「first process」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

In the installing process, the first member 2 is inserted and installed in a second member 5 made of a metal which is formed into a cylindrical shape so that the first member 2 can be inserted inside.例文帳に追加

設置工程では、第１部材２を、金属製で且つ第１部材２が内部に挿入可能となるように筒状に形成された第２部材５の内部に対して挿入設置する。 - 特許庁

In the process (a), the second resin portion 34 is formed at least between the electrode pad 16 and the first resin portion 32, and is formed at a smaller width than that of the first resin portion 32.例文帳に追加

（ａ）工程で、第２の樹脂部３４を、少なくとも電極パッド１６と第１の樹脂部３２の間に形成し、かつ第１の樹脂部３２よりも小さい幅で形成する。 - 特許庁

In the process in which the relay member is moved from the first position to the second position and from the second position to the first position, meshing of the gears 82, 42 is started and meshing of the gears is released.例文帳に追加

中継部材が第１位置から第２位置へ及び第２位置から第１位置へ移動する過程で、それぞれ、ギヤ８２，４２の噛合の開始及びギヤ噛合の解除がなされる。 - 特許庁

This manufacturing method of a laminated body 100 including a layer made of a first material and a layer of a second material, includes: a process of polishing a second layer 2 made of a second material from the opposite side to a first layer 1.例文帳に追加

また、この製造方法により積層体を得るために好適に用いることができる非研磨物保持用治具、及びこれを備える研磨装置を提供すること。 - 特許庁

This invention discloses a method for adjusting selectively resolution level or quality level of a digital image stored in a storage device in the digital camera having a prescribed memory space includes a process for capturing a first image and storing the captured first image with specified resolution level or quality level.例文帳に追加

所定のメモリ空間を有するディジタルカメラのメモリ内に蓄積されたディジタル画像の解像度レベル又は品質レベルの選択的な調整のための方法を開示する。 - 特許庁

The items of two-dimensional image processing includes at least one item of an on-first-image position specification process of specifying a position on a physical object in a first image.例文帳に追加

２次元画像処理の項目の中には、第１の画像における対象物上の位置を特定する少なくとも１つの第１画像上位置特定処理の項目が含まれる。 - 特許庁

The first double-side recording process is selected when the front-side ink volume is larger than the rear-side ink volume and the recording of the first image is started from the front half region.例文帳に追加

第１両面記録工程は、先端側インク打滴量が後端側インク打滴量よりも多いときに選択され、先端側半分領域から第１画像の記録が開始される。 - 特許庁

First and second residence time distribution which are required for polishing and removing respective first and second shape components are calculated, and they are polished in another process with each motion program.例文帳に追加

第１及び第２の形状成分をそれぞれ研磨除去するのに必要な第１及び第２の滞留時間分布を算出し、それぞれの運動プログラムによる別工程で研磨する。 - 特許庁

The process entails applying at least a first braze paste to the crack to form a braze paste patch comprising powders of first and second alloys and an organic binder.例文帳に追加

本方法は、少なくとも第１のろう付けペーストを亀裂に塗布し、第１及び第２の合金並びに有機バインダーからなる粉体を含むろう付けペーストパッチを形成する段階を含む。 - 特許庁

The sterilization washing process includes performing a first step of jetting the washing liquid to the container 2B on the first installation part B and a second step of jetting the disinfectant, then performing a third step of leaving them as they are.例文帳に追加

第１載置部Ｂのコンテナ２Ｂに第１工程の洗浄液の噴射と第２工程の殺菌剤の噴射を行った後、そのまま放置する第３工程を行う。 - 特許庁

When a brightness signal stored in a frame memory 58 is read, the process of multiplying the brightness signal by a first feedback coefficient k (0<k<1) is performed by a first multiplier 55.例文帳に追加

フレームメモリ５８に格納されていた輝度信号が読出されると、第１の乗算器５５によって、輝度信号に第１の帰還係数ｋ（０＜ｋ＜１）を乗算する処理が施される。 - 特許庁

In a document management system 100, a first connection management section 103 stores first connection information 137 corresponding to a combination of the application process and document into a database 121.例文帳に追加

