「irradiation hole」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A hole 7 is provided on an end face that is a light irradiation side.例文帳に追加

光の照射側である端面には、穴７が設けられる。 - 特許庁

A residue after making the hole coded as 5 is removed after the irradiation with the laser beam.例文帳に追加

５は抜きかすであり、レーザ光照射後除去される。 - 特許庁

To reduce a hole drilling pitch by making dross hardly stuck around a drilled hole and lessening the spread of a hole diameter on the side of a laser irradiation face.例文帳に追加

加工穴の周囲にドロスを付き難くし、レーザ照射面側の穴径の広がりを少なくし、穴加工ピッチを小さくすること。 - 特許庁

A through hole 30a formed in the front of the woody part 30 guides the irradiation light from the light irradiation part 40 toward the upper plate body 10.例文帳に追加

木質部３０の前部に形成される貫通穴３０ｂは、光照射部４０から照射される光を上板体１０方向に導通させる。 - 特許庁

To provide a hole forming device capable of obtaining a good accuracy for irradiation of laser beams.例文帳に追加

レーザー光の照射精度を良好とすることができる孔形成装置を提供することにある。 - 特許庁

The cross section of the via hole 8 is tapered by the influence of the laser irradiation.例文帳に追加

ビアホール８の断面形状はレーザ照射の影響によりテーパ状となる。 - 特許庁

The spattered materials generated by the irradiation with the laser-beam is sucked from an exhaust hole 51 to be removed.例文帳に追加

レーザ光の照射により発生した飛散物は、排気孔５１から吸引されて除去される。 - 特許庁

Especially, it is preferable that the ventilating hole 1 is installed on the opposite side to the irradiation direction of the ultraviolet ray.例文帳に追加

特に、通風孔１は、紫外線の照射方向と反対側に設けられていることが好ましい。 - 特許庁

The light receiver 11 has a charge generation region 17 which generates and accumulates a hole on receiving light irradiation.例文帳に追加

受光部１１は、光照射を受けてホールを発生し蓄積する電荷発生領域１７を備える。 - 特許庁

The irradiation device 11 includes an irradiation part 20 for irradiating the electromagnetic wave and a regulation part 21 having a through-hole 17 formed on a substrate 13 to regulate an irradiation direction of the irradiated electromagnetic wave.例文帳に追加

照射装置１１に、電磁波を照射する照射部２０と、基板１３に形成された貫通孔１７を有する規制部２１を備え、照射された前記電磁波の照射方向を規制する。 - 特許庁

In the center of the multiple layer film rotor parabola mirror 6, a hole is formed and the irradiation of pulse laser light 3 is performed through this hole.例文帳に追加

多層膜回転放物面鏡６の中央部には穴が形成されており、パルスレーザー光３の照射はこの穴を通じて行われる。 - 特許庁

To uniformize the distance of each beam passing hole of a first control electrode to the beam irradiation face of the cathode opposing the beam passing hole.例文帳に追加

第1制御電極の各ビーム通過孔とこれに対応する陰極のビーム出射面との距離を均一化する。 - 特許庁

To provide a double-face treated copper foil where a through hole and/or a blind via hole can be formed by means of direct carbon-dioxide laser irradiation.例文帳に追加

炭酸ガスレーザーを直接照射して貫通孔及び／又はブラインドビア孔をあけることができる両面処理銅箔を提供する。 - 特許庁

This device is equipped with a support part 4 for supporting an electron beam irradiation object 3 to which the electron beam 2 is irradiated, and an electron beam irradiation head 6 facing to the electron beam irradiation object at minute intervals and having an electron beam outgoing hole 5 for irradiating the electron beam 2 to the electron beam irradiation object 3.例文帳に追加

電子ビーム２が照射される被電子ビーム照射体３を支持する支持部４と、被電子ビーム照射体に対して微小間隔をもって対向し、被電子ビーム照射体３に電子ビーム２を照射する電子ビーム出射孔５を有する電子ビーム照射ヘッド６とを具備して成る。 - 特許庁

The exhaust hole 51 is formed in a way that the hole passes through the local machining part 40 from the vicinity of the laser-beam LB irradiation position, for example the inner surface of a laser-beam irradiation chamber 42.例文帳に追加

排気孔５１は、レーザ光ＬＢの照射位置の近傍、例えばレーザ照射室４２の内面から、局所加工部４０を貫通するように設けられている。 - 特許庁

To surely remove smears without excessively etching a conductor layer part in a smear removing process, even if a hole diameter becomes small down to 40 μm, and the prepared hole of a via hole is made by laser irradiation.例文帳に追加

孔径が４０μｍと小さくなり、レーザー照射によりビアホールの下穴を形成した場合にも、スミア除去工程において、導体層部を過剰にエッチングすることなく、スミアを確実に除去する。 - 特許庁

When the photomask 60 is irradiated with the first irradiation light, a trench pattern can be formed by the exposure; and when the photomask is irradiated with the second irradiation light, a contact hole pattern can be formed by the exposure.例文帳に追加

