「etching method」に関連した英語例文の一覧と使い方(77ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing an etching film for electrolytic capacitor which meets both the high capacity and a high strength, and to provide an electrode foil for the capacitors.例文帳に追加

高容量および高強度の双方を満たすことのできる電解コンデンサ用エッチング箔の製造方法、および電解コンデンサ用電極箔を提供する。 - 特許庁

To solve the problem in that the normal method for accessing a buried oxide layer through mesa etching complicates the next process step because of the thereby elevated level of the non-planarity of a wafer.例文帳に追加

メサエッチによって埋込み酸化層にアクセスする通常の方法は、ウェーハの非平面性のレベルが増すので、次に続く処理工程が複雑になる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device which is suitable to the realization of an anisotropic etching profile when a single-drain cell is formed or a silicon substrate is etched.例文帳に追加

シングルドレインセル形成やシリコン基板のエッチングの際、等方性エッチングプロファイルを実現するに好適な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for dry etching a wiring layer which is improved not to deteriorate electric properties of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の電気特性を劣化させることがないように改良された、配線層のドライエッチング方法を提供することを主要な目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, by which a side etching of a gate electrode film in a process of exposing a gate insulating film can be suppressed.例文帳に追加

ゲート絶縁膜を露出させる工程におけるゲート電極膜のサイドエッチングを抑制することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fabrication method of a semiconductor element capable of processing a shape of different etching depth easily in the same surface by suppressing surface irregularities.例文帳に追加

表面の凹凸を抑制して同一面内でエッチング深さが異なる形状を容易に加工することができる半導体素子の作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, using an insulating film whose etching selection ratio with reference to silicon oxide film is high, and to provide the semiconductor device.例文帳に追加

シリコン酸化膜に対するエッチング選択比の高い絶縁膜を用いた半導体装置の製造方法および半導体装置を提供すること。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING DISSOLVED INORGANIC MATERIAL CONCENTRATION IN LIQUID, AND ETCHING LIQUID REGENERATION SYSTEM WITH THE SAME DEVICE例文帳に追加

液体中の溶存無機物質濃度測定方法及び測定装置、並びに、当該溶存無機物質濃度測定装置を備えたエッチング液再生システム - 特許庁

To provide a laser beam stimulation etching processing device using near field light, whose processing efficiency and feasibility are raised, and to provide its processing method.例文帳に追加

加工効率を向上させ、実用性を高めた、近接場光を用いたレーザ光励起エッチング加工装置及びその加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which a contact pad is protected from an etching process in the connection of upper metal wiring layer with a lower contact pad.例文帳に追加

上部金属配線層と下部コンタクトパッドとの接続においてコンタクトパッドをエッチング工程から保護する半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

As for the production method, after hot rolling, its surface is subjected to etching in a fixed amount in the process of cold rolling or after the completion of final cold rolling.例文帳に追加

製造方法としては、熱間圧延を施した後、冷間圧延途中又は最終冷間圧延終了後に表面を一定量エッチングする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a stamper which dispenses with a special installation such as a dry etching device and cuts short the time required for manufacturing the stamper.例文帳に追加

ドライエッチング装置等の特殊な設備を必要とせず、スタンパの製造に要する時間を短縮することができるスタンパ製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device and a method for manufacturing a semiconductor device in which sudden etch-stop during etching for formation of a deep hole is prevented.例文帳に追加

深いホール形成のためのエッチング時における突然のエッチストップを防止しうる半導体装置の製造装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a ferroelectric capacitor by which a ferroelectric layer can be prevented from being damaged during dry etching as much as possible.例文帳に追加

強誘電体層をドライエッチングしたときに形成されるダメージを低減することのできる、強誘電体キャパシタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reticle manufacturing method which comparatively shortens an etching time and prevents a deformation and breakdown of a membrane caused from a cooling gas.例文帳に追加

エッチング時間を比較的短くできるとともに、冷却ガスによるメンブレンの変形や破壊を防ぐことのできるレチクルの作製方法等を提供する。 - 特許庁

The method for producing a carbon nanotube comprises preparing a substrate (S10), applying a mirror surface processing to the surface of the substrate (S20), and etching the surface of the substrate (S30).例文帳に追加