文書管理装置１００において、第１接続管理部１０３は、業務プロセスと文書との組み合わせに対応する第１接続情報１３７をデータベース１２１に格納する。 - 特許庁

In the first forcible illumination driving processing, the illumination transition cell is forcibly set to an illumination mode in the first field only through an address process of a predetermined sub-field in each field.例文帳に追加

第１強制点灯駆動では、上記第１フィールドにおいて、上記点灯遷移セルを、各フィールド内の所定のサブフィールドのアドレス行程のみで強制的に点灯モードに設定する。 - 特許庁

A monitoring function associated with the second workstation detects a failure in the first workstation and transfers control of the industrial process to the second workstation if a failure occurs in the first workstation.例文帳に追加

第２のワークステーションに関連する監視機能は、第１のワークステーション内の不具合を検出し、不具合の場合には工業処理の制御を第２のワークステーションに転送する。 - 特許庁

The resin varnish is obtained by the following process: A first cyanate resin of lower weight-average molecular weight is mixed with an unslurried methyl isobutyl ketone followed by agitation, and an epoxy resin is then mixed and agitated to obtain a first solution.例文帳に追加

スラリー化されていないメチルイソブチルケトンに、重量平均分子量が小さい第１のシアネート樹脂を混合撹拌した後、エポキシ樹脂を混合撹拌して第１の溶液を得る。 - 特許庁

This masking device executes a first masking process on an analog image signal from an image pickup device in the both sides of an image signal section S1 and defines the image signal of the first masking area M1 as a pedestal level L1.例文帳に追加

撮像素子からのアナログ画像信号に対して、映像信号部Ｓ１の両側に第１のマスク処理を施し、第１マスク領域Ｍ１の映像信号をペダスタルレベルＬ１とする。 - 特許庁

The resist layer 3 is successively subjected to exposure, developing, and post baking for the formation of a first resist pattern, and the oxide film 2 is subjected to an etching process through the first resist pattern as an etching mask.例文帳に追加

このレジスト層３に対して露光、現像及びポストベークを順に行うことで第１レジストパターンを形成し、この第１レジストパターンを用いて酸化膜２に対するエッチング処理を行う。 - 特許庁

Removing and carrying-out work of a heat exchanger 110 first releases a fixation of a foundation 100 in a first process, and lifts the heat exchanger 110 by a lifting means 16.例文帳に追加

熱交換器１１０の取外し及び搬出作業は、先ず第１の工程で基礎１００の固定を解除してから、熱交換器１１０を昇降手段１６で上昇させる。 - 特許庁

Next, a hollow cylindrical wall body 50 is constructed through a pile construction process where the solidified body is bored downward from the lower side of the first vertical hole 30 with a diameter almost equal to the first vertical hole 30.例文帳に追加

次に、杭施工工程により、第１縦穴３０の下方へ、第１縦穴３０と略同一径で硬化体を掘削し、中空円柱状の壁体５０を構築する。 - 特許庁

If the first information is associated with the specific node of the processing process control system, third information is created to show that the first information is associated with the specific node.例文帳に追加

該第1の情報が処理工程制御システムの特定のノードに関連している場合、該第1の情報が特定のノードに関連していることを示すために第3の情報が生成される。 - 特許庁

This method for producing the gradation jelly comprises performing a filling process of filling a first solution in a container and filling a second solution with specific gravity larger than that of the first solution in the container in a condition which satisfies formula (1).例文帳に追加

第１液を容器に充填した後、該第１液よりも比重の大きな第２液を前記容器に充填する充填工程を、式（１）を満足する条件下で行う。 - 特許庁

The gear shifting means enters a gear shift process mode in which outputs of both first and the second motor generators are transmitted to a driving shaft when switching between first and second gear shift modes.例文帳に追加

変速手段は、第１及び第２の変速モードの間で切り換えを行う際、第１及び第２のモータジェネレータの両方の出力が駆動軸に伝達される変速過程モードを経る。 - 特許庁

First of all, a high pressure cleaning car 100 is made to travel while jetting a high pressure cleaning liquid toward a pavement surface from a high pressure cleaning nozzle 115 of the high pressure cleaning car 100 (a first process).例文帳に追加

