「diffraction intensity」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

This C. I. Pigment Yellow 12 is characterized by showing ≥0.94 and ≤1.80 half value width of peak intensity within 8.0 to 11.8° (2θ) in an X-ray diffraction measurement after drying the wet cake of the pigment at 90°C.例文帳に追加

顔料のウェットケーキを９０℃で乾燥した後のＸ線回折測定において、8.0〜11.8度（2θ）にある強度ピークの半価幅が０．９４以上１．８０以下であることを特徴とするＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１２。 - 特許庁

By laminating holograms having different diffusing characteristic such as the hologram diffusing body for controlling an illumination pattern and the diffraction grating for controlling scattering intensity in the illumination pattern, the diffuse reflection plate having such scattering characteristic that the illumination pattern exists in scattered light and the scattering intensity is uniform in the pattern is obtained.例文帳に追加

照明パターンの制御をするホログラム拡散体や照明パターン内の散乱強度を制御する回折格子など異なる拡散特性を持つホログラムを積層することにより、散乱光に照明パターンがありかつパターン内で散乱強度が一様となるような散乱特性を持つ拡散反射板が得られる。 - 特許庁

To provide an evaluation method of crystal orientation capable of suppressing effectively scattering of a background, to thereby improve measurement data to have the readable quality, even when strong background scatterings are overlapped, and separating its diffraction intensity distribution into the intensity of only an objective plane index, and an evaluation device used therefor.例文帳に追加

強い背景の散乱が重なっている場合であっても、効果的に背景の散乱を抑止し、測定データを読み取り可能な品質に高めることができ、しかも、その回折強度分布を、目的の面指数だけの強度に分離することができる結晶配向の評価方法及びそれに用いる評価装置を提供する。 - 特許庁

The hard coating has residual stress in the range of about -0.4 to about -3 GPa when measured by an XRD Sin^2ψ method and a crystal orientation characterized by a ratio of (200) peak intensity to (111) peak intensity by X-ray diffraction being in the range of about 1 to about 14.例文帳に追加

ハードコーティングはまた、ＸＲＤ Ｓｉｎ^２ψ法によって測定される場合約−０．４〜約−３ＧＰａの範囲の残留応力と、Ｘ線回折による（１１１）ピーク強度に対する（２００）ピーク強度の比が約１〜約１４の範囲であることによって特徴付けられる結晶方位とを有する。 - 特許庁

Disclosed is a composite material comprising Pt, Au and Cu, and at least comprising an intermetallic compound of Au and Cu and a Pt simple substance, and, in the range of 2θ=36 to 44° of X ray diffraction analysis, the peak intensity of the whole intermetallic compound is 0.8 to 40 times the peak intensity of the Pt simple substance.例文帳に追加

Ｐｔ、Ａｕ及びＣｕを有する複合材料であって、ＡｕとＣｕとの金属間化合物、及び、Ｐｔ単体を少なくとも有し、Ｘ線回折分析の２θ=３６〜４４°の範囲において、前記金属間化合物全体のピーク強度が、前記Ｐｔ単体のピークの強度の０．８〜４０倍であること。 - 特許庁

The calcining temperature and the sintering temperature are determined to form the silicon nitride porous body in which the ratio (X_ON/X_SiN) of the peak intensity X_ON of oxynitride to the peak intensity X_SiN of β-type silicon nitride in X-ray diffraction pattern is 20-40 and the three point bending strength (25°C) is ≥70 MPa.例文帳に追加

このときの仮焼温度及び反応焼結温度は、Ｘ線回折パターンにおける酸窒化物のピーク強度Ｘ_ONとβ型窒化ケイ素のピーク強度Ｘ_SiNとの強度比（Ｘ_ON／Ｘ_SiN）が２０〜４０であり、且つ、３点曲げ強度（２５℃）が７０ＭＰａ以上である窒化ケイ素多孔質体が形成されるように決定される。 - 特許庁

