「etching method」に関連した英語例文の一覧と使い方(74ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a data storing method and data storing device which can store data by etching a metal film with a control in a nanometer scale precision.例文帳に追加

ナノメートルスケールで制御して金属膜をエッチングしてデータを記憶することが可能なデータ記憶方法及びデータ記憶装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electrode foil for an electrolytic capacitor which has high bending strength even after etching and anodic oxidation are carried out.例文帳に追加

エッチングおよび陽極酸化を施した後でも、高い折曲強度を有する電解コンデンサ用電極箔の製造方法を提供する。 - 特許庁

To a printed matter printed by the flexographic printing, a pseudo-etching and a hologram pattern are additionally partly formed by a UV-curing coating transfer method.例文帳に追加

フレキソ印刷された印刷物に対して更に、ＵＶ（紫外線硬化）コーチング転写法により擬似エッチングや、ホログラムパターンを部分的に作成する。 - 特許庁

To provide a method for purifying carbonyl difluoride (COF_2) useful for a reagent for organic synthesis, a cleaning gas for a semiconductor manufacturing apparatus, an etching gas, or the like.例文帳に追加

有機合成の試薬、半導体製造装置のクリーニングガス、エッチングガス等に有用な二フッ化カルボニル（ＣＯＦ_2）の精製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing carbonyl difluoride (COF_2) useful for a reagent for organic synthesis, a cleaning gas for a semiconductor manufacturing apparatus, an etching gas, or the like.例文帳に追加

有機合成の試薬、半導体製造装置のクリーニングガス、エッチングガス等に有用な二フッ化カルボニル（ＣＯＦ_2）の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for roughening nickel surface into a fine rugged shape while preventing the nickel from being significantly be lost by an etching.例文帳に追加

本発明は、エッチングによる大きなニッケル損耗を防止しつつ、微細な凹凸形状に粗面化する方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

In the manufacturing method of the semiconductor device, an etching stop layer is provided selectively between the layers of a multilayer circuit in consideration of degassing impurities during its continuous manufacturing processes.例文帳に追加

連続する製造過程中に不純物のガス抜けを考慮して多層回路の層間にエッチング阻止層が選択的に提供される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing semiconductor device by which an HfO_2 film can be etched selectively by suppressing the etching of an SiO_2 film.例文帳に追加

ＳｉＯ_２膜のエッチングを抑制してＨｆＯ_２膜を選択的にエッチングすることのできる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing trifluoromethylhypofluorite (CF_3OF) useful as a reagent for organic syntheses, as a cleaning gas or etching gas for producing semiconductors.例文帳に追加

有機合成用の試薬、半導体製造用のクリーニングガス、エッチングガス等に有用なトリフルオロメチルハイポフルオライト（ＣＦ_3ＯＦ）の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a planarization treatment method and a wet etching control apparatus for realizing planarization level which is small in variation in film thickness with small polishing amount.例文帳に追加

少ない研磨量で膜厚ばらつきの少ない平坦化レベルを実現する平坦化処理方法及びウェットエッチング制御装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film transistor display plate that can minimize generation of an impurity due to exposure of copper at an etching process.例文帳に追加

エッチング工程時に銅が露出して不純物が発生することを最小化できる薄膜トランジスタ表示板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this method of manufacturing a semiconductor device, after dry etching, the inside of a process chamber 11 is treated with the plasma of an inert gas 25, such as He or the like.例文帳に追加

ドライエッチング後に、プロセスチャンバー１１内をＨｅ等の不活性ガス２５のプラズマによって処理する、半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide a method of dry-etching a low-permittivity interlayer insulating film which brings forth a small CD loss, causes no damage to the film, and is set less pattern-dependent than usual.例文帳に追加

ＣＤロスが小さく、膜ダメージもなく、また、パターン依存性の抑制された低誘電率層間絶縁膜のドライエッチング方法の提供。 - 特許庁

To provide an etching method whereby surface roughness of glass can be decreased, a glass sheet whose surface roughness is adjusted, and a flat panel display.例文帳に追加

ガラス表面粗さを低下させる調整が可能なエッチング方法、表面粗さが調整されたガラス板およびフラットパネルディスプレイの提供。 - 特許庁

To provide a method for etching material at its surface by a focused electronic beam for deriving a chemical reaction on the surface.例文帳に追加

本発明は、表面で化学反応を誘導する集束された電子ビームによって表面で材料をエッチングするための方法に関する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device which can surely conduct an injecting treatment or wet etching treatment with a resist pattern used as a mask.例文帳に追加

レジストパターンをマスクとした注入処理やウェットエッチング処理を確実に行なうことのできる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for processing a fine shape, capable of imparting a fine pattern by performing additional etching in a recessed portion formed on a base body.例文帳に追加

