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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > isolation methodに関連した英語例文

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isolation methodの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1217



例文

By the method of producing a silicon dioxide film, isolation structures, such as various insulation films, can be formed.例文帳に追加

この二酸化ケイ素膜の製造方法によって各種絶縁膜などのアイソレーション構造を形成させることができる。 - 特許庁

METHOD OF MEASURING RATIO OF THREE KINDS OF STABLE OXYGEN ISOTOPES IN ATMOSPHERE OR DISSOLVED GAS, AND O2 ISOLATION DEVICE USED THEREFOR例文帳に追加

大気中又は溶存気体中の三種安定酸素同位体比測定方法及びそれに用いるO2単離装置 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device to prevent an air gap from being formed in a trench isolation structure.例文帳に追加

トレンチ分離構造において空隙が形成されるのを防止する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device having an isolation structure in which inter-element leak currents are reduced.例文帳に追加

素子間のリーク電流が低減されたアイソレーション構造を有する半導体装置を製造する方法が提供される。 - 特許庁

例文

To provide a fixing construction with a vibration isolation function easily installed, fixed and moved and a method thereof.例文帳に追加

設置や固定が容易で、移動も容易に行うことができる防振機能付き固定構造およびその方法を提供する。 - 特許庁


例文

To provide a method of manufacturing a semiconductor device that relaxes thermal stress generated at its isolation trench portion.例文帳に追加

分離トレンチ部分に発生する熱応力を緩和することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a tile wall face of an ALC panel attached to a steel frame skeleton by a rocking construction method and having a base isolation property.例文帳に追加

ロッキング構法によって鉄骨躯体に取付けたALCパネルのタイル壁面が免震性を備えたものとする。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING RUBBER-METAL COMPOSITE, RUBBER-METAL COMPOSITE, TIRE, RUBBER BEARING BODY FOR BASE ISOLATION, INDUSTRIAL BELT AND CRAWLER例文帳に追加

ゴム−金属複合体の製造方法、ゴム−金属複合体、タイヤ、免震用のゴム支承体、工業用ベルト、及びクローラー - 特許庁

After that, the epitaxial silicon film 85 is planarized by a CMP method, to expose the upper surface of an element isolation insulating film 50.例文帳に追加

その後、CMP法によりエピタキシャルシリコン膜85を平坦化し、素子分離絶縁膜50の上面を露出させる。 - 特許庁

例文

To provide a method of manufacturing a trench isolation for improving flatness of an insulating film formed on buried polysilicon.例文帳に追加

埋め込んだポリシリコン上に形成される絶縁膜の平坦性を向上させるトレンチ分離製造方法の提供。 - 特許庁

例文

To provide a manufacturing method of a semiconductor device with excellent characteristics which has a high-reliability element isolation region.例文帳に追加

良好な特性で且つ信頼性の高い素子分離領域を有する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of suppressing the number of manufacture processes of an element isolation part.例文帳に追加

素子分離部の製造工程が増加するのを抑制することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming wiring lines on a semiconductor substrate and that for forming electrical isolation related to the wiring lines.例文帳に追加

半導体基板上の配線ラインの形成及び配線ラインに付随する電気的分離の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device having an element isolation region coincident with a surface of a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の表面に一致する素子分離領域を有する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid etchant which is not easily affected by a trench structure, and to provide a method for forming an isolation structure using the liquid etchant.例文帳に追加

トレンチ構造の影響を受けにくいエッチング液とそれを用いたアイソレーション構造の形成方法の提供。 - 特許庁

This invention relates to the method for preparing a photoresist without isolation of various components, i.e. a "one-pot" procedure.例文帳に追加

本発明は、種々の成分を単離すること無く、フォトレジストを調製する方法、例えば、「ワン−ポット」製法に関する。 - 特許庁

To provide a method for forming a shallow trench isolation (STI) on a thin silicon-on-insulator (SOI) substrate.例文帳に追加

薄いシリコン・オン・インシュレータ(SOI)基板上に浅いトレンチ分離(STI)を形成するための方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an industrially advantageous isolation method capable of isolating and refining lactoferrin isophome in a highly efficient manner.例文帳に追加

ラクトフェリンアイソフォームを高い効率にて分離精製することができる工業的に有利な分離方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device having desired trench isolation structure for securing element characteristics, and its manufacturing method.例文帳に追加

素子特性を確保する上で望ましいトレンチ分離構造を有する半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing 2-adamantanone containing a small amount of resinous compounds with an increased isolation yield of 2-adamantanone.例文帳に追加

