「etching method」に関連した英語例文の一覧と使い方(79ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a water cooled type heatsink hard to cause a decay, a corrosion, an erosion, or an electrolytic etching, and having a high withstand pressure, and to provide a method for manufacturing it.例文帳に追加

腐食、エロージョン・コロージョン又は電解腐食が起こりにくく、かつ耐圧強度の高い水冷式ヒートシンク及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a plastic package capable of high adhesive properties for a solder resist, reduction in scraping of etching, high density wiring, high reliability, and an improvement of the yield.例文帳に追加

ソルダーレジストとの高密着性、エッチングのえぐれ減少、高密度配線、高信頼性、歩留向上ができるプラスチックパッケージの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device comprises the step of removing a semiconductor layer (SOI layer) from an element isolation region by etching in an element isolating step of isolating to form a plurality of element regions.例文帳に追加

複数の素子領域を分離形成する素子分離工程において、素子分離領域から半導体層（ＳＯＩ層）をエッチングにより除去する。 - 特許庁

To provide a producing method of an ingot for manufacturing an Fe-Ni base alloy material for a shadow mask, or the like, by which the cost can be reduced without lowering the quality concerning etching unevenness.例文帳に追加

エッチングむら品位を低下することなく、コスト低減可能なシャドウマスク用等のFe−Ni系合金材料製造用鋳塊の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an inkjet type recording head and its diaphragm by which the diaphragm can be obtained highly accurately and at a low cost in comparison with a conventional etching processing.例文帳に追加

従来のエッチング加工に比べて振動板が高精度かつ安価に得られるインクジェット式記録ヘッド及びその振動板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a lead frame by etching in which fine terminal pitch of an inner lead and scaling-down are dealt with.例文帳に追加

エッチングによって製造するリードフレームにおいて、インナーリードの端子ピッチの狭ピッチ化、微細化に対応したリードフレームの製造方法を提供するこ。 - 特許庁

To provide an air-gap type FBAR and a manufacture method which can form air gaps through etching process, while reducing damages to a resonator.例文帳に追加

共振部のダメージを減らしながらエッチング工程を通じてエアギャップを形成することのできるエアギャップ型ＦＢＡＲ及びその製作方法を提供すること。 - 特許庁

Conic projection parts (11) are formed on a surface of a substrate through exposure, development, and dry etching of resist provided on a substrate by a double-beam interference method.例文帳に追加

基板上に設けたレジストの二光束干渉法による露光、現像、およびドライエッチングによって基板の表面に円錐状の凸部（１１）を形成する。 - 特許庁

In the second place, the buffer layer 3 is partially removed by an unreactive dry etching method, and the opening part 8 where the primary face 1A of the substrate 1 is exposed is formed.例文帳に追加

次いで、バッファ層３を非反応性ドライエッチングによって部分的に除去し、基板１の主面１Ａが露出した開口部８を形成する。 - 特許庁

To provide a plasma treating apparatus using a film thickness measuring method for accurately measuring the actual amount of remaining film and etching depth of a surface to be treated on-line.例文帳に追加

被処理層の実際の残膜量やエッチング深さをオンラインで正確に測定する膜厚測定方法を用いたプラズマ処理装置の提供する。 - 特許庁

FIELD EMISSION TYPE ELECTRON EMISSION ELEMENT, ITS MANUFACTURING METHOD, AND ETCHING SOLUTION USED FOR IT例文帳に追加

電界放出型電子放出素子、電界放出型電子放出素子の製造方法及び電界放出型電子放出素子の製造方法に用いるエッチング液 - 特許庁

To provide an improved method for depositing an Si-C-N material functioning as an etching stopping layer on a substrate by using a PECVD.例文帳に追加

エッチストップ層として機能するＳｉ−Ｃ−Ｎ材料をＰＥＣＶＤを使って基板上に蒸着するための改良された方法を与える。 - 特許庁

Thereafter, a contact hole 16 is formed by etching off the silicon oxide film 15 deposited on the bottom of the recessed section 14 by the RIE method (c).例文帳に追加

そして、ＲＩＥ法によりエッチングを行い、凹部１４底部のシリコン酸化膜１５を除去することにより、コンタクトホール１６が形成される（図１（ｃ））。 - 特許庁

To suppress the variation in the quality of monodispersed semiconductor nanoparticles prepared by a size-selective light etching method, and to uniformize the optical properties thereof.例文帳に追加

