「diffraction」に関連した英語例文の一覧と使い方(59ページ目) - Weblio英語例文検索

Therein, the large-area diffraction grating can be simply and precisely formed according to oblique vapor deposition in twice.例文帳に追加

２回の斜め蒸着により簡単に且つ精度良く回折格子を大面積に形成することが可能となる。 - 特許庁

Light for exposure is made incident on a master hologram 31 through a prism 33 with an exposure of a low diffraction efficiency of secondary light.例文帳に追加

２次光の回折効率が低い露光量で、露光用の光をプリズムを通してマスターホログラムに入射する。 - 特許庁

This beam is diffracted with zeroth and first-order diffraction beams slanted inversely and asymmetrically relative to an optical axis.例文帳に追加

このビームは、光軸に対して逆向き且つ非対称に傾斜した０次および１次回折ビームに回折される。 - 特許庁

To provide a pseudo-blazed diffraction element having a grating pattern with fine grating pitches with high accuracy.例文帳に追加

格子ピッチが高精度で微細化された格子パターンを有する擬似ブレーズ化回折素子を提供することである。 - 特許庁

To exhibit a function as a delay circuit in a nanometer area without being governed by diffraction limit of light.例文帳に追加

光の回折限界に支配されることなく、遅延回路としての機能をナノメートル領域において発揮させる。 - 特許庁

A q value is shorter than light wavelength in which an optical system using the diffraction optical element 1 is handled.例文帳に追加

ｑの値は回折光学素子１が使用される光学系が取り扱う光の波長よりも短くされている。 - 特許庁

To effectively solve problems of "rolling in of air bubbles" and/or "curvature" in the manufacturing of a diffraction optical element.例文帳に追加

回折光学素子製造の際の、上記「気泡の巻き込み」および／または「反り」の問題を有効に解消する。 - 特許庁

Thus, the adverse effect of the wavelength dependency of the diffraction angle is eliminated and also light utilization efficiency is improved.例文帳に追加

これらにより、回折角の波長依存性の悪影響を除去し、併せて光利用効率を向上させる。 - 特許庁

To provide an X-ray analyzer capable of forming a two-dimensional X-ray diffraction image highly accurately at a high speed.例文帳に追加

２次元Ｘ線回折像を高速且つ高精度に作成できるＸ線分析装置を提供する。 - 特許庁

In point diffraction patterns, diffuse scattering is convoluted with the incident cone of illumination angles. 例文帳に追加

点状の回折図形においては、散漫散乱は照射角の入射コーンによって畳み込まれる(コンボリューションされる)。 - 科学技術論文動詞集

The back focal plane of the final projector lens contains the diffraction pattern of the sample when the microscope is in image mode. 例文帳に追加

顕微鏡が像モードのとき、最終投影レンズの後焦点面は試料の回折図形を収容する。 - 科学技術論文動詞集

It should be noted that for correct operation of selected area diffraction, the intermediate image plane is fixed. 例文帳に追加

制限視野回折の正しい操作のためには、中間像面が固定されることに注意(留意)するべきである。 - 科学技術論文動詞集

It is convenient to classify the diffraction contrast effect according to the type of interface existing between the two phases. 例文帳に追加

回折コントラストの効果を、2相間に存在する界面の種類にしたがって分類することは便利である。 - 科学技術論文動詞集

Diffraction spots broaden out into discs because CBED patterns are formed with the electron probe focused onto the specimen. 例文帳に追加

回折斑点はディスクに広がる; なぜなら、CBED図形は試料に集束された電子プローブで形成されるからである。 - 科学技術論文動詞集

In crystalline specimens, the use of the primary beam (bright-field) or a Bragg-reflected beam (dark-field) gives rise to diffraction contrast. 例文帳に追加

結晶性試料では、一次ビーム(明視野)またはブラッグ反射ビーム(暗視野)の利用が、回折コントラストをもたらす。 - 科学技術論文動詞集

In some applications of diffraction contrast, we are concerned with the relation between the specimen and the direction of a diffracted beam. 例文帳に追加