フォトマスク６０に第１照射光を照射すれば、トレンチのパターンを露光でき、第２照射光を照射すればコンタクトホールのパターンを露光できる。 - 特許庁

The conductor layer 51i is irradiated with the laser beam 4a at the found frequency of irradiation, and the insulating layer 51i is irradiated with the laser beam 5a at the found frequency of irradiation to bore a hole in the printed circuit board.例文帳に追加

そして、導体層５０ｉを求めた照射回数だけレーザビーム４ａを照射することにより、また絶縁層５１ｉを求めた照射回数だけレーザビーム５ａを照射することにより、プリント基板に穴を加工する。 - 特許庁

An ion beam irradiation system and an electron beam irradiation system in a different axis direction are set in the same sample chamber, and the working depth is obtained from a difference when a working hole bottom part and a raw area are focused with this electron beam system.例文帳に追加

イオンビーム照射系と軸方向を異にした電子ビーム照射系を同一試料室内に設け、該電子ビーム照射系で加工穴底部と上部に焦点を合わせた時の差分から加工穴深さを求めることとした。 - 特許庁

The irradiation system has the beam window 33 serving as an irradiation hole for a positron beam, and is installed to insert a beam window 33 into the target flow passage 27.例文帳に追加

照射装置は、陽子ビームの照射孔となるビーム窓３３を有するとともに、ビーム窓３３をターゲット流路２７内に挿入して設置される。 - 特許庁

The second light-shielding layer 66 has light-shielding property against second irradiation light, transmitting property for the first irradiation light and an aperture 70 corresponding to the contact hole.例文帳に追加

第２遮光層６６は、第２照射光に対して遮光性を有し、かつ第１照射光に対して透過性を有すると共に、コンタクトホールに対応した開口部７０を有する。 - 特許庁

For example, an h-line stepper exposing machine is used, and the region for the contact hole 12 is exposed to 400 mg/cm2 irradiation while the rugged pattern in the pixel region is exposed to 160 mg/cm2 irradiation.例文帳に追加

例えば、ここではｈ線のステッパー露光機を用い、コンタクトホール１２部を４００mj／cm^2 で、画素領域内の凹凸を１６０mj／cm^2 で露光した。 - 特許庁

In the partial heating process, irradiation of laser is performed only to the region including the hole 13 and its periphery interposing a laser mask 15.例文帳に追加

部分加熱工程は、レーザーマスク１５を介在させホール１３とその周辺を含む領域のみにレーザーを照射する。 - 特許庁

To provide a laser puncture device capable of minimizing a puncture hole by the irradiation of laser beams and stably collecting blood.例文帳に追加

レーザービームの照射による穿刺孔を最小限の大きさにし、かつ安定した採血をすることができるレーザー穿刺装置を提供する。 - 特許庁

The through-hole of 0.1 μm to 10 μm may be formed by laser irradiation on the molding resin base.例文帳に追加

また、成型樹脂ベースにレーザー照射によって０．１μｍ〜１０μｍの貫通穴を形成してもよい。 - 特許庁

A lighting hole 29 is set to the reflector 23 for making equally mixed the irradiation amount of ultraviolet rays irradiated from two lamps to the illuminance sensor 28.例文帳に追加

２本のランプから照度センサ２８へ照射される紫外線の照射量を同一とするための採光孔２９をリフレクタ２３に設ける。 - 特許庁

To provide a charged particle beam irradiation method which is effective in observing a semiconductor device which comprises a variety of micro hole patterns.例文帳に追加

種々の微細な穴パターンを備えた半導体装置の観察に有効な荷電粒子線照射方法を提供すること。 - 特許庁

Drilling work is executed on a semiconductor chip through laser beam irradiation to form a hole on the semiconductor chip.例文帳に追加

半導体チップに対してレーザ光照射により孔あけ加工を行い、前記半導体チップに孔部を形成する。 - 特許庁

An irradiation angle for the drilling pipe 1 of a laser beam is differentiated in accordance with a part on the circumference of the through-hole 7.例文帳に追加

レーザービームの試錐管１に対する照射角度を貫通孔７の周縁における部位によって異ならせる。 - 特許庁

In a laser processing stage, a second through hole 48 is formed by removing a center part of the unsintered conductor 49 by laser irradiation.例文帳に追加

レーザ加工工程では、レーザ照射により未焼結導体４９の中心部を除去して第２貫通孔４８を形成する。 - 特許庁

The purifying device for the internal combustion engine is provided with a laser beam irradiation device 2 irradiating an injection hole of a cylinder fuel injection valve 15 with laser beams.例文帳に追加

内燃機関の浄化装置は、筒内燃料噴射弁１５の噴孔にレーザ光を照射するレーザ光照射装置２を備える。 - 特許庁

To surely align the pin-hole substrate and optical irradiation system of an optical system having a point source.例文帳に追加