サイズ選択光エッチング法により調製された単分散半導体ナノ粒子の品質のばらつきを抑制し、その光学特性を均一化する。 - 特許庁

To provide a simple method for preventing an occurrence of a notch at a feed port in a liquid jet recording head forming a feed port by dry etching.例文帳に追加

供給口をドライエッチングによって形成する液体吐出記録ヘッドにおいて、供給口へのノッチ発生を防止可能な簡便な方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for analyzing the behavior of front side marks on a substrate, during a process of manufacturing a device, without the need for etching global alignment marks.例文帳に追加

グローバル・アライメント・マークをエッチングする必要なしにデバイス作製プロセス中に基板上の表面マークの挙動を分析する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a material having excellent creep resistance and etching characteristics and most suitable for an expansion-type color selecting device of a color cathode-ray tube and also to provide its manufacturing method.例文帳に追加

耐クリープ特性およびエッチング性に優れ、カラーブラウン管の展張型色選別装置に最適な素材、そしてその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, using a dry etching technique that can precisely etch a fine pattern at high speed.例文帳に追加

微細パターン形成にあたり高真空中で高速エッチングできるエッチング技術を用いた半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the circuit board comprises the steps of adopting a metal layer 2 on a surface of an insulating film 1 as a material, and etching the metal layer to form a desired circuit pattern 3.例文帳に追加

絶縁フィルム１の表面に金属層２があるものを材料とし、その金属層をエッチングして、所望の回路パターン３を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a transfer mask whereby a silicon oxide layer exposed between supports can efficiently be removed by wet etching.例文帳に追加

支柱間に露出した酸化シリコン層をウェットエッチングにより効率良く除去できる転写マスクの作製方法を提供することを目的とする - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of controlling etching of a gate electrode easily and realizing a transistor element which is manufactured as designed avoiding overetching.例文帳に追加

ゲート電極のエッチングの制御を容易にし、オーバーエッチングを回避した設計どおりのトランジスタ素子を実現する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a silicon substrate etching method by which high dimensional accuracy of a leading end diameter of protruding sections is obtained and the protruding sections are uniformly formed.例文帳に追加

突起の先端径について高い寸法精度を得たり、各突起を均一に形成することができるシリコン基板のエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for etching a substrate that allows upper and outer surfaces of a three-dimensional structure, such as an optical disc and substrate, to be uniformly etched.例文帳に追加

光ディスクや基板等の立体形状の上面と外周面とを均一にエッチングすることが可能な基板のエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which forms a proper pattern in the case of etching a base film using a photoresist pattern as a mask.例文帳に追加

フォトレジストパターンをマスクとして下地膜をエッチングする際に、適正なパターンを形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor substrate manufacturing method which includes a dry etching process, through which a semiconductor wafer is etched at the same rate through its surface.例文帳に追加

半導体よりなるウェハの表面をドライエッチングする工程を備える半導体基板の製造方法において、ウェハ面内のエッチングレートを均一化する。 - 特許庁

To provide a method for providing films having improved characteristics such as an etching rate, the concentration of hydrogen, and stress as compared to the films by thermal chemical vapor deposition.例文帳に追加

熱化学気相堆積の膜に比較してエッチング速度、水素濃度、およびストレスなどの改善された特性を有する膜を与える方法の提供。 - 特許庁

To provide a pickling method for effectively recycling sulfuric acid waste water used for etching and cleaning electronic parts, for a liquid for pickling stainless steel.例文帳に追加

電子部品のエッチングや洗浄に用いられた硫酸廃液をステンレス鋼の酸洗液として有効に再利用する酸洗方法を提案する。 - 特許庁

The method includes a step of using patterned photoresist masks and a step of etching regions or portions of an elastomeric layer of the elastomeric block.例文帳に追加

この方法は、パターンの付いたフォトレジストマスクを使用する工程およびエラストマーブロックのエラストマー層の領域または一部をエッチングする工程を包含する。 - 特許庁

In the method and the apparatus for the etching manufacturing processes of a panel, the panel is installed in a sealed work tank while the panel is being erected vertically.例文帳に追加

パネルのエッチング製作プロセスの方法及びその装置であり、それはパネルが垂直直立を呈する状態で、密封された作業タンク中に設置される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a ridge semiconductor laser having high oscillation efficiencies without making an etching stop layer exist between blocking layers and a first upper clad layer.例文帳に追加