The calcium hydroxide obtained has a maximum crystal size of ≥10 μm and ≤5,000 μm and has a ratio of the peak intensity I_001 of the (001) plane to the peak intensity I_101 of the (101) plane: (I_001/I_101) of ≥10 as determined by X-ray diffraction.例文帳に追加

本発明の製造方法により得られる水酸化カルシウムは、結晶の最大径が１０μｍ以上５０００μｍ以下であり、Ｘ線回折により測定された（００１）面のピーク強度Ｉ_００１と（１０１）面のピーク強度Ｉ_１０１の比（Ｉ_００１／Ｉ_１０１）が１０以上であることを特徴とする。 - 特許庁

In this titanium dioxide, an average secondary particle size is 2-30 μm; an average primary particle size is ≤1.5 μm; and when main peak intensity of bronze type titanium dioxide in a powder X-ray diffraction pattern is assumed to be 100, main peak intensity of each of rutile type titanium dioxide and anatase type titanium dioxide is ≤5.例文帳に追加

本発明の二酸化チタンは、平均二次粒子径が２μｍ〜３０μｍ、平均一次粒子径が１．５μｍ以下であり、粉末Ｘ線回折パターンにおけるブロンズ型二酸化チタンの主ピーク強度を１００としたとき、ルチル型二酸化チタン及びアナターゼ型二酸化チタンの主ピーク強度がいずれも５以下である。 - 特許庁

Oxygen absorption material 2 containing iron powder under examination is put on a goniometer 3, X-rays is irradiated from an X-ray generator 1, Bragg reflection intensity at a diffraction angle of 44.5 degrees is measured by a counter 4, and the quality of the oxygen absorption material is examined on the basis of the Bragg reflection intensity thus measured.例文帳に追加

鉄粉を含む検査酸素吸収材料２をゴニオメータ３上に載置し、Ｘ線発生装置１からＸ線を照射し、回折角度４４．５°におけるブラッグ反射強度をカウンタ４により測定し、測定されたブラッグ反射強度に基づいて、酸素吸収材料の品質を検査する。 - 特許庁

This nonaqueous electrolyte battery of the first aspect is characterized by comprising: a negative electrode containing a lithium titanium composite oxide where any of main peak intensity of rutile type TiO2, that of anatase type TiO2 and that of Li2TiO3 is not larger than 5 when the main peak intensity of ramsdellite type lithium titanate by an X-ray diffraction method is set at 100; a positive electrode; and a nonaqueous electrolyte.例文帳に追加

第１の発明の非水電解質電池は、Ｘ線回折法によるラムスデライト型チタン酸リチウムのメインピーク強度を100としたとき、ルチル型TiO2、アナターゼ型TiO2及びLi2TiO3のメインピーク強度がいずれも5以下であるリチウムチタン複合酸化物を含む負極と、正極と、非水電解質と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁

The mode synchronization semiconductor laser 10 is provided with an optical waveguide layer 13 comprising a gain region 15, an intensity modulation region 14 to perform intensity modulation in the adjustable frequency to an induced light to realize synchronization among the modes of the induced and excited light generated in the gain region, and a diffraction grating region provided with a uniformly continuous diffraction grating 17 having the predetermined uniform grating interval to reflect the induced and excited light.例文帳に追加

モード同期半導体レーザ１０は、利得領域１５と、該利得領域で発生する誘導励起光のモード間の同期を図るべく該誘導光に調整可能の周波数で強度変調を施すための強度変調領域１４と、前記誘導励起光を反射するための一様に連続する均一な所定の格子間隔を有する回折格子１７が設けられた回折格子領域とを有する光導波路層１３を備える。 - 特許庁

As the catalyst, a γ-alumina having a crystal structure such that diffraction beams having an intensity of 100 or more at five diffraction angles 2 θ measured by an X-ray diffraction instrument, that is, at 33°±1°, 37°±1°, 40°±1°, 46°±1°, 67°±1° are generated is used.例文帳に追加