回折コントラストのいくつかの応用では、われわれは試料と回折ビームの方向との関係に関心がある。 - 科学技術論文動詞集

This figure shows the diffraction pattern from a row of circular holes that are equally spaced in an opaque screen. 例文帳に追加

この図は、光を通さないスクリーンの中に等間隔に配置された円形の穴の列からの回折図形を示す。 - 科学技術論文動詞集

The feed material 11 is one in which a diffraction peak corresponding to a (111) crystal plane and a diffraction peak other than that corresponding to the (111) plane are observed as diffraction peaks corresponding to polycrystalline silicon carbide whose crystal polymorph is 3C, through X-ray diffractometry of the surface layer containing polycrystalline silicon carbide whose crystal polymorph is 3C.例文帳に追加

フィード材１１は、結晶多形が３Ｃである多結晶炭化ケイ素を含む表層のＸ線回折により、結晶多形が３Ｃである多結晶炭化ケイ素に対応した回折ピークとして、（１１１）結晶面に対応した回折ピークと、（１１１）結晶面に対応した回折ピーク以外の回折ピークとが観察されるものである。 - 特許庁

At least one of the inward member 41, the outward member 43 and the rolling element 42 is made of the titanium material having the new phase 22 that a diffraction spot is present at a position deviating from that on a virtual line connecting together almost the centers of diffraction spots of adjacent parent phases on an electron diffraction pattern obtained by electron microscopy.例文帳に追加

そして、内方部材４１、外方部材４３及び転動体４２のうちの少なくとも１つが、電子顕微鏡法によって得られた電子回折図形上で、隣り合う母相の回折斑点の略中心を結ぶ仮想線上から逸れた位置に回折斑点が存在する新相２２を有するチタン材料から成っている。 - 特許庁

The thread can provide the magnetic anisotropy to the magnetic thin membrane layer by forming a ferromagnetic thin membrane layer following the fine ruggedness formed by the optical diffraction grating or the hologram pattern 13, and the optical diffraction grating or the hologram pattern 13 can be the combination of different patterns so that the optical diffraction grating or the hologram pattern 13 may provide the change of magnetic characteristics.例文帳に追加

スレッドは、光回折格子またはホログラムパターン１３からなる微細凹凸に追従して強磁性材薄膜層を形成することにより、該磁性材薄膜層に磁気異方性を付与することができ、光回折格子またはホログラムパターンが磁気特性の変化を与えるように異なるパターンの組み合わせであるものとすることもできる。 - 特許庁

The x-ray diffraction apparatus includes: an x-ray emitter 13 for applying an x-ray to a measuring object OB; a table 27 for receiving the x-ray diffracted by the measuring object OB and fixing an imaging plate 28 for recording a diffraction ring; and a laser detection device PUH for applying a laser beam to the imaging plate 28 and reading out a shape of the diffraction ring.例文帳に追加

測定対象物ＯＢにＸ線を照射するＸ線出射器１３、測定対象物ＯＢにて回折したＸ線を受光して回折環を記録するイメージングプレート２８を固定するテーブル２７及びレーザ光をイメージングプレート２８に照射して、回折環の形状を読み取るレーザ検出装置ＰＵＨを設ける。 - 特許庁

The genuineness authentication medium is provided with a visual authentication part 11 having an image recorded so as to be reproducible with visible light by a diffraction structure including a hologram or a diffraction grating and an authentication code part 12 constituting an authentication code by arranging unit images, which are formed in a visually unrecognizable size and formed with the diffraction structure, in a prescribed pattern.例文帳に追加

ホログラム又は回折格子を含む回折構造によって、可視光により再生可能に記録された画像を有する目視認証部１１と、目視による認識が不能な大きさに形成され、前記回折構造により形成される単位画像を、所定のパターンに配置して認証コードを構成する認証コード部１２とを備えた。 - 特許庁