基板を用意し（Ｓ１０）、この基板の表面に鏡面加工処理を施し（Ｓ２０）、さらに基板の表面にエッチング処理を施す（Ｓ３０）。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a ceramic substrate preventing a human body from being affected poorly and environment from being contaminated without using any etching liquids.例文帳に追加

エッチング液を用いないことにより、人体に悪影響を及ぼしたり、環境を汚染したりすることを防ぐセラミック基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a data generating method to generate data for a resist pattern with which a wiring pattern conformed with design data can be formed on a substrate through an etching treatment.例文帳に追加

エッチング処理により基板上に設計データ通りの配線パターンを形成できるようにする、レジストパターンのデータを生成するデータ生成方法を実現する。 - 特許庁

To provide a polymer composition for resist, which forms a resist pattern having high dry-etching resistance, and also to provide a method of manufacturing a resist composition.例文帳に追加

高いドライエッチング耐性を有するレジストパターンを形成できるレジスト用重合体組成物およびレジスト組成物を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing microneedles for transdermal drug delivery for obtaining microneedles for transdermal drug delivery by dry-etching by using a biodegradable material as an article to be processed.例文帳に追加

生分解性材料を被加工物として用いてドライエッチングにより得ることができる経皮ドラッグデリバリ用マイクロニードルの製造方法を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method of an optical fiber with processed tip, a tip 3a of an optic fiber 3 is processed by wet etching.例文帳に追加

本発明は、光ファイバ３の先端３ａをウエットエッチングにより加工することで先端加工光ファイバを製造する製造方法に関するものである。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a crystal resonator (crystal element) in which an inclined surface due to the anisotropy of etching is made small and simultaneously, chipping at corner sections are prevented.例文帳に追加

エッチングの異方性による傾斜面を小さくすると同時に角部での欠損を防止した水晶振動子（水晶片）の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an insulation pattern forming method and a resin composition capable of forming a multilayer structure easily without performing a complicated etching step, etc.例文帳に追加

煩雑なエッチング工程等を施すことなく、簡便に多層構造が形成できる、絶縁パターン形成方法及び樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor element capable of readily processing shapes which differ in etching depth within the same surface, while suppressing surface unevenness.例文帳に追加

表面の凹凸を抑制して同一面内でエッチング深さが異なる形状を容易に加工することができる半導体素子の作製方法すること。 - 特許庁

To provide a production method of a semiconductor device capable of forming a fine pattern with high precision, homogeneously, and with a high selection ratio, and a plasma etching apparatus.例文帳に追加

微細なパターンを精度良く均一に、かつ、高選択比で形成することのできる半導体装置の製造方法及びプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method which can roughen the surface of a substrate without using a chemical etching agent so that the substrate can secure a sufficient adhesion strength to an electroless-plated film.例文帳に追加

無電解めっきとの間に十分な密着強度を確保できるように、化学エッチング剤を使用しないで基体の表面を粗化することができる。 - 特許庁

To provide a semiconductor light-emitting element without causing a problem when processed by a wet etching method or increasing a drive voltage.例文帳に追加

ウエットエッチング法にて加工するときに問題が生じることがなく、しかも、駆動電圧が上昇することのない半導体発光素子を提供する。 - 特許庁

The hetero structure is manufactured by the bonding which controls atomic attraction force of a nano scale substance, different from a conventional manufacturing method using etching.例文帳に追加

従来行われてきたエッチングによる作製法と異なり、ナノスケール物質の原子的引力を制御した接着によりヘテロ構造を作製する。 - 特許庁

According to the manufacturing method, without using an expensive patterning device and an etching device, less expensive and precise shadow mask is available.例文帳に追加

本発明によるシャドウマスクの製造方法によれば、高価なパタニング装置やエッチング装置を使用しなくても、安値で精密なシャドウマスクを生産できる。 - 特許庁

To obtain a dry etching device, which is manufactured at a low cost and has a low running cost by a method, wherein a window short in maintenance cycles is reduced in cost and enhanced in resistance to plasma.例文帳に追加

メンテナンスサイクルの短い窓を、安価で耐プラズマ性の高いものとし、コスト及びランニングコストの安いドライエッチング装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device by which an appropriate etching can be conducted, such that an altered resist substance is not left when an oxidized film is wet-etched.例文帳に追加