ブロック層と第１上クラッド層との間にエッチングストップ層が存在せず、発振効率の高いリッジ型半導体レーザの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate treatment apparatus and a substrate treatment method that perform a high-rate uniform etching processing on the entire region of the major surface of a substrate.例文帳に追加

基板の主面の全域に対し、高いレートでかつ均一なエッチング処理を施すことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

RESIN-SEALED SEMICONDUCTOR DEVICE, ETCHING MEMBER USED FOR THE SAME, METHOD FOR MANUFACTURING RESIN-SEALED SEMICONDUCTOR DEVICE, AND STACKED TYPE RESIN-SEALED SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

樹脂封止型半導体装置とそれに用いられるエッチング部材、樹脂封止型半導体装置の製造方法、および積層型樹脂封止型半導体装置 - 特許庁

To provide a method for obtaining a high ashing rate while suppressing film damages at the time of ashing a resist used at the time of etching a low dielectric constant film.例文帳に追加

低誘電率膜をエッチングする際に用いたレジストをアッシングする際の膜ダメージを抑制する一方で高いアッシングレートを得る方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an actuator, in which a diaphragm is prevented from being etched when a piezoelectric element is formed by dry etching.例文帳に追加

圧電素子をドライエッチングして形成する際に、振動板がエッチングされるのを防止することができるアクチュエータ装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cleaning method of wafers capable of readily suppressing excessive reaction caused by a residual etchant on a wafer after etching without increasing costs.例文帳に追加

エッチング後のウェーハにおいて、残留エッチング液による再反応を、コストを増大することなくかつ簡便に抑制できるウェーハの洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor apparatus for suppressing charge damage on a gate insulating film even when the dry etching to form wiring progresses.例文帳に追加

配線形成のためのドライエッチングが進行しても、ゲート絶縁膜にチャージダメージを与えることを抑制できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming the MTJ cell of a magnetic RAM making free magnetic layers amorphous and oxidizing this to inhibit the generation of etching residues.例文帳に追加

本発明は、自由磁化層を非晶質化し、これを酸化させてエッチング残留物の発生を抑制するマグネチックラムのＭＴＪセル形成方法に関する。 - 特許庁

A manufacturing method includes a cleaning process, a sputtering process, an electroplating process, an etching process, and an electroless plating process.例文帳に追加

製造方法としては、洗浄工程Ｗと、スパッタリング工程Ｓと、電解メッキ工程ＥＰと、エッチング工程Ｅと、無電解メッキ工程ＣＰとからなる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which prevents an insulating layer constituting a gate spacer from damaging in the case of a wet-etching in a cell region.例文帳に追加

セル領域のウェットエッチングの際に、ゲートスペーサを構成する絶縁層の損傷を防止する半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device, which can form a fine structure having a high aspect ratio that can be made with high accuracy, by processing a compound semiconductor by etching.例文帳に追加

化合物半導体をエッチングにより加工して高アスペクト比の微細構造を高精度に形成し得る半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laminated electrode, simultaneously enabling control of generation of particle and reduction of running cost, and to provide an etching method that utilizes this laminated electrode.例文帳に追加

パーティクル発生の抑制とランニングコストの削減が同時に可能な積層電極、および、この積層電極を利用したエッチング方法を提供する。 - 特許庁

If a desired hollow depth is formed in a desired position by the method, a desired concave lens shape can be formed in the desired position after etching.例文帳に追加

この方法によって所望の位置に所望の窪み深さを形成すれぱ、所望の位置に所望の凹レンズ形状をエッチング後に形成することができる。 - 特許庁

To provide an etching method of a silicon substrate for reducing a reflectance ratio on a surface of the silicon substrate and manufacturing a solar battery having high conversion efficiency.例文帳に追加

シリコン基板表面の反射率を低減すると共に、高変換効率を備えた太陽電池を製造可能なシリコン基板のエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrolytic regeneration method in a non-diaphragm electrolytic solution tank for copper-etching deteriorated solution by a ferric chloride solution, and to provide an electrolytic regenerator therefor.例文帳に追加

塩化第二鉄溶液による銅エッチングの劣化液の、無隔膜電解液槽内における電解再生方法及びその電解再生装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device conducting a treatment destaticizing a semiconductor substrate before a wet etching treatment and the device.例文帳に追加

ウェットエッチング処理を行なう前に半導体基板を除電する処理を行なう半導体装置の製造方法及び装置を提供することを目的とする。 - 特許庁