steel sheet that has been finish-annealed.例文帳に追加

仕上げ焼鈍済の一方向性珪素鋼板の表面に、Ｘ線回折による（２２２）／（２００）回折ピーク強度比が1.2 以上に優先配向した結晶質に成る、極薄セラミック被膜を被成する。 - 特許庁

To constantly change the arrival position of diffracted light on a workpiece and/or keep the intensity of diffracted light constant regardless of the angle of diffraction, in laser lithography such as laser annealing using an acoustooptic diffraction element.例文帳に追加

音響光学回折素子を用いたレーザアニール等のレーザ描画において、被処理物上での回折光の到達位置を一定に変化させ、又は／及び回折光強度を回折角度によらず一定に維持する。 - 特許庁

To reduce lowering of spectral intensity corresponding to carrier frequency due to deviation of attitudes of a diffraction grating and a shielding grating, in an imaging device using the Talbot interference method and having the diffraction grating and the shielding grating.例文帳に追加

回折格子と遮蔽格子を有するタルボ干渉法を用いた撮像装置において、回折格子および遮蔽格子の姿勢のずれによるキャリア周波数に対応するスペクトル強度の低下を軽減する。 - 特許庁

The conductive substrate has an ITO film formed thereon, in which the integrated intensity ratio A/C of the integrated intensity A of 2θ peak corresponding to (222) plane and the integrated intensity of 2θ peak corresponding to (440) plane by the X-ray diffraction method is not less than 5.0.例文帳に追加

Ｘ線回折法による（２２２）面に相当する２θピークの積分強度Ａと（４４０）面に相当する２θピークの積分強度Ｃとの積分強度比Ａ／Ｃが５．０以上であるＩＴＯ膜が形成されていることを特徴とする、導電性基板。 - 特許庁

To provide a diffraction type beam homogenizer capable of previously preventing the damage of a work and a transfer optical system by keeping a converging point from being produced on the back side from an image face, in the diffraction type beam homogenizer which converges laser beams and simultaneously, fairs them into a prescribed sectional intensity distribution by using a diffraction type optical component.例文帳に追加

回折型の光学部品を用いてレーザビームを集光しつつ所定の断面強度分布に整形する回折型ビームホモジナイザにおいて、像面より後方に集光点が発生しないようにして、ワークや転写光学系の損傷を未然に防止する。 - 特許庁

The graphitized carbon fiber to be incorporated into a thermally conductive polymeric composition has a spacing (d002) of graphite layers, measured by the X-ray diffraction method, of <0.3370 nm and, at the same time, a peak intensity ratio (P101/P100) of the (101) diffraction peak (101) to the (100) diffraction peak of ≥1.15.例文帳に追加

熱伝導性高分子組成物に含有される黒鉛化炭素繊維は、Ｘ線回折法による黒鉛層間の面間隔（ｄ００２）が０．３３７０ｎｍ未満で、かつ、（１０１）回折ピークと（１００）回折ピークのピーク強度比（Ｐ１０１／Ｐ１００）が１．１５以上である。 - 特許庁

A crystalline structure observed in the surface side of the electrophotographic photoreceptor by X-ray diffraction analysis exhibits a ≤0.8 ratio of the reflection intensity in a 101 direction of crystal plane to the peak reflection intensity in a 110 direction of crystal plane.例文帳に追加

電子写真用感光体表面がわからみた結晶構造のＸ線回折で得られる面方位１１０の反射強度のピーク値に対する、面方位１０１の反射強度の比率が０．８以下とする - 特許庁

In the electrode, the ratio I (111)/I (200) of the peak intensity I (111) for the (111) face and the peak intensity I (200) for the (200) face in the X-ray diffraction measurement of the catalyst material on the electrode surface is made 1.7 or less.例文帳に追加

電極表面の触媒物質のＸ線回折測定値における（１１１）面のピーク強度Ｉ（１１１）と（２００）面のピーク強度Ｉ（２００）との比率Ｉ（１１１）／Ｉ（２００）を、１．７以下とする。 - 特許庁

To provide a high quality image by avoiding a distribution in intensity of a flux of light through diffraction of the flux of light passing through an aperture member.例文帳に追加