まず、高圧洗浄車１００の高圧洗浄ノズル１１５から舗装面に向かって高圧洗浄液を吹き付けながら高圧洗浄車１００を走行させる（第１工程）。 - 特許庁

In a first process, wastewater 20 is introduced into a first reaction tank 12, and an iron salt 22 and a pH control agent 24 are added to wastewater to adjust the pH of wastewater to 2 or more.例文帳に追加

本方法は、第１の工程では、排水２０を第１反応槽１２に導入し、鉄塩２２を添加し、かつｐＨ調整剤２４を添加してｐＨを２以上に調整する。 - 特許庁

To provide an image display system in which a first polysilicon layer and a second polysilicon layer having different crystal properties are formed in a first region and a second region, and to provide its production process.例文帳に追加

第１領域と第２領域に違う結晶特性を有する第１多結晶シリコン層と第２多結晶シリコン層が形成された表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of forming a first semiconductor layer of a first conductivity type and a second semiconductor layer of a second conductivity type on a rear face of a semiconductor substrate without performing a resist formation process.例文帳に追加

レジスト形成工程を行うことなく、半導体基板の裏面に、第１導電型の第１半導体層と、第２導電型の第２半導体層を形成する製造法の提供。 - 特許庁

The first air shim plate 50 includes air slots configured to direct pressurized process air along a first angle relative to the adhesive shim plate 54.例文帳に追加

液体接着剤フィラメントをランダムパターンにて吐出するノズル１０であって、第１空気シム板５０および第２空気シム板８０の間に配置された、接着剤シム板５４を備えている。 - 特許庁

The connection part connects arithmetic data generated in arithmetic process of the first input data with second input data inputted following the first input data, and generates connection data.例文帳に追加

連接部は、第１入力データの演算過程で生成された演算データと第１入力データの次に入力される第２入力データとを連接して連接データを生成する。 - 特許庁

A first gate insulating film 10 comprising a silicon oxide film 11 or a silicon oxide nitride film is formed on the surface of a semiconductor substrate 1, and then the first gate insulating film 10 is subjected to a plasma nitriding process.例文帳に追加

半導体基板１表面に、シリコン酸化膜１１又はシリコン酸窒化膜からなる第１ゲート絶縁膜１０を形成した後、第１ゲート絶縁膜１０をプラズマ窒化処理する。 - 特許庁

The method of making the absorbent core structure comprises a process of meltspinning of at least a first fibrous material layer with a plurality of first portions and a plurality of second portions.例文帳に追加

吸収性コア構造体の製造方法は、複数の第１の部分と複数の第２の部分とを有する少なくとも第１の繊維状材料層を融解紡糸することを含む。 - 特許庁

In the process (a), a first semiconductor layer and a second semiconductor layer having a band gap larger than that of the first one are successively formed on a main surface of the formation substrate 101.例文帳に追加

工程（ａ）は、形成基板１０１の主面上に第１の半導体層及び該第１の半導体層よりもバンドギャップが大きい第２の半導体層を順次形成する。 - 特許庁

A first patterning and an etching process are performed to the lower wiring material and the switching material to form a first structure 1102 having an upper surface area and a side area.例文帳に追加

下部配線材料及びスイッチング材料に対して第１パターニング及びエッチングプロセスを行い、上部表面領域及びサイド領域を有する第１構造１１０２を形成する。 - 特許庁

The process comprises drawing a stringy PTFE-containing solid (first solid) at a temperature not lower than the melting point of the PTFE to thereby reduce the diameter of the first solid.例文帳に追加

紐状のポリテトラフルオロエチレン含有固形物（第１の固形物）を、ＰＴＦＥの融点以上の温度において引き抜き加工することにより、上記第１の固形物を細径化する方法とする。 - 特許庁

The film thicknesses of the first titanium film 6 and first titanium nitride 7 are formed within the above range thereby suppressing the formation of the aluminum titanium film through the heat treatment process.例文帳に追加

第一チタン膜６および第一窒化チタン膜７の膜厚を上記の範囲で形成することにより、上記熱処理工程においてアルミチタン膜の形成を抑えることができる。 - 特許庁

In the mixing process, the pulverized first anisotropic-shape powder is mixed with a fine powder forming the isotropic perovskite-type compound when it is sintered together with the first anisotropic-shape powder.例文帳に追加