酸化膜を湿式エッチング処理する際に、レジスト変質物が残ることのない良好なエッチングが行える半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a simple method of manufacturing a processed substrate in which a substrate is integrated with a resist film having a highly accurate desired resist pattern and excellent in etching durability.例文帳に追加

基板と、高精度な所望レジストパターンを有し、かつエッチング耐性に優れるレジスト膜とが一体化した加工基板の簡易な製造方法を提供する。 - 特許庁

The organic layers 18a, 18b, 18c are produced by a light irradiating dry etching method whereby an organic substance layer 12 is irradiated with light so that patterning is made.例文帳に追加

有機層１８ａ、１８ｂ、１８ｃを、有機材料層１２に光を照射してこれをパターニングする光照射ドライエッチング法によって形成する。 - 特許庁

To provide a method of etching a film to be etched which is formed on a substrate wherein the roughness of substrate surface is restrained, selectivity is excellent, and cost is low.例文帳に追加

基板に形成された被エッチング膜のエッチング方法であって、基板表面の荒れを抑制し選択性に優れた安価なエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of etching on a processing platform (e.g. a cluster tool) in which robust pre-etch and post-etch data may be obtained in-situ.例文帳に追加

本発明は、粗いエッチング前及びエッチング後のデータがその場所で得られる処理台(例えば、クラスターツール)においてエッチングする方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method for enabling a double patterning process in which a substrate is processed by one-time dry etching, and a resist material used therefor.例文帳に追加

１回のドライエッチングで基板を加工するダブルパターニングプロセスを可能にするためのパターン形成方法及びこれに用いるレジスト材料を提供する。 - 特許庁

To provide an element isolation film forming method for a semiconductor device, in which two times of wet etching processes are applied to recover damages duet to a CMP process.例文帳に追加

２次に亘るウェットエッチング工程により、ＣＭＰ工程により発生する損傷を回復される半導体素子の素子分離膜形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method of a silicon wafer, by which excellent mirror finish flatness can be obtained on the front surface and the rear surface is a little rough.例文帳に追加

表面を鏡面研磨したウェーハにおいて、良好な平坦度を得、かつ裏面粗さが小さくなるシリコンウェーハのエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for efficiently recovering cerium with high purity from a solution containing cerium and chromium and to provide a chromium etching solution using the recovered cerium.例文帳に追加

セリウムおよびクロムを含有する溶液から、セリウムを高純度で効率よく回収する方法および回収したセリウムを用いるクロムエッチング液を提供する。 - 特許庁

To provide a method for profitably recovering cerium by removing dissolved chromium from a waste chromium etchant containing ammonium cerium (IV) nitrate used for etching chromium.例文帳に追加

クロムエッチングに使用された硝酸アンモニウムセリウム（IV）を含むクロムエッチング廃液から溶解したクロムを除去し、セリウムを経済的に回収する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a measuring method and device for easily performing exact measurement of an extremely fine line width and quantification about a profile of an etching structure on a pattern wafer.例文帳に追加

極微線幅の正確な測定やパターンウェハ上のエッチング構造のプロファイルに関する定量化が容易に行える測定方法と装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of controlling the amount of side etching with high precision, increasing a drain withstand voltage, and decreasing on-resistance.例文帳に追加

サイドエッチング量を高精度に制御でき、かつ、ドレイン耐圧の向上およびオン抵抗の低減が図れる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of etching a silicon substrate having a silicon oxide film formed on its surface, wherein contact resistance can be lowered.例文帳に追加

シリコンの表面上にシリコン酸化膜が形成された基板をエッチングする方法において、コンタクト抵抗を低くできるエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a method for manufacturing a semiconductor device which forms the desired etching shape to impress the optimal stress to a device.例文帳に追加

所望のエッチング形状を形成してデバイスに最適な応力を印加することを可能にする半導体装置の製造方法を得ることを目的とする。 - 特許庁

Thereafter, the sacrificing layer is removed by using a release etching method through the second opening part and a cavity is formed in the optical interference type reflection structure.例文帳に追加

その後、リリースエッチング法を用いて、犠牲層を、第二開口部を通して除去して、光学干渉型反射構造体中に空洞を形成する。 - 特許庁