開口部材を通過した光線束の回折によって光線束の強度に分布が生じることが回避されて、高品質画像を提供すること。 - 特許庁

The overlay layer is formed such that an intensity of X-ray diffraction thereof satisfies the relation: 1%≤(200)/{(200)+(111)+(220)+(311)+(222)}≤20%, and 1%≤(200)/(111)≤30% (wherein (200), (111) or the like means Miller index (200) plane, (111) plane or the like).例文帳に追加

オーバレイ層のＸ線回折の強度が、１％≦（２００）／｛（２００）＋（１１１）＋（２２０）＋（３１１）＋（２２２）｝≦２０％、且つ、１％≦（２００）／（１１１）≦３０％を満たすように形成する。 - 特許庁

To make the intensity profile of diffracted beams from respective diffraction grating layers uniform or nearly uniform in an intra-layer direction and to easily handle an optical waveguide as an optical component.例文帳に追加

各回折格子層からの回折光の強度プロファイルを層内方向で一様かあるいは同程度とし、光学部品として扱いやすくする。 - 特許庁

An optical detector is positioned in the package to receive and sense an intensity of a selected diffraction order of the DOE.例文帳に追加

光学検知器が、前記ＤＯＥの選択された回折次元を受け取り、前記選択された回折次元の強度を検知するため、前記パッケージ内に置かれる。 - 特許庁

In an X-ray diffraction of cerium oxide, the relative intensity of a (200) plane peak and that of a (311) plane peak to a (111) plane peak are 0.45-0.5 and 0.35-0.4 respectively.例文帳に追加

Ｘ線回折における酸化セリウムの（１１１）面ピークに対する（２００）面ピーク、（３１１）面ピークの相対強度が、各々０．４５〜０．５、０．３５〜０．４である。 - 特許庁

At this time, a phase diffraction optical element means is arranged in an optical path before the branching of the laser beam so as to convert the laser beam into a top-hat intensity distribution.例文帳に追加

このとき、レーザ光の分岐前の光路中に位相型回折光学素子手段を配置してレーザ光をトップハット強度分布に変換する。 - 特許庁

To provide a position detecting method and its device capable of detecting a position with accuracy on the basis of the light intensity distribution on a light receiving face by Fresnel diffraction.例文帳に追加

フレネル回折による受光面上での光強度分布から高精度に位置検出を行い得る位置検出方法および装置を提供する。 - 特許庁

Since an image is formed on the surface 15 of the amorphous semiconductor film with line beams 12 of different length, fluctuation in the intensity distribution due to diffraction of a plurality of line beams is eliminated.例文帳に追加

これにより、長さの異なるラインビーム12を非晶質半導体膜面15で結像させ、複数のラインビーム12の回折による強度分布むらを解消する。 - 特許庁

An Sn-based film which satisfies a thin-film X-ray diffraction peak intensity ratio FeSn/FeSn_2 of FeSn to FeSn_2 in the Sn-based film of 2.4 or larger is formed on a surface of a stainless steel.例文帳に追加

ステンレス鋼の表面に、Sn系皮膜中のFeSnと、FeSn_2の薄膜Ｘ線回折ピーク強度比FeSn／FeSn_2が2.4以上を満足するSn系皮膜を生成する。 - 特許庁

A difference between before crushing and after crushing of a peak intensity ratio of Fe_2O_3 to MnFe_2O_4 obtained from X-ray diffraction is set 0.015 or less in the absolute value.例文帳に追加

そして、Ｘ線回折で得られるＦｅ_２Ｏ_３とＭｎＦｅ_２Ｏ_４とのピーク強度比の、粉砕前と粉砕後の差を絶対値で０．０１５以下とする。 - 特許庁

This activated carbon for air cleaning contains 0.1-5 wt.% of cobalt component and has the x-ray diffraction intensity ratio of cobalt not lower than 50%.例文帳に追加

１．コバルト成分を０．１〜５重量％含有する活性炭であって、コバルトのＸ線回折強度比が５０％以上である空気浄化用活性炭。 - 特許庁

Information, indicating diffraction pattern intensity, may be used to determine one or more sample characteristics and/or one or more pattern characteristics.例文帳に追加

１若しくは複数のサンプル特性及び／または１若しくは複数のパターン特性を決定するために、回折パターン強度を示す情報が用いられることがある。 - 特許庁