In the optical system having a diffraction surface consisting of the diffraction grating of a blaze type having rotationally symmetrical form to an optical axis, the flare on the non-lens surface is suppressed by setting the ratio of the whole area of the non-lens surface and the average of the projection area to a plane vertical to the optical axis of the diffraction surface included in the optical system, to be in a prescribed range.例文帳に追加

光軸に対して回転対称形状のブレーズ型の回折格子からなる回折面を有する光学系において、非レンズ面の総面積と光学系に含まれる回折面の光軸に対して垂直な平面への射影面積の平均値との比を、所定の範囲とすることによって、非レンズ面のフレアを抑制する構成とする。 - 特許庁

A cerium oxide abrasive is provided that contains slurry, wherein ceric oxide having 2.5 or more of an integrated intensity ratio a/b, when the diffraction intensity by the face (111) obtained by X-ray diffraction is (a), the diffraction intensity by the face (200) is b is dispersed in a medium, and a method of grinding a predetermined substrate with this ceric oxide abrasive is provided.例文帳に追加

Ｘ線回折法で得られる（１１１）面による回折強度ａと（２００）面による回折強度ｂがａ／ｂの積分強度比で２．５以上である酸化セリウムを媒体に分散させたスラリーを含む酸化セリウム研磨剤及びこの酸化セリウム研磨剤で、所定の基板を研磨することを特徴とする基板の研磨法。 - 特許庁

In a process of manufacturing the optical semiconductor device, a diffraction grating is formed in an active layer, a wafer is placed in a growth device (steps S1 and S2), a thermal deformation prevention layer is formed on the surface of the diffraction grating at a first temperature (step S3), and then a temperature is raised to a second temperature for forming a buried layer of the diffraction grating (step S4).例文帳に追加

光半導体装置の製造過程において、活性層に回折格子を形成してウェハを成長装置内に配置し（ステップＳ１，Ｓ２）、この成長装置内で、第１の温度で回折格子表面に熱変形防止層を形成した後（ステップＳ３）、回折格子の埋め込み層を形成する第２の温度まで昇温する（ステップＳ４）。 - 特許庁

The pattern to be displayed is visualized by forming the transmission type diffraction grating (16) corresponding to the pattern in such a manner that when natural light transmitted and diffracted through the transmission type diffraction grating (16) is reflected and diffracted on the optical disk (14) and the reflected light (-first order diffracted light) entering the back face of the transmission type diffraction grating (16) exits perpendicular to the shell 11.例文帳に追加

透過型回折格子（１６）を透過回折した自然光が光ディスク（１４）において反射回折し、透過型回折格子（１６）の裏面に入射した反射光（−１次の回折光）がシェル（１１）に対して垂直に射出するように、表示すべきパターンに対応して透過型回折格子（１６）を形成することで、パターンを可視化する。 - 特許庁

In the reflector, the reflecting surface is preferably disposed so that the diffracted light re-entering the diffraction grating advances in nearly parallel with the diffracted light prior to being reflected by the reflector at a reference wavelength and re-enters the diffraction grating at a separate position from the incident light on a diffraction plane.例文帳に追加

好ましくは、前記反射器において、前記反射面は、前記回折格子に再入射させる際の前記回折光が、基準波長において、前記反射器によって反射させる前の前記回折光と略平行に進行し、かつ前記入射光に対して回折平面上で離隔した位置で前記回折格子に再入射するように、配置している。 - 特許庁

The diffraction optical element includes: a base part 101 including a light-emitting surface 111 and an optical surface 112 which is not in parallel with the light-emitting surface 111; the diffraction grating 102 provided in the optical surface 112 of the base part 101; and a cover layer 103 formed to cover at least a part of the diffraction grating 102 thereon and made of a liquid or a solid.例文帳に追加