基体に形成した凹部内に追加エッチングを行い、微細パターンを付与することを可能にした、微細形状の加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having high adhesion property with a substrate which enables reproduction of a fine pattern even by a wet etching method, and to provide a forming method of a circuit pattern.例文帳に追加

本発明は、基板との密着性が高く、ウェットエッチング法においても微細なパターンを再現することが可能な感光性組成物及び回路パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a copolymer having easily processable etching rate to a developing solution without light exposure, a molecular resin composition, a method for forming a pattern by using the composition and a method for producing a capacitor.例文帳に追加

露光工程なしで現象溶液に対して容易なエッチング速度を有する共重合体、分子樹脂組成物及びそれを用いたパターン及びキャパシタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an inkjet head by which even if an electrode at the end of a chip is exposed because of excessive etching of polyparaxylylene, the electrode is protected from corrosion by an easy method.例文帳に追加

簡便な方法で、ポリパラキシリレンの過剰エッチングによりチップ端部の電極が露出した場合でも、電極を腐食から保護することができるインクジェットヘッドの製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a both-sided flexible circuit board which can process an insulating base material by a resin etching method and suitably form a hole for conduction needed for via hole formation.例文帳に追加

樹脂エッチング手法で絶縁べ−ス材の加工とビアホ−ル形成のために必要な導通用孔を好適に形成できる両面可撓性回路基板の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a homogeneous group III-V compound crystal without containing an unintentional impurity, a method of manufacture, and a method of etching the surface of the seed crystal.例文帳に追加

均質で意図しない不純物の混入のないＩＩＩ−Ｖ族化合物結晶の製造装置および製造方法、ならびに種結晶表面のエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a surface acoustic wave filter having an etching method for an insulation protection film where the process is completed in a short time without eroding a terminal electrode.例文帳に追加

端子電極が侵食される危険性がなく、短時間での工程完了が可能な絶縁保護膜のエッチング方法を有する弾性表面波フィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

In a method for manufacturing a porous film for a wiring substrate or a method for manufacturing a prepreg, a step of eliminating a dense layer of a surface layer of the porous film by dry etching is conducted.例文帳に追加

配線基板用多孔質膜の製造方法またはプリプレグの製造方法において、多孔質膜の表層の緻密層をドライエッチングにより除去する工程を実施する。 - 特許庁

To provide a solution material for an underlayer film having etching resistance and an antistatic effect and capable of forming a film by a coating method, and a pattern forming method using the solution material.例文帳に追加

エッチング耐性および帯電防止効果を有し、かつ塗布法で成膜が可能な下層膜溶液材料、及びこの下層膜溶液材料を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for correcting a deformation generated in a blind section in a metal thin plate having a minute slit-like opening manufactured by the photo-etching method.例文帳に追加

フォトエッチング法にて製造された微細なスリット状開口部を有する金属製薄板における簾部分に生じる変形を修正するための欠陥修正方法を提供すること。 - 特許庁

After that, the insulation film 36 and surface protection film 41 on a heating region of the heating resistor film 31 are removed by using a photolithography method and a dry-etching method to open a pit 8 and to make an opening.例文帳に追加

その後、ホトリソグラフィー法とドライエッチング法を用いて発熱抵抗体部３１の発熱領域上の層間絶縁膜３６、表面保護膜４１を除去し、ピット８を開口させる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing semiconductor device by which the working accuracy of an insulating film by etching can be improved easily and to provide a semiconductor device manufactured by the method.例文帳に追加

エッチングによる絶縁膜の被加工精度を容易に向上できる半導体装置の製造方法、およびこの製造方法により製造された半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a surface treatment method by which pattern tumbles of a resin pattern and an etching pattern can be prevented effectively, and to provide a surface treatment liquid for use in the surface treatment method.例文帳に追加

樹脂パターンや被エッチングパターンのパターン倒れを効果的に防止することが可能な表面処理方法、及びその表面処理方法で用いられる表面処理液を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a mask pattern, which prevents pattern collapse of the mask pattern by omitting an etching process of an antireflection film when forming the mask pattern by a Side Wall Patterning (SWP) method.例文帳に追加

ＳＷＰによりマスクパターンを形成する場合に、反射防止膜のエッチング工程を省略し、マスクパターンのパターン倒れを防止することができるマスクパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a solid imaging apparatus which can form an optical waveguide without using a photolithography method or anisotropic dry etching which causes optical characteristic deterioration.例文帳に追加

