「exposure effect」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To reduce effect of vibration applied during long-time exposure.例文帳に追加

長時間露光時に加えられた振動による影響を低減させる。 - 特許庁

To provide an electron beam exposure mask, and electron beam exposure method and device wherein proximity effect in electron beam exposure is corrected by partial collective exposure method.例文帳に追加

電子ビーム露光における近接効果の補正を部分一括露光法によって行う電子ビーム露光用マスク、電子ビーム露光方法及び電子ビーム露光装置を提供すること。 - 特許庁

Furthermore, by driving the zoom lens from the start of exposure to the end of exposure, a sufficient zooming effect can be obtained during exposure.例文帳に追加

また、露光開始時点から露光終了時点までの全区間に亘ってズームレンズを駆動することで、露光間ズームの効果を十分に発揮させる。 - 特許庁

A proximity effect corrector 14 performs a proximity effect correction by using the value of the parameter, and creates exposure data.例文帳に追加

近接効果補正部１４は、そのパラメータの値を用いて近接効果補正を行い、露光データを作成する。 - 特許庁

To improve the accuracy of an exposure map without increasing a data size regarding the exposure map for correcting a proximity effect and a fog effect in an exposure device using electron beams.例文帳に追加

電子線を用いた露光装置における、近接効果補正およびかぶり効果補正のための露光量マップについて、データサイズを増大させないで、露光量マップの精度を向上させることである。 - 特許庁

METHOD OF CORRECTING PROXIMITY EFFECT, ELECTRON-BEAM PROJECTION EXPOSURE DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

近接効果補正方法、電子線投影露光装置及びデバイス製造方法 - 特許庁

To provide a method or the like for correcting the proximity effect which facilitates the manufacture of a reticle for correction exposure and easily conducting correction of the exposure works.例文帳に追加

補正露光用レチクルの製作や補正露光作業を楽に行える近接効果補正方法等を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING PROXIMITY EFFECT OF ELECTRON BEAM EXPOSURE, EXPOSURE METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MODULE FOR CORRECTING PROXIMITY例文帳に追加

電子ビーム露光の近接効果補正方法、露光方法、半導体装置の製造方法及び近接効果補正モジュール - 特許庁

In order to obtain a resist pattern of a first exposure pattern in a proximity effect correction process 3, the proximity effect is corrected in respect with the first exposure pattern based on the distribution function of exposure intensity to obtain a second exposure pattern whose pattern size is further changed and to obtain exposure data.例文帳に追加

近接効果補正工程３では、該第１露光パターンのレジストパターンが得られるように、露光強度分布関数に基づき該第１露光パターンに対し近接効果補正して、パターンサイズをさらに変更した第２露光パターンを得るとともに露光量のデータを得る。 - 特許庁

The flash image is modified, by using a luminance ratio between the flash image and peripheral images so that exposure excessive effect and insufficient exposure effect are reduced, in proportion to a deeper focus depth.例文帳に追加

フラッシュ画像と周囲画像の輝度比を用いて、深度が深くなるにつれて露出過多効果及び露出不足効果を低減するようにフラッシュ画像を修正する。 - 特許庁

As the media exposure increases, the name recognition also increases; thus, it has been producing a synergistic effect.例文帳に追加

露出が増せば、知名度もそれに伴って増す相乗効果がでてきている。 - 経済産業省

A procedure 3 is an exposure condition determining step of finding the exposure sensitivity and an optimum PEC parameter value during exposure in accordance with the investigated exposure sensitivity and a previously measured aging effect amount.例文帳に追加

（手順３）調べた保管期間及び予め測定しておいた経時変化量に基づき、露光時における露光感度および最適なＰＥＣパラメータ値を求める露光条件決定工程である。 - 特許庁

OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD AND DEVICE, OPTICAL PROXIMITY EFFECT VERIFICATION METHOD AND DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK, AND OPTICAL PROXIMITY EFFECT CORRECTION PROGRAM AND OPTICAL PROXIMITY EFFECT VERIFICATION PROGRAM例文帳に追加

光近接効果補正方法と装置、光近接効果検証方法と装置、露光用マスクの製造方法、更に光近接効果補正プログラムと光近接効果検証プログラム - 特許庁

To correct exposure data in consideration of proximity effect, in a charged particle beam exposure method and a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

荷電粒子ビーム露光方法と半導体装置の製造方法において、近接効果を考慮して露光データを補正すること。 - 特許庁

To dissolve the shortage in proximity effect in the exposure position of the device pattern at the end, in a pattern exposure mask where the proximity effect arises in the exposure by the charged beam scattered on the surface of circuit material when exposing the device pattern.例文帳に追加

デバイスパターンを露光するとき、回路素材の表面で散乱された荷電ビームによる露光で近接効果が発生するパターン露光マスクで、端部のデバイスパターンの露光位置での近接効果の不足を解消する。 - 特許庁