光出射面１１１および光出射面１１１と非平行な光学面１１２を備える基部１０１と、基部１０１の光学面１１２に設けられた回折格子１０２と、回折格子１０２の上に回折格子１０２の少なくとも一部を覆って形成された液体もしくは固体からなる被覆層１０３とを備える。 - 特許庁

The optical image intensity distribution formed on a resist disposed on the side of a lower layer of a diffraction pattern by performing whole image exposure from the side of an upper surface of the diffraction pattern formed by lines L and spaces S on a substrate at a predetermined pattern pitch is calculated by using a multi-mode waveguide path analytic model or fractional Fourier transform for the diffraction pattern.例文帳に追加

ラインＬとスペースＳによって所定のパターンピッチで基板上に形成された回折パターンの上面側から全面露光を行なうことによって回折パターンの下層側に配置されたレジストに形成される光学像強度分布を、回折パターンに対してマルチモード導波路解析モデル又はフラクショナルフーリエ変換を用いることにより算出する。 - 特許庁

The RHx compound (R represents one metal element in rare earth elements, H is hydrogen and (x) is 2 or around 2) has an FCC (face-centered cubic) structure and a crystalline structure showing high diffraction intensity on the (311) plane than the diffraction intensity on the (111) plane by X-ray diffraction pattern analysis.例文帳に追加

本発明のＲＨｘ（Ｒは希土類元素のうちのいずれか一の金属元素。Ｈは水素元素。ｘは２又はその近傍。）化合物は、ＦＣＣ構造を有し、かつ、Ｘ線回折パターン結果において（１１１）面の回折強度よりも（３１１）面の回折強度のほうが大きい結晶構造を有することを特徴とするものである。 - 特許庁

To provide a projection lens of a coaxial system suitable to, specially, a projection type display device etc., such as a liquid crystal projector by using a diffraction optical element which has high diffraction efficiency in the whole use wavelength range (light in visible region) and can reduce incidence angle dependency of light incident on the diffraction optical element.例文帳に追加

使用波長全域（可視光域）において、回折光学素子の回折効率が高く、且つ前記回折光学素子に入射する光の入射角依存を低減できるような前記回折光学素子を用い、特に液晶プロジェクタ等の投射型の表示装置等に好適な共軸系の投射用レンズを提供することを目的とする。 - 特許庁

The SiC film is coated on the glassy carbon material by a chemical vapor deposition(CVD) method, the X-ray diffraction peak strength of the SiC crystal face (111) of the film is ≤10 kc.p.s, and the diffraction peak strength of the SiC crystal face (111) is ≥80% of the diffraction peak strength of the whole crystal faces (hkl).例文帳に追加

ＣＶＤ法によりＳｉＣ膜を被覆したＳｉＣ膜被覆ガラス状炭素材において、Ｘ線回折によるＳｉＣ膜のＳｉＣ（１１１）結晶面の回折ピーク強度が１０ｋｃ．ｐ．ｓ以下であり、該ＳｉＣ（１１１）結晶面の回折ピーク強度が全結晶面（ｈｋｌ）の回折ピーク強度の８０％以上であることを特徴とする。 - 特許庁

Diffraction gratings on positions except for a selectively set position (for example a point A in the figure) out of diffraction gratings auto-generated on an intersection where the first and second hologram write-in light beams intersect in the photorefractive crystal 1 are erased with a hologram erase light beam inputted from a hologram erase light input section 5 and a diffraction grating is generated on the selectively set position.例文帳に追加

これら第１、第２のホログラム書き込み光がフォトリフラグティブ結晶１中で交差する交差位置に自動生成される回折格子のうち選択設定位置（例えば図１のＡ点）を除く位置の回折格子を、ホログラム消去光の入力部５から入力するホログラム消去光により消去し、選択設定位置に回折格子を生成する。 - 特許庁