混合工程においては、第１異方形状粉末と共に焼結することにより等方性ペロブスカイト型化合物を生成する微細粉末と、第１異方形状粉末とを混合する。 - 特許庁

In a first ion implantation process, ion implantation with an oblique angle is performed from a read part side to a pixel side to form a first ion implantation region 170 including the offset region 114.例文帳に追加

第１のイオン注入工程によって読み出し部側から画素側に斜めのイオン注入を行い、オフセット領域１１４を有する第１のイオン注入領域１７０を形成する。 - 特許庁

The seedling-raising method includes releasing first covering of the second covering materials (6, ...) in an appropriate period in a raising seedling process; releasing covering of the first covering materials (4, ...); and curing and raising seedlings while stopping spray of hot water.例文帳に追加

育苗過程における適期に、まず第二の被覆材（６，…）の被覆を解除し、その後に第一の被覆材（４，…）を解除すると共に、温湯の噴霧を停止しながら養生育苗する。 - 特許庁

Holes 10 of almost the same diameters are formed by a first punch 2 in a first press-working process, then, a second punch 3 having a tapered section 7 is inserted into the hole 10.例文帳に追加

第１加工工程で第１パンチ２にて略同一径の孔１０を形成しておき、その後、第２加工工程でテーパ部７を有した第２パンチ３が孔１０に向かって入射される。 - 特許庁

When input is performed for a touch pad by a stroke in a process for a step S34, the first locus for the stroke is displayed with a full size in an area with a first space.例文帳に追加

ステップＳ３４の処理において、タッチパッドへのストロークによる入力があった場合、第１の大きさの領域に、ストロークに対して原寸の第１の軌跡が表示される。 - 特許庁

The second welding-planned part includes a projection 34 projecting toward the facing first welding-planned part, and the abutting process brings the projection into press-contact with the first welding-planned part throughout the whole circumference.例文帳に追加

第２溶接予定部は、対向する第１溶接予定部に向けて突出した突条部34を含み、当接工程は、突条部を全周にわたり第１溶接予定部に圧接させる。 - 特許庁

Then the inclining part between the outer peripheral hinge part and the middle hinge part of the bottle 9 is invertedly recessed through the first recessing process by the first recessing device 4 to pressurize the inside of the bottle 9.例文帳に追加

次いで、第１凹入装置４による第１凹入工程によりボトル９の外周ヒンジ部と中間ヒンジ部との間の傾斜部を反転凹入し、ボトル９の内部を加圧状態とする。 - 特許庁

Then, a first conductor layer 5 is formed on the surface of the ceramic element by a wet plating method and the dielectric layer 6 is formed on the surface of the first conductor layer 5 in a wet process (c).例文帳に追加

そして、セラミック素体の表面に湿式めっき法で第１の導体層５を形成し（ｂ）、次いで、第１の導体層５の表面に湿式法で誘電体層６を形成する（ｃ）。 - 特許庁

In the production method of the composite tuner provided with a terrestrial digital broadcast receiving part 2 and a satellite digital broadcast receiving part 3, first, the composite tuner is built up in a first process.例文帳に追加

地上波デジタル放送受信部２と衛星デジタル放送受信部３を備えた複合チューナの生産方法において、まず第１の工程において複合チューナを組み立てる。 - 特許庁

The method has first and second thin film forming processes by sputter deposition and a simultaneous etching process for the first and second thin films and manufactures the thin films under the conditions to make the reflectivity of the second thin film higher than the reflectivity of the first thin film and to lower the resistance.例文帳に追加

スパッタ成膜による第一及び第二薄膜形成工程と、第一及び第二薄膜の同時エッチング工程とを有し、第二薄膜が第一薄膜に比べて反射率が高く、低抵抗になる条件で製造する。 - 特許庁

The substrate is placed (404) in a process chamber, which is able to provide RF power at a first frequency, a second frequency different than the first frequency, and a third frequency different than the first and second frequency.例文帳に追加

ＲＦ電力を第１周波数、前記第１周波数とは異なる第２周波数、および前記第１および第２周波数とは異なる第３周波数において与えることができる処理チャンバ内に基板が置かれる（４０４）。 - 特許庁