| 例文 |
layer capacitanceの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 833件
An auto-doped layer 2, where the impurity concentration gradually decreases as recedes from the surface of a semiconductor substrate 1, and a lightly-doped layer 3 comprising such impurity concentration distribution as even in depth direction constitute a high specific resistance epitaxial layer 30, which is used to reduce the junction capacitance of a photodiode.例文帳に追加
半導体基板1の表面から遠ざかる方向に向けて不純物濃度が次第に減少するオートドープ層2と、深さ方向に均一な不純物濃度分布を有する低不純物濃度層3を含む高比抵抗エピタキシャル層30を用いて、フォトダイオードの接合容量を低減する。 - 特許庁
With regard to the noise component, signal line noise and IC noise are reduced by employing a multilayer structure of a first insulation layer 14, a semiconductor layer 15, and a second insulation layer 16 at the intersection of a signal line and a switch TFT drive line thereby reducing parasitic capacitance at the intersection of wiring.例文帳に追加
ノイズ成分においては、信号線とスイッチTFT駆動配線との配線交差部を第1の絶縁層14、半導体層15、第2の絶縁層16の積層構造とすることにより、配線交差部で形成される寄生容量を低減し、信号線ノイズ、ICノイズを低減する。 - 特許庁
The liquid crystal display device includes: a thin film transistor in which a gate electrode is formed on the under layer side of a gate insulation film and a drain electrode and a source electrode are formed on the above layer side of the gate insulation film; and an auxiliary capacitance electrode formed on the same layer as the gate electrode.例文帳に追加
ゲート絶縁膜の下層側にゲート電極が形成されるとともに、ゲート絶縁膜の上層側にドレイン電極及びソース電極が形成された薄膜トランジスタと、ゲート電極と同一層に形成された補助容量電極とを備えた液晶表示装置である。 - 特許庁
The capacitance element is provided with: a dielectric layer 10; a first electrode 11 formed on a given surface 10a of the dielectric layer 10; and a second electrode 12 formed on a surface 10b opposite to the predetermined surface 10a of the dielectric layer 10.例文帳に追加
本発明の静電容量素子は、誘電体層10と、誘電体層10の所定面10a上に形成された第1電極11と、誘電体層10の前記所定面10aとは反対側の面10b上に形成された第2電極12とを備える構成とする。 - 特許庁
The auxiliary capacitance elements 27 are formed by laminating, in the following order, an interlayer insulting layer (2nd insulating layer) 29 formed by laminating a lower electrode 28, an inorganic insulating film 30 and an organic insulating film 31 on the insulating layer 24, and an upper electrode which is a pixel electrode 26.例文帳に追加
補助容量素子27は絶縁層24上に下部電極28、無機絶縁膜30と有機絶縁膜31とを積層して構成される層間絶縁層(第2の絶縁層)29および画素電極26である上部電極をこの順番に積層して構成される。 - 特許庁
The interlayer insulating film 43 is laminated on the interlayer insulating film 42, and the interlayer insulating film 43 includes a recessed portion 43e reflecting the groove-like recessed portion 42e, in which a storage capacitance 55 is constituted by a first electrode layer 5a, a dielectric layer 40 and a second electrode layer 7a.例文帳に追加
また、層間絶縁膜42には層間絶縁膜43が積層され、層間絶縁膜43において溝状凹部42eが反映されてなる凹部43eの内部で、第1電極層5a、誘電体層40、および第2電極層7aが蓄積容量55を構成している。 - 特許庁
A base metal layer 100 to form an auxiliary capacitance between the layer 100 and the drain electrode 112 of a TFT 127 that applies a voltage to a pixel electrode is formed in a planar state on a glass substrate 130; that is, the layer is formed without being patterned on the glass substrate 130.例文帳に追加
画素電極114に電圧印加するTFT127のドレイン電極112との間で補助容量を形成するための下地金属層100が、ガラス基板130上に面状に形成、即ち、ガラス基板130上にパターンニングされない状態で形成される。 - 特許庁
To reduce the parasitic capacitance of the electrode pad of an element where a mesa stripe including an optical waveguide layer is buried by a semi-insulating InP based embedding layer having an upper surface consisting of a flat portion, an inclining portion and a fine growth portion and the electrode pad is formed on the embedding layer 4.例文帳に追加