2−アダマンタノンの単離収率を向上させ、かつ樹脂状化合物の含有の少ない2−アダマンタノンを製造する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device selectively forming an impurity layer immediately below an element isolation structure.例文帳に追加

素子分離構造の直下に選択的に不純物層を形成することができる半導体装置の製造方法を得る。 - 特許庁

The reagent, method and device for isolation of cellular components such as ribonucleic acid (RNA) from cells in a liquid solution.例文帳に追加

液体溶液中の細胞からリボ核酸(RNA)のような細胞成分を単離するための試薬、方法及び装置。 - 特許庁

To provide a method for identification, isolation and recombination production of a new polypeptide named as Apo-2 and to provide an anti-Apo-2 antibody.例文帳に追加

Apo-2と命名する新規ポリペプチドの同定、単離、及び組換え生産、及び抗Apo-2抗体の提供。 - 特許庁

To provide a method for refining/isolating a nucleic acid through improving a conventional trap device and utilizing the resultant new isolation apparatus, and to provide a kit for use in the method.例文帳に追加

従来のトラップ装置を改良し、その新たな分離装置を利用する核酸の分離精製方法、該方法に使用するキットを提供する。 - 特許庁

To provide a void detector that detects a void generated in a ditch-type element isolation region highly sensitively, and also to provide its manufacturing method and evaluation method.例文帳に追加

溝型素子分離領域に生じたボイドを高感度に検出することができるボイド検出装置、その製造方法及び評価方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming an element isolation layer which can contribute to reduction in device defect by easily making the height of the element isolation layer from the front surface of a semiconductor substrate to a prescribed value, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

素子分離層の半導体基板表面からの高さを所定値に容易に合わせ込むことを可能とし、デバイス不良の低減に貢献できるようにした素子分離層の形成方法、及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a GaN element where reduction in productivity due to pitching in a cleavage and the enlargement of a cutting allowance can be suppressed, and moreover which has a new isolation method capable of simplifying a process for isolation as a whole.例文帳に追加

劈開におけるチッピングや、ダイシングにおける切り代拡大による量産性の低下を抑制でき、しかも、分断のための加工全体を簡略化することも可能な新たな分断方法を有する、GaN系素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an element isolation film forming method of a semiconductor memory element capable of minimizing the depth of a moat formed on an element isolation film by shortening a cleaning process time using a DHF solution in which processes from trench formation to element isolation film formation take place during the process of forming the element isolation film of the semiconductor memory element.例文帳に追加

本発明は、半導体メモリ素子の素子分離膜形成工程時にトレンチ形成工程から素子分離膜形成工程まで行われる、DHF溶液を用いた洗浄工程時間を短縮させて、素子分離膜に形成されるモウトの深さを最小化することが可能な半導体メモリ素子の素子分離膜形成方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a semiconductor device where electric characteristics of a gate insulating film near an element isolation region are equal to those of a gate insulating film other than the element isolation region vicinity, and to provide a method for manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

素子分離領域付近でのゲート絶縁膜の電気的特性と素子分離領域付近以外でのゲート絶縁膜の電気的特性とが等しい半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method, an apparatus, a program, a recording medium and a transmission medium for letting a user feel an acoustic isolation effect, with which the user can intuitively and comprehensively have the acoustic isolation effect learnt without feeling any stress.例文帳に追加

知りたい遮音効果をユーザーにストレスを感じさせることなく直感的にわかりやすく体感してもらうことができる、遮音効果体感の方法、装置、プログラム、記憶媒体及び伝送媒体を提供する。 - 特許庁

The existing floor is reinforced by the reinforcing method to ensure horizontal rigidity at the lowest story and, at the same time, a base isolation device is installed by work in the working space, and the working space is made to remain as a base isolation pit.例文帳に追加

上記の補強工法によって既存床を補強して最下階での平剛性を確保したうえで、作業空間での作業によって免震装置を設置し、作業空間を免震ピットとして残置する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, wherein an etching height is not varied by a change in an etching speed due to ion implantation to an element isolation insulating film when forming a CMOS having an STI type element isolation structure.例文帳に追加

STI型の素子分離構造を有するCMOSを形成する際、素子分離絶縁膜がイオン注入を受けて、エッチング速度の変化により、高さが異ならない半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Generally, the method makes use of an electrically conductive elastomeric member or members to effectively ground the chamber isolation valve and/or an isolation valve door while avoiding metal-to-metal contact between moving parts in the processing system.例文帳に追加

一般に、この方法は、導電性エラストマー部材を使用してチャンバーアイソレーションバルブ及び/又はアイソレーションバルブドアを効果的に接地しながら、処理システムの可動部品間の金属対金属接触を回避する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, with which deterioration of the geometry of a device isolation structure caused by a divot and fluctuation of the height of an insulating film embedded in the device isolation trench can be mitigated irrespective of the trench width.例文帳に追加