本発明に係る排ガスの処理方法は、フッ素含有化合物を含む排ガスを、前記排ガス中の固形物を分離した後に触媒を用いて処理する方法であって、前記触媒として、Ｘ線回折装置で測定した回折角２θのうち、３３゜±１゜、３７゜±１゜、４０゜±１゜、４６゜±１゜、６７゜±１゜の５つの角度で強度１００以上の回折線が出現する結晶構造を有するγ−アルミナを用いることを特徴とする。 - 特許庁

Additional information can be imparted to an image without harming the color tone of an image by forming a first image region using a toner containing a crystallinity resin and a second image region using a toner containing no crystallinity resin, controlling a gloss or an X-ray diffraction intensity at the diffraction angle of a specified X-ray diffraction peak derived from the crystallinity resin to be different between the first image region and the second image region.例文帳に追加

結晶性樹脂を含有するトナーを用いた第１画像領域と、結晶性樹脂を含有しないトナーを用いた第２画像領域とを形成し、第１画像領域と第２画像領域とにおいて、結晶性樹脂に起因する特定のＸ線回折ピークの回折角におけるＸ線回折強度あるいは光沢度を異ならせることにより、画像の色調を阻害することなく画像中に付加情報を付与することができる。 - 特許庁

To increase the minimum light intensity out of light intensities to a maximum out of five light spots when a laser beam from a semiconductor laser is diffracted by a diffraction grating face on a diffraction grating plate so as to generate zero-order diffracted light to second-order diffracted light in such a way that the five light spots are generated from the diffracted lights so as to be shone at different places on an optical disk.例文帳に追加

半導体レーザ12からのレーザ光を回折格子板18の回折格子面20により回折して、０〜２次の回折光を生成し、これらより５個の光スポットM，E，F，G，Hを生成して、光ディスク34の異なるトラック部位へ照射する光ピックアップ装置10において、光スポットM，E，F，G，Hの内で光強度の最小のものの光強度を最大現、引き上げる。 - 特許庁

For example, micronic diffraction gratings 3a, 3b and 3c belonging to the medium 3 for authenticity confirmation on a base material 2 each have a lattice constant comparable with that of the wavelength of visible light and a lattice direction different from one another to thereby read an intensity pattern of diffraction light caused by emitting polarized light, which can confirm authenticity.例文帳に追加

例えば、基材２上の真正性確認用媒体３が有する微小回折格子３ａ、３ｂ、３ｃ、および３ｅの各々を、可視光の波長と同程度の格子定数を持ち、互いに格子の方向を異ならせることにより、偏光を照射して生じた回折光の強度パターンを読み取って、真正性確認を可能にすることができた。 - 特許庁

In the crystal orientation characteristics of a metal measured by X-ray diffraction of the metal mask, the ratio of the peak intensity of a surface (220) to the sum of the peak intensities of a surface (111), a surface (200) and a surface (220), is 0.05 to less than 0.4.例文帳に追加

メタルマスクのＸ線回折により測定したメタルの結晶の配向性において、（１１１）面、（２００）面及び（２２０）面ピーク強度の合計に対する（２２０）面のピーク強度比が０．０５以上、０．４未満になるようにする。 - 特許庁

More specifically, the film is formed by specifying the sputtering gaseous pressure during the deposition of the Ru ground surface layer to 8.9 to 14 Pa (67 to 105 mTorr) and the X-ray diffraction peak intensity ratio of the Ru layer is specified to (002)/(100)≤0.4.例文帳に追加

具体的には、Ｒｕ下地層成膜時のスパッタガス圧力を８．９Ｐａ〜１４Ｐａ（６７ｍＴｏｒｒ〜１０５ｍＴｏｒｒ）として膜形成し、Ｒｕ層のＸ線回折ピーク強度比を（００２）／（１００）≦０．４とする。 - 特許庁