光導波路層を含むメサストライプを、上面が平坦な平坦部、傾斜部及び微成長部からなる半絶縁性のInP系埋込み層により埋め込み、埋込み層4上に電極パッドが形成された素子の電極パッドの寄生容量を小さくする。 - 特許庁
With regard to the noise components, signal line noise and IC noise are reduced by employing a multilayer structure of a first insulation layer, a semiconductor layer, and a second insulation layer at the intersection of a signal line and a switch TFT drive line, thereby reducing parasitic capacitance at the intersection of wiring.例文帳に追加
ノイズ成分においては、信号線とスイッチTFT駆動配線との配線交差部を第1の絶縁層、半導体層、第2の絶縁層の積層構造とすることにより、配線交差部で形成される寄生容量を低減し、信号線ノイズ、ICICノイズを低減する。 - 特許庁
The lower side of a high dielectric member 4 having a specific dielectric constant of 20 or more with an electrode 5 provided at the upside is adhered through a resin layer 3 to a wiring conductor layer 2 formed on a dielectric substrate 1, to thereby form a capacitance element C1 with the wiring conductor layer 2 and the electrode 5 used as opposite electrodes and the high dielectric member 4 used as a dielectric for generating capacitance.例文帳に追加
誘電体基板1上に形成された配線導体層2上に、上面に電極5が設けられた比誘電率が20以上の高誘電性部材4の下面を、樹脂層3を介して接着させたことにより、配線導体層2と電極5とを対向電極としかつ少なくとも高誘電性部材4を静電容量発生用の誘電体とする容量素子C1を形成した。 - 特許庁
Each pixel 20 has: the pixel electrode 160 and the common electrode 140 which are provided on one substrate of a pair of substrates and layered via the insulating film; an alignment layer disposed on an liquid crystal layer side of the pixel electrode 160 and the common electrode 140; and a circuit capacitance connected to a liquid crystal capacitance via the liquid crystal layer between the pixel electrode 160 and the common electrode 140.例文帳に追加
各画素20は、一対の基板の一方の基板に設けられ、絶縁膜を介して積層された画素電極160と共通電極140と、画素電極160および共通電極140よりも液晶層側に配置された配向膜と、画素電極160と共通電極140との間の液晶層を介した液晶容量に接続された回路容量と、を有している。 - 特許庁
Since no impurities are present in the di-electric layer of the auxiliary capacitance semiconductor layer 37, deterioration in the characteristics of thin film transistors 23 for pixels, thin film transistors 25 for a p-type driving circuit, and thin film transistors 26 for an N-type driving circuit does not occur.例文帳に追加
補助容量半導体層37の誘電体層には不純物が存在しないため、画素用薄膜トランジスタ23、P型駆動回路用薄膜トランジスタ25およびN型駆動回路用薄膜トランジスタ26の特性劣化を発生させない。 - 特許庁
To provide a polarizable electrode for an electric double layer capacitor, which has good characteristics when exposed to air at high temperature and prevents decline in capacitance and increase in internal resistance, and also to provide an electric double layer capacitor using the same.例文帳に追加
高温における放置特性が良好、かつ静電容量の低下及び内部抵抗の上昇を防止可能な電気二重層キャパシタ用分極性電極及びそれを用いた電気二重層キャパシタを提供する。 - 特許庁
To provide a compound heterobipolar transistor of a structure, wherein the recombination between a base layer and an emitter layer is suppressed and a reduction in the amplification factor of a current can be prevented without increasing the junction capacitance between a base and an emitter and a leakage current so much, and the manufacturing method of the transistor.例文帳に追加
ベース・エミッタ間の接合容量やリーク電流をあまり増加させずに、再結合を抑制して電流増幅率の低下を防ぐことができる化合物ヘテロバイポーラトランジスタおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a porous carbon material for a non-aqueous electric double layer capacitor which has high capacitance per volume of an electrode and low expansion of volume in charging, and a manufacturing method thereof and the non-aqueous electric double layer capacitor.例文帳に追加