溝幅に拘わらず、素子分離溝内に埋め込まれる絶縁膜の窪み、高さの変動などによる素子分離構造の形状劣化を低減できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a base isolation effect of a wide frequency band zone by making an absolute liquid face which does not vibrate by the flexible variation of the air pressure of the air chamber, in a floating up and down base isolation method using an air chamber in common.例文帳に追加

空気室を併用した浮体式上下免振方法において、空気室の気圧を柔軟に変化することにより振動しない絶対液面を作り、広い周波数帯域の免振効果を得る。 - 特許庁

To provide a fire-resistant coating method of a base isolation device which is simple in the constitution and excellent in workability, can execute periodical inspection for the base isolation device with ease, excellent in design, requires no finishing materials, and can contribute to cost reduction.例文帳に追加

構成が簡単で施工性が良く、免震装置の定期点検を容易に行え、意匠性に優れて仕上材を必要とせず、コストの削減に寄与する免震装置の耐火被覆工法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device where electrical characteristics in a gate insulating film in the vicinity of an element isolation region and electrical characteristics in a gate insulating film in a region other than the element isolation region are equal, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

素子分離領域付近でのゲート絶縁膜の電気的特性と素子分離領域付近以外でのゲート絶縁膜の電気的特性とが等しい半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor element which does not generate lowering of the reliability of operating characteristics of a transistor and lowering of the reliability of a gate oxide film, even if a dual gate oxide film process is applied to an STI(shallow trench isolation) structure.例文帳に追加

STI(Shallow Trench Isolation)構造にデュアルゲート酸化膜(dual gate oxide)工程を適用してもトランジスタの動作特性低下とゲート酸化膜の信頼性低下を発生させない半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide connecting structure for a base isolation building frame capable of displaying a base isolation function perfectly by flexibly following movement at the time of earthquake, strong in secular distortion and maintenance-free for a long period of time and its construction method.例文帳に追加

地震時の移動に柔軟に追随して免震機能を遺憾なく発揮できると共に、径年変化に強く、長期にわたってメンテナンスフリーな免震建物躯体の接合構造及びその施工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a frequency component isolation filter, method and program for reducing the circuit scale and simplifying the processing content.例文帳に追加

回路規模の削減および処理内容の簡素化が可能な周波数成分分離フィルタ、方法およびプログラムを提供すること。 - 特許庁

To provide a means for forming a channel stopper layer by self-alignment, at the formation of an element isolation layer, using an STI method.例文帳に追加

STI法により素子分離層を形成する場合に、チャネルストッパ層を自己整合的に形成する手段を提供する。 - 特許庁

To provide a lightweight base isolation piping having high rigidity and a simple constitution, requiring no special method for piping and connecting.例文帳に追加

軽量でかつ剛性が高く、構造が簡単で配管や接続に特段の方法を必要としない免震配管を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device of high reliability and high performance, which is capable of stable element isolation and micronizaiton.例文帳に追加

安定した素子分離が行え、微細化が可能で、高信頼性、高性能な半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a base isolation construction method capable of blocking transmission of vibration to an upper building, by absorbing vibration energy of an earthquake.例文帳に追加

地震の振動エネルギーを吸収して上部建造物への振動の伝達を遮断する免震建築工法の提供。 - 特許庁

To provide a nonvolatile semiconductor memory having stable element characteristics, and also a method of forming an STI (Shallow Trench Isolation) insulating film in the memory.例文帳に追加

安定した素子特性を有する不揮発性半導体メモリとそのSTI絶縁膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a small-sized antenna for a mobile terminal, capable of securing sufficient isolation, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

十分なアイソレーションを確保することができる小型の携帯端末用アンテナ及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an isolated causative substance of disease affecting Cyprinus carpio and a method for its isolation.例文帳に追加

Cyprinus carpinoに感染する単離された病気の原因物質およびその単離のための方法の提供。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor optical integrated device, wherein variations in the element isolation resistance among individual elements can be reduced.例文帳に追加

個体間での素子分離抵抗のばらつきを抑えることができる半導体光集積素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a construction method for driving a pile under a basic skeleton for carrying out base isolation repair work of the existing building.例文帳に追加

既存建物の免震改修工事などを実施するために、基礎躯体下に杭を圧入(施工)する方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a method of manufacturing a semiconductor device for forming an oxide film without any dents on an element isolation region.例文帳に追加

素子分離領域上に窪みのない酸化膜を形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁




  
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