「etching method」に関連した英語例文の一覧と使い方(80ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a photomask by which an etching bias in a photomask can be predicted with high accuracy corresponding to a pattern opening ratio.例文帳に追加

フォトマスクの製造方法に関し、フォトマスクに於けるエッチングバイアスの予測をパターン開口率に対応して行なうことで、高精度の予測を可能にしようとする。 - 特許庁

To provide a treatment method of an amorphous carbon film, which suppresses the deterioration of the amorphous carbon film by oxidization during wet washing after etching.例文帳に追加

エッチング加工後のアモルファスカーボン膜をウエット洗浄した際の酸化による劣化を抑制することができるアモルファスカーボン膜の処理方法を提供すること。 - 特許庁

The method of manufacturing the wiring board includes a step for forming a wiring pattern 40 by etching a metal layer 20 formed with a patterned mask 30.例文帳に追加

配線基板の製造方法は、パターニングされたマスク３０が設けられた金属層２０をエッチングして配線パターン４０を形成することを含む。 - 特許庁

To provide a copper-based lead material for a semiconductor and its manufacturing method difficult to produce warp even when flatness is high, etching processing and dimple processing are performed.例文帳に追加

平坦度が高く、かつエッチング加工やディンプル加工を行っても反りが生じ難い半導体用銅系リード材およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a suspended microstructure eliminating the necessity of an etching hole for eliminating a layer of material from beneath the suspended microstructure.例文帳に追加

懸架微細構造の下方から材料の層を除去するためのエッチングホールを要しない懸架微細構造を形成する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for purifying pentafluoroethane, by which the highly pure pentafluoroethane capable of being used as a low temperature refrigerant or an etching gas can profitably be obtained.例文帳に追加

低温用冷媒やエッチングガスとして使用することができる、高純度のペンタフルオロエタンを工業的に有利に精製する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photoresist stripper formulation and a method for removing photoresist, an etching residue or an ashing residue from a semiconductor device surface.例文帳に追加

半導体デバイスの表面からフォトレジスト、エッチング残留物又はアッシング残留物を除去するためのフォトレジスト剥離剤配合物及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new semiconductor device having a multilayer wiring structure capable of certainly avoiding a deterioration in embedding property by an over etching, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

オーバーエッチングによる埋込み性の悪化を確実に回避することができる新規な多層配線構造の半導体装置及びその製造方法の提供。 - 特許庁

Only the corner 5a at the bottom of the trench 5 can be rounded without etching the side wall of the trench 5 in the second step in this method.例文帳に追加

この方法の場合、第２の工程において、トレンチ５の側壁をエッチングすることなく、トレンチ５の底部のコーナー部５ａだけを丸めることができる。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor laser having a ridge structure wherein a dry etching is used and the generations of crystal defects and plasma damages are prevented.例文帳に追加

ドライエッチングを用いてリッジ構造の半導体レーザを作製する場合に、結晶欠陥およびプラズマダメージの発生を防止する製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor device is provided in which nitriding plasma treatment or CF plasma treatment is applied to the surface of the fluorocarbon film subjected to etching treatment.例文帳に追加

エッチング処理の施されたフルオロカーボン膜の表面に対し、窒化プラズマ処理またはＣＦプラズマ処理を行う、半導体装置の製造方法が提供される。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR DRY ETCHING OF HALF-TONE PHASE SHIFTED FILM, HALF-TONE PHASE SHIFTED PHOTOMASK AND MANUFACTURE THEREOF, AND SEMICONDUCTOR CIRCUIT AND MANUFACTURE THEREOF例文帳に追加

ハーフトーン位相シフト膜のドライエッチング方法および装置、ハーフトーン位相シフトフォトマスクおよびその作製方法、ならびに半導体回路およびその製作方法 - 特許庁

The magnetic fine particles manufacturing method can independently control the magnetic characteristics and fine particles formation by using ion etching.例文帳に追加

イオンエッチングを用いることにより磁気特性の制御と微粒子形成をそれぞれ独立に制御可能な磁性微粒子の製造方法であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can stably form a mesa structure, by controlling the side-etching amount in the semiconductor device, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

半導体装置において、サイドエッチング量を制御し、安定的にメサ構造を形成し得る半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR ELEMENT HAVING NON-BOUNDARY CONTACT AND BIT LINE LANDING PAD ON BIT LINE STUD HAVING LOCAL ETCHING STOP SUBSTANCE LAYER, AND ITS FABRICATING METHOD例文帳に追加

局部エッチング阻止物質層を有するビットラインスタッド上のビットラインランディングパッドと非境界コンタクトとを有する半導体素子及びその製造方法 - 特許庁

To produce a high strength austenitic stainless steel sheet excellent in flatness after etching by a simple method without requiring equipment used exclusively for tension annealing.例文帳に追加