A coil spring is interposed between the diffraction grating holder and the small diameter part of the frame in the optical pickup, thereby deciding a distance from the light emission point of an optical beam to the diffraction grating by only the manufacturing precision of the diffraction grating holder, increasing precision in dividing three beams on the optical disk, reducing the manufacturing/assembling/adjusting operation, and thus enhancing the productivity.例文帳に追加

光ピックアップの回折格子ホルダとフレームの小径部との間にコイルバネを介挿することにより、光ビームの発光点から回折格子までの距離を回折格子ホルダの製造精度のみで決定し、光ディスク上の３ビームの分割の精度を高くし、製造・組立・調整作業の短縮化を図り、生産性を向上する。 - 特許庁

The method and device for adjusting the diffraction grating is characterized in that the luminous flux passed the diffraction grating is made incident on a space frequency filter, only the high-frequency component is taken out, the interference fringes generated by causing the interference of the high-frequency component are observed, and by aligning the same to a reference line, the direction of the diffraction grating is adjusted.例文帳に追加

本発明による回折格子の調整方法並びに調整装置は、回折格子を通過した光束を空間周波数フィルターに入射させて高周波成分のみを取り出し、該高周波成分を干渉させてできる干渉縞を観測し基準線と一致させて回折格子方向を調整することを特徴とする。 - 特許庁

This thin film of the wax composition consists of a composition containing the wax and has >1.0 value of a ratio (Ib/Ia) of diffraction intensity Ia in the normal direction of surface of the thin film of the wax composition in X-ray diffraction peaks developed by accompanying with the orientation of the crystallized wax to diffraction intensity Ib in a direction making right angle to the normal direction.例文帳に追加

本発明のワックス組成物薄膜は、ワックスを含有する組成物からなり、結晶化した前記ワックスの配向に伴い発現するＸ線回折ピークの前記ワックス組成物薄膜表面の法線方向の回折強度Ia及び該法線方向と９０度をなす方向における回折強度Ibの比Ib/Iaが１．０より大きい値である。 - 特許庁

Diffraction lights of even order other than diffraction lights of zero order is removed in mark lights obtained from an irradiated area including the mark, a frequency component corresponding to the each diffraction light of odd degree included in the mark lights is extracted from an image signal of the mark lights, and the positional information of the mark is measured using the extracted frequency component.例文帳に追加

マークを含む被照射領域から得られるマーク光は、０次回折光以外の偶数次回折光が除去されており、マーク光の画像信号から、マーク光に含まれる奇数次回折光に対応する周波数成分を抽出し、その抽出された周波数成分を用いてマークの位置情報を計測する。 - 特許庁

Diffraction light generated by an index diffraction grating 13 is made to reinterfere with a moving diffraction grating 15; an interference pattern (periodic light intensity distribution) of the interference light is allowed to vibrate by rotational vibration of a modulation mirror 16; phase modulation of the periodic light intensity distribution is performed, and then the modulated signal is detected by a light receiving part 17.例文帳に追加

インデックス回折格子１３で発生した回折光を、移動回折格子１５で再干渉させ、その干渉光の干渉縞（周期的な光強度分布）を変調ミラー１６の回転振動で振動させ、その周期的な光強度分布の位相変調したうえで、受光部１７でその変調信号を検出する。 - 特許庁

In this optical diffraction IC tag display body 1 having the non-contact IC tag 3 formed on one side surface of a base material sheet and an optical diffraction structure 2 formed on the other side surface thereof, the hidden pattern developed by a discrimination device and enabling discrimination is recorded in the optical diffraction structure 2.例文帳に追加

本発明の光回折ＩＣタグ表示体１は、基材シートの一方側面に、非接触ＩＣタグ３が形成され、他方側面には光回折構造体２が形成されている光回折ＩＣタグ表示体において、前記光回折構造体２には判別具により出現し判別可能となる隠しパターンが記録されていることを特徴とする。 - 特許庁