本発明は、点光源を有する光学系のピンホール基板と照射光学系とを確実にアライメントすることを目的とする。 - 特許庁

To provide a metal foil clad laminated sheet enabling the drilling of a blind hole good in plating uniformity by the irradiation with carbon dioxide laser.例文帳に追加

炭酸ガスレーザの照射によってめっき付き回り性の良好な非貫通孔を穿孔することのできる金属箔張積層板を提供する。 - 特許庁

Separation films 4 are bonded temporarily on both sides of board material 1 while heating and pressing are performed, and a penetrating hole 6 is formed by irradiation of laser 5.例文帳に追加

セパレイションフィルム４を基板材料１の両面に加熱加圧しながら仮接着し、レーザ５を照射して貫通穴６を形成する。 - 特許庁

A sample surface of the sample 4 is irradiated with an electron beam from an electron beam irradiation section 1 through a hole 30 in an ellipsoidal mirror 3.例文帳に追加

電子線照射部１から楕円面鏡３の孔部３０を通過して試料４の試料面に電子線が照射される。 - 特許庁

To provide a method for forming a via hole which is manageable in a wider range of an irradiation time and can be easily handled in an actual manufacturing line.例文帳に追加

照射時間の管理幅が広く実際の製造ラインで扱いやすいビアホールの形成方法を提供すること。 - 特許庁

The correction target (4) is made of such a material as dissolving through irradiation with the light beam (L) and a through-hole is made.例文帳に追加

補正用ターゲット４は、光ビームＬが照射されると溶解し、穴が貫通する材質でできている。 - 特許庁

Thereby, by adjusting the movement distance of the irradiation spot, the passage cross section of the release hole 71 has a desired size.例文帳に追加

従って、照射スポットの移動距離を調整することで放出孔７１の流路断面積を所望の大きさにすることができる。 - 特許庁

One opening of the fitting hole 32 is used as a laser beam irradiation port 33, ad the other opening is used as a lead wire lead-out port 34.例文帳に追加

取付孔３２の一方の開口部をレーザ光照射口３３とし、他方の開口部をリード線導出口３４とする。 - 特許庁

Since the oxide film is thin, electron-hole pairs are reduced which are generated in the oxide film by irradiation with high-energy beams.例文帳に追加

酸化膜が薄いので、高エネルギー線照射により酸化膜中で発生する電子−正孔対が少なくなる。 - 特許庁

As a result, the dot hole 4 can be formed by the melting of the substrate 1 through the wet etching whereby any projection 22 or scatter 23, consisting of the molten material of the substrate, is not formed on the substrate 1 upon forming the dot hole 4 on the substrate 1 by the irradiation of a laser beam such as in the case of laser irradiation marking.例文帳に追加

その結果、ウェットエッチングにより基板１が溶解してドット穴４が形成出来るので、レーザー照射マーキングのように、レーザー照射２１によって基板１にドット穴４を形成する際に、基板１上に基板の溶融物からなる突起２２や飛散物２３が形成されない。 - 特許庁

The porous film is formed by using a compound (X) having a functional group a portion of which is eliminated to generate a volatile component by heating, irradiation with light, irradiation with a radiation or a combination thereof and the hollow hole showing the maximum peak in a hollow hole distribution curve has ≤5 nm diameter.例文帳に追加

多孔質膜は、加熱、光照射、放射線照射またはそれらの組み合わせにより、その一部が脱離して揮発性成分を生じる官能基を有する化合物（Ｘ）を用いて形成され、空孔分布曲線における最大ピークを示す空孔直径が５ｎｍ以下である。 - 特許庁

To an electron beam irradiation apparatus and a device for manufacturing optical recording media which make it possible to easily eliminate the accretion near an electron beam emission hole made, through contact with an object to be irradiated by the electron beam with the electron beam emission hole in the electron beam irradiation apparatus and the device for manufacturing optical record media that uses the irradiation apparatus.例文帳に追加

電子ビーム照射装置及びこれを用いる光記録媒体製造装置において、被電子ビーム照射体と電子ビーム出射孔との接触等によって生じる電子ビーム出射孔付近の付着物の排除を簡便に行うことができるようにした電子ビーム照射装置及び光記録媒体製造装置を提供する。 - 特許庁

When the laser beam is irradiated at a specific hole forming position P1 for n times, irradiation for n times is not continuously performed to specific hole forming positions P2-P5.例文帳に追加

特定の孔形成位置Ｐ１にｎ回にわけてレーザービームを照射するにあたり、特定の孔形成位置Ｐ２〜Ｐ５にｎ回の照射を連続的に行わない。 - 特許庁

When a predetermined fuse element is cut, the through hole electrode connected with this fuse element becoming a shadow for direct irradiation of other through hole electrode with unnecessary energy of the laser beam will not occur.例文帳に追加

これにより、所定のヒューズ素子を切断する場合、このヒューズ素子に接続されたスルーホール電極が影となって、レーザビームの不要なエネルギーが他のスルーホール電極に直接照射されることがない。 - 特許庁