To correct the gradient as to the intensity generated along a circumferential diction in a diffraction ring which is to appear in the vicinity of the periphery of a laser beam by rotating at least one lens which is included in an optical system around an axis whose direction is different from that of the optical axis of the lens.例文帳に追加

さほど高精度な光学素子等を用いることなく、しかも簡単な作業を行うだけで左右のサイドロブを均等化でき、その結果として安価でしかも高画質が得られるレーザビーム装置を提供する。 - 特許庁

By the operation of the diffraction optical element 3, the intensity distributions of the main and sub beams made incident on an objective lens 6 are different from each other, and thus the phases of track error signals are shifted between the main and sub beams when radial tilting is present in a disk 7.例文帳に追加

回折光学素子３の作用により、メインビームとサブビームでは対物レンズ６に入射する際の強度分布が異なるため、ディスク７にラジアルチルトがある場合、メインビームとサブビームではトラック誤差信号の位相がずれる。 - 特許庁

Furthermore, a thing that has intensity ratios of a reflection peak under the reflective X-ray diffraction corresponding to faces (311), (400), and (111) of the lithium manganate, are (311)/(111)≥0.45, and (400)/(111)≥0.55, and (400)/(311)≥1.10) is used.例文帳に追加

さらに、マンガン酸リチウムの（３１１），（４００）、（１１１）面に対応する反射Ｘ線回折での反射ピークの強度比が、（３１１）／（１１１）≧０．４５、かつ（４００）／（１１１）≧０．５５、かつ（４００）／（３１１）≧１．１０となっているものを用いる。 - 特許庁

A photo mask is formed where a diffraction grating pattern or an auxiliary pattern is arranged having a light intensity reduction function comprising a translucent film, or a complicated gate electrode is formed by applying a reticle to a photolithographic process for forming a gate electrode.例文帳に追加

回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルをゲート電極形成用のフォトリソグラフィ工程に適用して複雑なゲート電極を形成する。 - 特許庁

When the kind of the minute amount of gas included in the mixed gas is unknown and the kind is to be analyzed, a diffraction grating 28 and a CCD 30 for measuring the intensity of each wavelength of light 26 acquired from the light source 10 are utilized.例文帳に追加

混合ガスに含まれる微量ガスの種類が未知であり、その種類を分析する場合には、光源１０から得られた光２６の波長毎の強度を測定する回折格子２８及びＣＣＤ３０を利用する。 - 特許庁

To suppress the effect of Fresnel diffraction and to increase sensitivity to ultraviolet light, even if an intensity modulation mask having a small slit width is used when a sampled grating is formed in a photosensitive core in an optical waveguide.例文帳に追加

光導波路において、光感受性を有するコアにサンプルドグレーティングを作製する際に、スリット幅が狭い強度変調マスクを用いても、フレネル回折の影響を抑え、かつ紫外光に対する感受性を増大させる。 - 特許庁

To provide a high-precision spectral intensity signal by removing the effect of the stray light generated in a spectrum measuring device and the effect of the unnecessary light caused by the reflection or diffraction on the surface of a detecting element via the process of a detected signal.例文帳に追加

スペクトル測定装置内部に発生する迷光や、検出素子の表面の反射や回折により生ずる不要な光の影響を、検出信号の処理により取り除き、精度のよいスペクトル強度信号を得る。 - 特許庁

In the manufacturing method of a diffraction grating structure for coupling light into or out of the high refractive index dielectric film on a substrate, a high refractive index dielectric film and/or a substrate is irradiated with UV laser beams that are subjected to simultaneous, spatially periodic intensity modulation and, moreover, the period of intensity modulation is selected in accordance with a desired grating period.例文帳に追加

基板上の高屈折率の誘電皮膜に光を結合及び解離するための回折格子構造を製造する方法において、高屈折率の誘電皮膜及び／又は基板に、同時空間的に周期的に強度変調した紫外レーザー光を照射し、しかも強度変調の周期を所望の格子周期に対応して選択する。 - 特許庁