Since the mutual diffraction peak wavelengths are adequately separated from each other, it is avoided, for example, that the diffraction wavelength region of B light on the optical path combiner and the diffraction wavelength region of G light are partially superimposed, and it is avoided that G light is diffracted on HOE where B light is diffracted and is made incident to an optical pupil as ghost light.例文帳に追加

これにより、互いの回折ピーク波長が十分に離れるので、例えば、光路コンバイナでのＢ光の回折波長域とＧ光の回折波長域とが一部重なるのを回避することができ、Ｇ光がＢ光を回折するＨＯＥで回折されてゴースト光として光学瞳に入射するのを回避することができる。 - 特許庁

In a wavelength measuring device, one or more Bragg diffraction gratings (FBG) 5 are formed on an optical fiber 3 which emits light from a light source 1, the wavelength of reflection light from each Bragg diffraction grating 5 is detected by a wavelength detector 9 to measure a physical quantity such as temperature and strain at the position of each Bragg diffraction grating 5.例文帳に追加

光源１からの光が入射される光ファイバ３に一以上のブラッグ回折格子（ＦＢＧ）５が形成され、各ブラッグ回折格子５からの反射光の波長を波長検出器９により検出して各ブラッグ回折格子１の位置における温度、歪み等の物理量を測定するようにした波長計測装置に関する。 - 特許庁

The diffraction optical element expands the divergent angles in the first and the second directions of the emitted luminous flux from the diffraction optical element to angles larger than the convergent angles in the first and the second directions of the incident luminous flux to the diffraction optical element, respectively, and the divergent angle in the first direction of the emitted luminous flux is made larger than the divergent angle in the second direction.例文帳に追加

回折光学素子は、該回折光学素子からの射出光束の第１及び第２の方向での発散角を、該回折光学素子への入射光束の該第１及び第２の方向での収束角よりもそれぞれ広げ、かつ射出光束の第１の方向での発散角を第２の方向での発散角よりも広くする。 - 特許庁

A plane diffraction grating 13 is formed from material having a proper coefficient of linear expansion, and the fluctuation of the wavelength of reflected light by a concave mirror 14 caused by thermal expansion or contraction of members other than the plane diffraction grating 13 is counterbalanced or reduced by the fluctuation of the wavelength of reflected light by the concave mirror 14 caused by thermal expansion or contraction of the plane diffraction grating 13.例文帳に追加

適切な線膨張率を有する材料で平面回折格子１３を形成して、平面回折格子１３以外の部材の熱伸縮に起因する凹面鏡１４の反射光の波長の変動を、平面回折格子１３の熱伸縮に起因する凹面鏡１４の反射光の波長の変動で相殺或いは小さくする。 - 特許庁

Outgoing light from an optical pickup 2 is made incident on a diffraction grating 9, sharing interference fringes formed by light projected from the diffraction grating 9 are received, the optical intensity of the received interference fringes is measured, and the focused position of the outgoing light from the diffraction grating 9 and the optical pickup 2 is controlled in accordance with the measured optical intensity to evaluate an irradiating position.例文帳に追加

光ピックアップ２からの出射光を回折格子９に入射し、回折格子９から出射した光により形成するシェアリング干渉縞を受像し、受像した干渉縞の光強度を測定し、測定した光強度により回折格子９と光ピックアップ２からの出射光の集光位置を調整して照射位置を評価する。 - 特許庁

A plurality of minute diffraction grating elements 13 having a diffraction gratings that keeps confidential information are disposed on the surface of the information protection layer, and the spacings and the angles of the grating elements are set so that the diffracted light K which is formed by illumination light L from the light source 3 diffracted by the diffraction grating elements 13 can enter the predetermined region 4.例文帳に追加

そして、情報保護層の表面に秘匿情報を保持している回折格子を有する微小な複数の回折格子要素１３が配置され、光源３からの照明光Ｌが回折格子要素１３で回折してなる回折光Ｋが、所定領域４に入射するように格子の間隔と角度が設定されている。 - 特許庁