METHOD OF CALCULATING BLUR IN CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE SYSTEM AND PROXIMITY EFFECT CORRECTION METHOD例文帳に追加

荷電粒子線露光装置におけるボケ量の計算方法、及び近接効果補正方法 - 特許庁

To eliminate an effect on a wafer caused by a flare or a 3D effect, and to detect a light exposure on the wafer with high accuracy.例文帳に追加

ウエハ上におけるフレアや３Ｄ効果による影響を無くすことができ、ウエハ上の露光量を精度良く検出する。 - 特許庁

To provide a proximity effect correction mask required for correcting proximity effect occurring on the periphery of an adjoining pattern drawn by using a partial collective exposure mask precisely by a partial collective exposure method, to provide a proximity effect correction method employing that mask, and to provide an electron beam exposure device performing proximity effect correction.例文帳に追加

部分一括露光用マスクを用いて描画した隣接するパターンの周辺部に生ずる近接効果を、部分一括露光法によって精度良く補正するために必要な近接効果補正用のマスク、そのマスクを用いた近接効果の補正方法及び近接効果の補正を行う電子ビーム露光装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a charged particle beam exposure method of extracting the parameters of an exposure light intensity distribution function optimal for correcting exposure data on a proximity effect so as to form a pattern of high dimensional accuracy, in accordance with exposure data corrected on a proximity effect on the basis of an exposure light intensity distribution function.例文帳に追加

露光強度分布関数に基づいて近接効果補正処理を行った露光データに従って露光を行う荷電粒子ビーム露光方法に関し、露光データの近接効果補正処理に最適な露光強度分布関数のパラメタを抽出し、寸法精度の高いパターンを作成することができるようにする。 - 特許庁

That is, the pitch reduction effect can be increased up to twice as much as previously achieved by using existing exposure equipment without investment in additional expensive exposure equipment.例文帳に追加

すなわち、高価な露光装置を装備投資する必要がなく、既存露光装備で最大２倍のピッチ縮小効果が得られる。 - 特許庁

An effect sound generating unit 230 reads an effect sound 61 from an effect sound storage memory 60 at the beginning of the exposure operation, and generates an effect sound similar to a shutter release sound to be outputted from a speaker 3.例文帳に追加

露光動作の開始時には効果音発生処理部２３０が効果音記憶メモリ６０から効果音６１を読み出し、スピーカ３からシャッタ開放音に類似した効果音を発生させる。 - 特許庁

Because the pre-exposure is intercepted by the toner, optical carrier generated by the pre-exposure eliminates the effect of the image exposure, and remaining optical carrier is uniformized as shown in (e).例文帳に追加

前露光がトナーによって遮光されることによって、前露光により生成される光キャリヤが像露光の影響をうち消して、（ｅ）に示すように、残留する光キャリヤが均一となる。 - 特許庁

To provide an adjusting method for an exposure device, a pattern forming method, and an exposure device capable of reducing the difference in optical proximity effect between exposure devices, and carrying out stable pattern formation.例文帳に追加

露光装置間の光近接効果の差異を低減し、安定したパターン形成を行うことができる、露光装置の調整方法、パターン形成方法、および露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus enabled to perform a high-precision exposure by suppressing the adverse effect of a deformed support structure on the exposure process even when the apparatus deals with a large-scale substrate.例文帳に追加

支持構造体の歪みによる露光処理への影響を抑え、基板の大型化に対応する場合にも、精度よく露光処理を行なうことができる露光装置を提供する。 - 特許庁

To allow exposure at high precision by preventing an adverse effect from the reaction at driving a stage.例文帳に追加

ステージの駆動時の反力に起因する悪影響を防止して高精度な露光を実現する。 - 特許庁

To reduce the effect of noise components on an image available by photographing with long time exposure.例文帳に追加

長時間露光撮影により得られる画像に対してノイズ成分の影響を低減させる。 - 特許庁

To make it possible to obtain an appropriate exposure correction effect even when a plurality of different exposure corrections are performed.例文帳に追加

異なる複数の露出補正が行われる場合であっても、適切な露出補正効果を得ることができるようにすることを目的とする。 - 特許庁

When the moving means is driven based on the target moving amount for special effect, the exposure control part 115 adjusts the exposure based on the locus data for special effect.例文帳に追加

露出制御部１１５は、前記特殊効果用の移動目標量に基づいて前記移動手段が駆動される場合には、前記特殊効果用の軌跡データに基づいて前記露光量を調整する。 - 特許庁

The effect sound generating unit 230 functions again, to read an effect sound 62 from the effect sound storage memory 60 at the end of the exposure operation and makes it generate effect sound similar to a shutter release sound to be outputted from the speaker 3.例文帳に追加

露光動作終了時には、再び効果音発生処理部２３０が機能し、効果音記憶メモリ６０から効果音６２を読み出し、スピーカ３からシャッタ閉鎖音に類似した効果音を発生させる。 - 特許庁