電極の体積当たりの静電容量が高く、かつ充電時の体積膨張の低い、非水系電気二重層キャパシタ用多孔質炭素材料およびその製造方法ならびに非水系電気二重層キャパシタを提供する。 - 特許庁
For example, in a reflection type liquid crystal display panel, the lower layer electrode 11b and the upper layer electrode 16d of the auxiliary capacitance having ≥50% area of a reflection electrode 18a is disposed below the reflection electrode (pixel electrode) 18a.例文帳に追加
例えば反射型液晶表示パネルの場合、反射電極(画素電極)18aの下方に、反射電極18aの50%以上の面積となる補助容量の下層電極11b及び上層電極16dを配置する。 - 特許庁
Since the surface of the polarizable electrode layer is embossed, the polarizable electrode layer is compressed effectively and a volume capacitance as high as 17 F/cm^3 or above can be attained.例文帳に追加
このように、本発明では分極性電極層の表面をエンボス加工していることから、分極性電極層が効果的に圧縮され、その結果、17F/cm^3以上の高い体積容量を達成することが可能となる。 - 特許庁
The storage capacitance electrode 51 and the pixel electrode 31 are connected via a conductive through-hole 33 penetrating through the upper insulating layer, and the storage capacitance electrode 51 and a source electrode 43 of a thin film transistor part 40 are integrally formed out of the same metallic film via wiring 53.例文帳に追加
蓄積容量電極51と画素電極31とが上層絶縁層を貫通する導電性貫通孔33により接続され、かつ蓄積容量電極51と薄膜トランジスタ部40のソース電極43とが配線53を介して同一金属膜で一体に形成されている。 - 特許庁
When viewed in stacking direction of a dielectric layer 32, capacitance formation parts 48 and 51 of the first and fourth internal electrodes 42 and 45 do not overlap each other, while capacitance formation parts 49 and 50 of the second and third internal electrodes 43 and 44 do not overlap each other.例文帳に追加
誘電体層32の積層方向で見たとき、第1および第4の内部電極42および45の各々の容量形成部48および51が重なり合わず、第2および第3の内部電極43および44の各々の容量形成部49および50が重なり合わない。 - 特許庁
To provide an electrode plate for a capacitance type touch panel, including a structure allowing easy and accurate alignment between a plurality of patterns when sequentially forming each layer of the electrode plate for the capacitance type touch panel including a plurality of layers including the patterns from a transparent base material side.例文帳に追加
パターンを含む複数の層からなる静電容量式タッチパネル用電極板の各層を透明基材側から順次形成していく際に、複数のパターン間の正確な位置合わせを容易に行うことを可能にする構造を有する静電容量式タッチパネル用電極板を提供すること。 - 特許庁
To provide an SOI-MOSFET operating as a high driving current low parasitic capacitance with a low substrate bias coefficient by varying the substrate depletion layer capacitance when a variable threshold voltage CMOSFET is realized and the threshold voltage is increased by a high substrate bias coefficient during standby.例文帳に追加
閾値電圧可変CMOSFETを実現する際、基板空乏層容量を変化させ、動作時に、低い基板バイアス係数で高駆動電流かつ低寄生容量のデバイスとして動作し、待機時に、高い基板バイアス係数により、閾値電圧を高くするSOI−MOSFETを提供する。 - 特許庁
To improve yields in an active matrix substrate, its manufacturing method, an optoelectronic device and its manufacturing method by reducing damage on an insulation layer of storage capacitance caused by an ion implantation while maintaining necessary specific resistance on the lower electrode of the storage capacitance.例文帳に追加
アクティブマトリクス基板とその製造方法、及び電気光学装置とその製造方法において、蓄積容量の下部電極において必要な比抵抗値を確保しながらイオン注入に起因する蓄積容量の絶縁膜へのダメージを低減させて歩留まりを向上させること。 - 特許庁
The slit 41 closed by the lower electrode layer 2 and the upper electrode 3 makes a cavity 5, a part of which is filled with a static capacitance medium 6, thereby the common electrode 22 and the opposite electrodes 32 and 33 are immersed in the static capacitance medium 6.例文帳に追加