Light L2 comprising Raman scattered light emitted from the sample 111 and background light emitted from the substrate 110 is spectrally diffracted by a diffraction grating 155, and a spectrum intensity signal is measured by a photodiode 157, and a signal synchronized with 1 kHz is detected from the spectrum intensity signal by a lock-in amplifier 160.例文帳に追加

試料１１１から発せられるラマン散乱光および光電場増強基板１１０から発せられるバックグランド光からなる光Ｌ２を回折格子１５５により分光して、フォトダイオード１５７によりスペクトル強度信号を測定し、ロックインアンプ１６０により、このスペクトル強度信号から、１ｋＨｚに同期した信号を検出する。 - 特許庁

The aluminum nitride sintered compact is one wherein throughout the part lying under the surface to a depth of at least 50 μm, the I (peak intensity)/W (half width) ratio of a face with a Miller index (100) is 27,000-23,000 when analyzed by X-ray diffraction.例文帳に追加

表面からの深さが少なくとも５０μｍまでの全ての部分において、Ｘ線回折によるミラー指数（１００）面のＩ（ピーク強度）／Ｗ（半値幅）の比が、２７０００〜２３０００であることを特徴とする窒化アルミニウム焼結体。 - 特許庁

In the method for measuring the structure of the silicon surface, soft X-rays are made incident onto a wafer surface under condition of total reflection, and intervals between peaks in the intensity of diffraction (especially the interval between a maximum peak and the following peak) are measured to identify a step width.例文帳に追加

シリコン表面構造を計測する方法において、軟Ｘ線をウェーハ表面に全反射条件で入射し、回折強度のピーク間隔（とくに最大ピークとその次のピークとの間隔）を測定することによりステップ幅を同定する。 - 特許庁

To provide a diffraction element in which intensity difference of a sub-beam can be corrected even when deviation is present between an out-going optical axis and the optical axis of a lens system, and to realize an optical pickup device in which a stable tracking error signal is obtained using this element.例文帳に追加

出射光軸とレンズ系の光軸との間にずれがあっても副ビームの強度差を補正できる回折素子を提供し、これを用いて安定したトラッキングエラー信号が得られる光ピックアップ装置を実現することを目的とする。 - 特許庁

To provide a transmission type volume hologram recording medium to be used in a two-beam hologram recording system, the recording medium having high diffraction efficiency and remarkably reducing the intensity of first-order and subsequent diffracted light, which is a cause of noise.例文帳に追加

二光束ホログラム記録方式に用いられる透過型体積ホログラム記録媒体であって、回折効率が高く、一次回折光以降のノイズ原因となる回折光強度を著しく抑制できる体積ホログラム記録媒体を提供する。 - 特許庁

Accordingly, for example, the intensity ratio between each measurement data having the equal distance from the X-ray diffraction peak is calculated, and an asymmetric curve plotted from the calculation result is used, to thereby determine accurately the displacement of the crystal atom.例文帳に追加

そこで、例えばＸ線回折ピークからの距離が等しい測定データ同士の強度比を計算し、それらの計算結果から描画される非対称性曲線を用いることにより、結晶原子の変位量を精度よく求めることができる。 - 特許庁

By continuously or discontinuously changing an irradiation time or/and light intensity according to a position to be irradiated, various GRIN lenses, an optical diffraction grating, an optical integrated circuit, etc., in addition to a GI type optical fiber are manufactured.例文帳に追加

照射する位置によって照射時間もしくは／及び光強度を連続的、もしくは不連続的に変化させることにより、ＧＩ型光ファイバーをはじめ、各種ＧＲＩＮレンズ、光回折格子、光集積回路などを作製することができる。 - 特許庁

A diffraction grating 13 is arranged in the spacer layer 4 to select light having ten or more, preferably eighteen or more, oscillation vertical modes each having a differential value of 10 dB or less relative to the maximum light intensity of the oscillation vertical mode.例文帳に追加