光学特性劣化を招くフォトリソグラフィ法および異方性ドライエッチングを用いずに光導波路を形成することが可能な固体撮像素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a patterning method for a multi-layered resist film and a manufacturing method for a semiconductor device that can improve reliability of the semiconductor device and shorten an etching stage.例文帳に追加

半導体装置の信頼性を向上させるとともに、エッチング工程を短縮化することが可能な、多層レジスト膜のパターニング方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a copper plating film deposition method capable of reliably forming a conductor circuit of a fine pitch when forming the pattern by the etching, a copper clap laminate, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

エッチングによってパターン形成する際に、確実にファインピッチの導体回路を形成できる銅めっき皮膜の成膜方法および銅張り積層板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a mask pattern by which a narrow and isolated pattern can be etched without using an expensive means such as optical proximity compensation, and to provide a method for etching a magnetic reproducing head.例文帳に追加

光近接効果補正等の高価な手法を用いずに狭小孤立パターンをエッチングし得るマスクパターンの形成方法および磁気再生ヘッドのエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect correction method for correcting deformation produced in a blind-like part in a metallic thin plate having minute slit-like openings manufactured by a photo-etching method.例文帳に追加

フォトエッチング法にて製造された微細なスリット状開口部を有する金属製薄板における簾部分に生じる変形を修正するための欠陥修正方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma etching method which can suppress the occurrence of bowing compared to a conventional method and can perform finer and accurate processing, and also to provide a control program and a computer storage medium.例文帳に追加

従来に比べてボーイングの発生を抑制することができ、より微細な加工を精度良く行うことのできるプラズマエッチング方法、制御プログラム及びコンピュータ記憶媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment method in which a high mask selection ratio can be realized at a high etching rate in the plasma treatment method in which a hole working at a high aspect ratio to an insulating film is conducted.例文帳に追加

絶縁膜への高アスペクト比のホール加工を行うプラズマ処理方法において、高エッチングレートで高いマスク選択比を実現可能な、プラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method which can obtain a smooth surface and can achieve a sufficiently high etch selectivity, and to provide a very accurate inspection method of silicon wafers.例文帳に追加

平滑な表面を得ることができ、かつ十分なエッチング選択比を有するエッチング方法を実現するとともに、精度の高いシリコンウェーハの検査方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor device which prevents the omission of an SiO_2 layer, at the time of forming the pattern of gate electrode structure in W/WN/Poly-Si/SiO_2 laminating films by using a dry etching method.例文帳に追加

ドライエッチング法を用いてW/WN/Poly-Si/SiO_2積層膜にゲート電極構造のパターンを形成する際におけるSiO_2層の抜けを防止する、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching agent for copper or copper alloy which can form fine wiring keeping the wiring width of an electrolytic plating layer, and its manufacturing method, a replenishing liquid and a method for manufacturing a wiring substrate.例文帳に追加

微細かつ電解めっき層の配線幅が維持された配線を形成できる銅又は銅合金のエッチング剤、その製造法、補給液及び配線基板の製造法を提供する。 - 特許庁

The method allows a laser array structure having laser elements of different wavelengths to be manufactured, even in a semiconductor materials which are not suitable for a manufacturing method based on etching and regrowth.例文帳に追加

この方法によりエッチングや再成長による製造方法に適合しない半導体材料系においても、異なる波長のレーザ素子をもつレーザアレー構造を製作することができる。 - 特許庁

To provide a method for removing fluorine from a fluorine-containing gas of high flow rate in a method for removing a fluorine gas in a gas discharged in cleaning or etching of silicon or tungsten.例文帳に追加

珪素やタングステンのクリーニングやエッチングにおいて排出されるガス中のフッ素ガスを除去する方法において、高流量のフッ素含有ガスからフッ素を除去する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of eliminating the surface oxide film of titanium or a titanium compound in the dry etching method of a laminated structure of rare metal film and titanium or a titanium compound.例文帳に追加

貴金属膜とチタンまたはチタン化合物の積層構造のドライエッチング方法において、チタンまたはチタン化合物の表面酸化膜を除去する方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a circuit board using the laminate of a metal (thin film) layer and a polyimide film and a circuit board manufacturing method relating to the improvement of an etching processing method for the polyimide film.例文帳に追加

金属（薄膜）層とポリイミドフィルムとの積層体を使用しての回路基板とそのポリイミドフィルムのエッチング加工法の改善に関する回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A solar cell can be produced at a relatively low cost without requiring any expensive facility because ink jet method is employed for forming an etching mask in the inventive solar cell production method.例文帳に追加

本発明の太陽電池の製造方法は、エッチング用マスクの形成にインクジェット法を用いていることから、高価な設備を用いること無く、比較的低コストで太陽電池を製造できる。 - 特許庁