テンションアニーリング専用の設備を必要とせず、簡便な方法によって、エッチング後の平坦性に優れた高強度オーステナイト系ステンレス鋼板を製造する。 - 特許庁

To provide a method for eliminating photo and etching process in a key forming process to prevent a misalignment in the following photo process.例文帳に追加

後続のフォト工程における誤整列を防止するためのキーの形成工程においてフォト及びエッチング工程を省略する方法を提供する。 - 特許庁

The method of the present invention comprises the steps of letting in/out the substrate to/from the cleaning or etching liquid using the equipment at a level lower than the liquid level.例文帳に追加

本発明の方法は、前記装置を利用して、クリーニングまたはエッチング液に、液面よりも低いレベルで基材を導入、導出するステップから成る。 - 特許庁

To provide a method for preparing a resin composition for photoresist which is improved in alkali solubility without deteriorating adhesion to a substrate and dry etching resistance.例文帳に追加

基板密着性やドライエッチング耐性を損なうことなくアルカリ可溶性機能が向上したフォトレジスト用樹脂組成物の製造法を提供する - 特許庁

To provide a method of manufacturing an optical semiconductor element by which a p-side electrode having a predetermined pattern shape is formed with high precision by wet etching.例文帳に追加

所定のパターン形状を備えるｐ側電極を、ウエットエッチングにより高い精度で形成することができる光半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method, after a first oxidized film is formed on a semiconductor substrate, the first oxidized film is selectively removed by the etching of two steps using liquid chemicals.例文帳に追加

半導体基板上に第１の酸化膜を形成した後、化学薬液を用いた２ステップのエッチングで上記第１の酸化膜を選択的に除去する。 - 特許庁

To provide a method of forming a gate electrode suppressing re-attachment in the subsequent process, by removing etching residues at the bevel portion of a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウエハのベベル部のエッチング残りを除去することで、その後の工程における再付着を抑止するゲート電極の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a first epitaxial layer on a semiconductor substrate, and forming a plurality of isolation regions by etching the layer.例文帳に追加

半導体基板上に第１エピタキシャル層を形成し且つ該層をエッチングして複数の分離領域を形成することを包含する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing trifluoromethyl hypofluorite (CF3OF) useful as a reagent of an organic synthesis, a cleaning gas for a semiconductor production apparatus, an etching gas or the like.例文帳に追加

有機合成の試薬、半導体製造装置のクリーニングガス、エッチングガス等に有用なトリフルオロメチルハイポフルオライト（以下、ＣＦ_3ＯＦ）の製造法を提供する。 - 特許庁

An etching preventing layer is provided in a multilayer circuit layer by a selective method so that an impurity is outgassed during the manufacturing process.例文帳に追加

製造工程中不純物がアウトガシングされるようにエッチング阻止層を選択的な方式により多層回路層の間に選択的に提供する。 - 特許庁

In addition, the method includes the process of a second recessed part 20b is formed by laser processing on a face to be etched of the silicon substrate etched by the first wet etching.例文帳に追加

さらに、第１のウエットエッチングによってエッチングされたシリコン基板の被エッチング面に、レーザー加工によって第２の凹部２０ｂを形成する工程を有する。 - 特許庁

After a magnetic layer is formed on a flat substrate, a portion of the magnetic layer is removed by a reactive ion etching method and a dielectric layer is formed thereon.例文帳に追加

平坦な基板上に磁性層形成後、反応性イオンエッチング法で磁性層の一部を除去し、かつその上に誘電体層を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a discharge type display device in which the electrode is not separated from the substrate even when the dielectric layer is applied etching.例文帳に追加

誘電体層をエッチングする場合であっても、電極が基板から剥離することのない放電型表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which is capable of selectively etching a high dielectric constant insulating film on an SiO_2 film on the ground.例文帳に追加

下地のＳｉＯ_２膜に対して選択的に高誘電率絶縁膜をエッチングすることのできる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a purification method for trifluoromethyl hypofluorite (CF_3OF) that is useful as a reagent for organic syntheses, a cleaning gas and an etching gas for semiconductor production units.例文帳に追加

有機合成の試薬、半導体製造装置のクリーニングガス、エッチングガス等に有用なトリフルオロメチルハイポフルオライト（ＣＦ_3ＯＦ）の精製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor element capable of preventing deformation and loss of a photoresist when etching a trench for isolation of a cell region.例文帳に追加