ｐ−ＩｎＰスペーサ層４内に回折格子１３が配置され、発振縦モードの最大光強度に対する差分値が１０ｄＢ以下である発振縦モードの本数が１０本以上、より好ましくは１８本以上有する光を選択する。 - 特許庁

Since distributions of light intensity in the main beam and the sub beams when making incident on the object lens 6 differ by the operation of the diffraction optical element 3, zero cross points of the focus error signals in the main beam and the sub beams are deviated when the deviation in substrate thickness exists in the disk 7.例文帳に追加

回折光学素子３の作用により、メインビームとサブビームでは対物レンズ６に入射する際の光強度分布が異なるため、ディスク７に基板厚ずれがある場合、メインビームとサブビームではフォーカス誤差信号のゼロクロス点がずれる。 - 特許庁

To reduce with superior reproducibility in-plane uniformity of a TaN film to be used as a barrier layer of a semiconductor element by a method wherein the peak intensity in a specified direction measured by an X rays diffraction method is specified on the surface of a sputtering target composed of high pure TaN.例文帳に追加

Ｃｕ配線のバリア層などとして用いられるＴａＮ膜において、膜厚の面内均一性を例えば5%以下とすることが望まれており、そのようなＴａＮ膜を再現性よく得ることを可能にしたスパッタターゲットが求められている。 - 特許庁

To perform accurate qualitative analysis by accurately performing the comparison of the measured data of the intensity of diffracted X-rays and standard data even in such a case that a measuring condition of the measured data and the standard data is different, especially, a diffusion slit is different in the X-ray diffraction device.例文帳に追加

Ｘ線回折装置において、回折Ｘ線強度の測定データと標準データの測定条件、特に、発散スリットが異なる場合でも、測定データと標準データの比較を正確に行い正確な定性分布を行う。 - 特許庁

The polyester film for the protective film is composed of a polyester film having ethylene terephthalate repeating units as main repeating units and an easily adhesive layer formed on the polyester film and has a specified X-ray diffraction intensity ratio.例文帳に追加

エチレンテレフタレート単位を主たる繰り返し単位としてなるポリエステルフィルムおよびそのうえに設けられた易接着層からなり、かつ特定のＸ線回折強度比を有することを特徴とする、太陽電池裏面保護膜用ポリエステルフィルム。 - 特許庁

To provide a waveguide type element obtaining a radiation beam having a nearly Gauss-shaped intensity distribution even in easily manufacturable constitution without changing the grating height of a diffraction grating constituting a light output connection part.例文帳に追加

光出力結合部を構成する回折格子の格子高さを変化させることなく、製造が容易な構成でありながら、略ガウス形状の強度分布を有する放射光が得られる導波路型素子を提供することを目的とする。 - 特許庁

The lithium secondary battery uses a negative electrode carbon material whose degree P1 of graphitization obtained from 11 diffraction line intensity as measured with Cukα rays is 0.3≤P1≤0.8.例文帳に追加

炭素材料で構成されている負極炭素材であって、ＣｕＫα線を用いて測定される１１回折線強度から求められる黒鉛化度Ｐ_1が、０．３≦Ｐ_1≦０．８である炭素材料で構成された負極炭素材でリチウム二次電池を構成する。 - 特許庁

The optimum value is used properly in desired gap setting for the optical effective numerical aperture of a first diffraction grating so as not to include harmonic components in the light intensity distribution itself of interference fringes because the harmonic distortion superimposed on the displacement signal is caused by the inclusion of higher-order spatial frequency components in the interference fringes formed by the diffraction grating.例文帳に追加

変位信号に重畳する高調波歪みは回折格子に寄って形成される干渉縞に高次の空間周波数成分が含まれていることが原因なので干渉縞の光強度分布自身に高調波成分が含まれないように、第１の回折格子の光学有効開口率を所望のギャップ設定において適宜、最適な値を用いるようにした。 - 特許庁