After exposure, a treatment process is used to neutralize the effect of undesirable elements that are diffused into the resist layer 14 during immersion exposure.例文帳に追加

露光の後で、液浸露光中にレジスト層１４中に拡散した望ましくない成分による影響を中和するのに、処理ステップが使用される。 - 特許庁

To more accurately evaluate an effect of laser light source over the exposure pattern of spectrum of laser beam or imaging performance, when the laser light source is used as a source of exposure light.例文帳に追加

レーザ光源を露光光源とする場合に、レーザ光のスペクトルの状態の露光パターン又は結像性能に対する影響をより正確に評価する。 - 特許庁

To provide an aberration control system for liquid immersion lithography and a method for compensating the heat effect of the exposure energy for a liquid immersion fluid over the entire exposure region.例文帳に追加

露光領域全体にわたって液浸流体の露光エネルギーの加熱効果を補償する液浸リソグラフィ収差制御システムおよび方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photographic exposure device with which the effect similar to that of a soft focus may be obtained with a slight shift from a focus in photographic processing of an analog exposure system.例文帳に追加

アナログ露光方式の写真処理において、焦点を僅かにずらしてソフトフォーカスと同じような効果が得られる写真露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure method comprising an exposure correction method for correcting variations in dimensions caused by a density difference of a pattern which occurs during processing in addition to a proximity effect correction and fogging exposure correction.例文帳に追加

近接効果補正及びかぶり露光補正に加えて、プロセス上で生じるパターンの疎密差に起因した寸法ばらつきを補正する露光量の補正手法を備えた露光方法を提供する。 - 特許庁

In such a manner, failure due to temperature variation is removed and making the effect possible the proper exposure processing is obtained.例文帳に追加

これにより、温度変化による不具合を無くし、適切な露光処理が可能となる効果がある。 - 特許庁

To improve the effect of exposure control that occurs following a specific percentage of color against the entire screen.例文帳に追加

画面全体に占める特定の色の割合に伴って生じる露出制御の影響を改善する。 - 特許庁

To provide a camera improved in a shake correction effect during long-time exposure in hand-held photographing.例文帳に追加

手持ち撮影による長秒時露光時におけるブレ補正効果を向上したカメラを提供する。 - 特許庁

To confirm an effect of an exposure correction value set by a user before photographing, and also to achieve photographing by accurately reflecting exposure correction according to subject brightness and exposure correction according to the exposure correction value set by the user.例文帳に追加

撮影前にユーザが設定した露出補正値の効果を確認でき、かつ、被写体輝度に応じた露出補正とユーザが設定した露出補正値に応じた露出補正とを正確に反映させて撮影できるようにすることを目的とする。 - 特許庁

To provide a deodorant which does not require the exposure to wind, has an effect of making air fresh and is hardly affected in a deodorization effect in spite of wetting with water.例文帳に追加

風を当てる必要がなく、空気を爽やかにする作用をがあり、水に濡れても脱臭効果に殆ど影響の無い脱臭剤を提供する。 - 特許庁

To provide a method of preparing advertisement information capable of preparing a favorable electronic advertisement provided with both an exposure effect and an introduction effect.例文帳に追加

露出効果および誘導効果の双方を備えた好適な電子広告の提供を行なうことが可能な広告情報作成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method by which the Coulomb effect of a charged particle beam exposure system can be corrected accurately by accurately grasping the gradation of the Coulomb effect by accurately and simply calculating stochastic blur.例文帳に追加

Stochastic Blurを正確に、かつ簡単に計算することにより、クーロン効果ボケを正確に把握し、クーロン効果を正確に補正する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for correcting variations in a CD due to fogging effect, that appears in electron beam exposure and/or loading effect that appears in a dry etching process for exposure, and to provide a record medium where the method is recorded.例文帳に追加

電子ビーム露光時に現れるフォギング効果及び／または乾式エッチング工程時に現れるローディング効果によるＣＤの変化を補正して露光する方法及びこれを記録した記録媒体を提供する。 - 特許庁

A setting of the exposure parameter in every exposure process is adjusted according to deviations in optical proximity effects of respective areas in a semiconductor substrate, whereby a deviation in the optical proximity effect of an exposure area is compensated for, resulting in a fixed and uniform optical proximity effect.例文帳に追加

半導体基板におけるそれぞれの露光エリアの光学近接効果の偏差に応じて、毎度の露光プロセスの露光パラメータ設定を調整することによって、露光エリアの光学近接効果の偏差を補償し、固定で均一な光学近接効果の結果を得られる。 - 特許庁

To provide a forming method for an exposure pattern by rule base proximity effect correction applied with graphic arithmetic processing.例文帳に追加

図形演算処理を適用したルールベース近接効果補正による露光パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

Thus only the exposure part near the end of the design graphic 11 is additionally exposed to correct the internal proximity effect.例文帳に追加

このように、設計図形１１露光の端部付近のみを付加露光して内部近接効果補正を行う。 - 特許庁