セル領域のアイソレーション用トレンチエッチングの際にフォトレジストの変形および損失を防止することが可能な半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming an organic supramolecule pattern with a dimension of a nanometer or less using self-assembly of organic supramolecules and ultraviolet etching process.例文帳に追加

有機超分子の自己集合及びＵＶエッチングを用いて数ナノメートル以下の有機超分子パターンを形成する方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for completely removing a color photoresist by using first and second plasma etching processes.例文帳に追加

本発明はカラー・フォトレジストを第１次、第２チァプルラズマエシング及び湿式クリーニングを利用して完全にとり除くカラー・フォトレジストの除去方法に関するのである。 - 特許庁

To provide a transparent electroconductive film of which production cost is low and optical transparency is excellent, and which has a low specific-resistance value, and is superior in etching characteristics, and its forming method.例文帳に追加

生産コストが低く、光透過性に優れ、比抵抗値が低く、エッチング特性に優れた透明導電膜及びその形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an active matrix substrate for reducing the number of steps where a dry process and photolithographic etching are combined.例文帳に追加

ドライプロセスとフォトリソエッチングを組み合わせた工程の回数を低減することができるアクティブマトリクス基板の製造方法等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a surface treating method of a hot rolled sheet which has high surface smoothness and is excellent as a raw material for etching processing such as a shadow mask and a lead frame, in particular.例文帳に追加

表面平滑度の高い、特にシャドウマスクやリードフレームなどのエッチング加工用素材として優れた熱延板の表面処理方法を提案すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an active matrix substrate for decreasing the number of steps of combining a dry process and photolithographic etching.例文帳に追加

ドライプロセスとフォトリソエッチングを組み合わせた工程の回数を低減することができるアクティブマトリクス基板の製造方法等を提供することを目的とする。 - 特許庁

When a copper film 6 is formed in interconnection trenches, copper is polished by CMP method, and then the copper is removed by etching from the vicinity of the circumferential fringe of a wafer.例文帳に追加

銅膜６を配線溝内に形成する際、ＣＭＰにより銅を研磨した後、ウェーハ周縁近傍の銅をウエットエッチングにより除去する。 - 特許庁

To provide a method of etching semiconductor device by which the side wall of the step of a semiconductor device constituted of the principal surface and side wall of the device is etched.例文帳に追加

主表面と側壁とから構成される段差を有する半導体装置の段差の側壁をエッチングする方法提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, which has a small number of patterns on intermediate wiring layers and can be manufactured through small numbers of lithographic processes and etching processes, and a method of manufacturing the device.例文帳に追加

中間配線層のパターン数、リソグラフィ工程数及びエッチング工程数が少ない半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of efficiently treating a waste copper etching solution and a waste resist solution both of which are discharged from a printed circuit board, and a chemical agent for use therein.例文帳に追加

プリント基板から排出される銅エッチング廃液とレジスト廃液効率よく処理する方法及びそれに使用する薬剤を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an Fe-Ni base blank for a shadow mask excellent in suppressing the occurrence of ununiform streaks after etching and working in a good yield.例文帳に追加

エッチング加工後のスジムラ発生を抑制するに優れたＦｅ−Ｎｉ基シャドウマスク用素材を歩留よく得るための製造方法を提供する。 - 特許庁

In this method, it is preferable that the metal layer is formed of the first and second metal layers and the conductive layer is removed with the selective etching of the second metal layer.例文帳に追加

金属層は第一、第二金属層から構成し、第二金属層の選択的エッチングにより導電層を除去することがより好ましい。 - 特許庁

To provide an etching method using a hexavalent iron ion solution with less environmental load instead of an etching treatment agent such as harmful chromic acid conventionally used for improving adhesion property between a nonconductive member such as a resin, and a plating layer, and to provide a method for manufacturing a hexavalent iron ion solution.例文帳に追加

本発明は、従来樹脂等の非導電性部材をメッキ被覆層との密着性向上のために用いられていた、有害なクロム酸などによるエッチング処理剤に代わり、環境負荷の少ない六価鉄イオン溶液によるエッチング方法および六価鉄イオン溶液の製造方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of an organic electroluminescent light emitting device includes a process in which an organic EL element, a color conversion layer by a vapor depositing method and a barrier layer are formed on a supporting body, and a patterned high refractive index layer is formed on the barrier layer by a dry etching with the barrier layer as an etching-stop layer and is stuck to a color filter.例文帳に追加

支持体上に、有機ＥＬ素子、蒸着法による色変換層、およびバリア層を形成し、バリア層をエッチストップ層とするドライエッチングにより、バリア層上にパターン化高屈折率層を形成し、カラーフィルタと貼り合わせることを特徴とする有機ＥＬ発光装置の製造方法。 - 特許庁