To provide an X-ray diffraction analyzing technique capable of simply acquiring the X-ray diffraction pattern equipped with the local structural data of a sample having a non-uniform crystal structure in a laboratory or on the spot by reducing the damping of intensity in a light path until the X-ray beam emitted from an X-ray tube arrives at a sample to the utmost.例文帳に追加

Ｘ線管から出射されたＸ線ビームが試料に到達するまでの光路における強度の減衰を極力小さくすることにより、不均一な結晶構造を有する試料の局所構造情報を備えるＸ線回折図形を、実験室や現場で短時間且つ簡単に取得することを可能とするＸ線回折分析技術を提供する。 - 特許庁

In the ceramic film depositing method for growing a film on a substrate by spraying aerosol containing ceramic powder on the substrate to collide the ceramic powder on the substrate, the ceramic film is deposited by using the highly crystalline ceramic powder in which the half-width of the highest intensity diffraction ray peak of the X-ray diffraction ray when C-Kα ray is used is below 0.3°.例文帳に追加

セラミックス粉体を含むエアロゾルを基板に吹き付け、セラミックス粉体を基板に衝突させることによって基板上に膜を成長させるためのセラミックス膜の形成方法において、Ｃｕ−Ｋα線を使用したときのＸ線回折線の最強度回折線ピークの半値幅が０．３°未満である結晶性の高いセラミックス粉体を用いてセラミックス膜の形成を行う。 - 特許庁

This adjusting device 100 is provided with a diffraction grating 22 obtaining an interference image by diffracting light transmitted through a lens 10 and making it interfere, electromagnetic moving means (46 and 48) moving the lens in an orthogonal direction to the grating of the diffraction grating, and an aberration detecting device 30 obtaining the aberration of the lens from the change of light intensity at plural points on the interference image when the lens is moved.例文帳に追加

調整装置１００は、レンズ１０を透過した光を回折し干渉させて干渉像を得る回折格子２２と、レンズを回折格子の格子と直交する方向に移動させる電磁気学的移動手段（４６，４８）と、レンズの移動時、干渉像における複数の点の光強度の変化からレンズの収差を求める収差検出装置３０とを有する。 - 特許庁

This integrated surface plasmon resonance sensor can sequentially analyze the presence of occurrence of biochemical reactions in plural samples while relatively moving a transparent substrate and a silicon substrate by entering a laser beam emitted from the minute optical element into the transparent substrate through a diffraction grating and by detecting the intensity of reflected light emitted from the transparent substrate through another diffraction grating adjacent to the diffraction grating by the minute optical element.例文帳に追加

本発明の集積型表面プラズモン共鳴センサは、微細光学素子から出射されるレーザ光を回折格子を介して透明基板内に入射させると共に金属薄膜の試料搭載領域に照射し、回折格子に隣接する他の回折格子を介して透明基板から出射される反射光の強度を微細光学素子で検出することにより、透明基板とシリコン基板とを相対移動させながら、複数の試料における生化学反応の発生の有無を順次分析できる。 - 特許庁

The toner for developing the electrostatic charge image consisting essentially of coloring matter, a binder resin and an electrostatic charge controlling agent is prepared by using a zinc compound which is expressed by general formula (1) and has the crystal structure having the two main peaks (the peak having the first strong intensity and the peak having the second strong intensity) of an X-ray diffraction at 4 to 6° and 14 to 16°.例文帳に追加

着色剤、結着樹脂および帯電制御剤を主成分とする静電荷像現像用トナーにおいて、該帯電制御剤として下記一般式（１）で表され、かつＸ線回折の２つのメインビーク（１番目に強度が強いピークと２番目に強いピーク）が４〜６度と１４〜１６度に存在する結晶構造を有する亜鉛化合物を使用することを特徴とする。 - 特許庁