そして、下部電極層2と上部電極層3とにより閉塞されたスリット41をキャビティ5として、そこにはその容積の一部を占めるように静電容量媒体6が注入され、これにより共通電極22及び対向電極32,33が静電容量媒体6に浸漬されている。 - 特許庁
The electrostatic capacitance CTL per unit area of an existence region of development contributing toner in which toner contributing to a development exists adjacently to a photoreceptor drum surface in a developing area, is made larger than the electrostatic capacitance CPC per unit area of a photosensitive layer 1P.例文帳に追加
現像領域における感光体ドラム表面に隣接し現像に寄与するトナーが存在している現像寄与トナー存在領域の単位面積あたりの静電容量C_TLを、感光層1Pの単位面積あたりの静電容量C_PCよりも大きくする。 - 特許庁
To solve a problem that the capacitance is shifted from a specified value due to the effect of an excessive capacitance being formed at the outer circumferential edge part as the wiring board incorporating a capacitive element is reduced in size and profile even if variation in the facing area of a capacitive element electrode layer is suppressed.例文帳に追加
容量素子内蔵配線基板の小型化・低背化に伴い、容量素子電極層の対向する面積の変化を抑えたとしても外周縁部分で生じる余分な静電容量成分の影響のため、静電容量値が所定の値からずれてしまう。 - 特許庁
Since the capacitance insulating film comprises the laminate film consisting of the hafnium oxide films 102, 104 of the first and third layers having a great barrier height, and the hafnium oxide film 103 of the second layer having a great dielectric constant, it is possible to materialize the capacitor having a small leakage current and a large capacitance.例文帳に追加
容量絶縁膜は、バリアハイトの大きな第1層、第3層のハフニウム酸化膜102、104と、誘電率の大きな第2層のハフニウム酸化膜103との積層膜で構成されるため、リーク電流が小さく、かつ容量の大きなキャパシタが実現できる。 - 特許庁
Further since capacitance per layer can be adjusted by changing an interval d between the internal electrodes 16, 18, the number of laminated layers of the internal electrodes 16, 18 can be optimized, contact defects of the internal electrodes 16, 18 with the external electrodes 22, 24 can be suppressed and the capacitance dispersion can be reduced.例文帳に追加
更に、内部電極16,18の間隔dを変えて一層当たりの容量を調整することができるため、内部電極16,18の積層数を最適化することで、内部電極16,18と外部電極22,24のコンタクト不良を抑制し、容量のばらつきを低減することができる。 - 特許庁
The lower electrodes of the capacitance elements C1, C3 are formed of a common conductor pattern Me1a and connected to the potential V1, and the lower electrodes of the capacitance elements C2, C4 are formed of a conductor pattern Me1b in the same layer as the conductor pattern Me1a and connected to the potential V2.例文帳に追加
容量素子C1,C3の下部電極は共通の導体パターンMe1aにより形成されて電位V1に接続され、容量素子C2,C4の下部電極は導体パターンMe1aと同層の導体パターンMe1bにより形成されて電位V2に接続されている。 - 特許庁
To provide an electric double layer capacitor having a high capacitance per volume with a low deterioration in capacitance even for a long period continuous applying of high voltage of not less than 3 V, that is, the high withstand voltage characteristic of not less than 3 V, especially improved withstand voltage characteristic of not less than 3.3 V.例文帳に追加
電気二重層キャパシタの体積当り容量の高容量化と同時に、3V以上の高電圧の長期間連続印加に対しても容量劣化の小さい、即ち3V以上の耐電圧特性、特に3.3V以上の耐電圧特性を改善し、両立させること。 - 特許庁
The electrode metal material where an active carbon layer is deposited and formed is utilized for the double-layer electrode of an electric double-layer capacitor, and carbon particles that are included in the surface compensates for the continuity between the active carbon layer and a valve metal electrode, thus preventing the internal resistance of the electrode from increasing even if the surface oxidation of the valve metal occurs, and maintaining capacitance.例文帳に追加
電極金属材料は、活性炭層が被着形成されて、電気二重層キャパシタの二重層電極に利用され、表面に含まれる炭素粒子が、活性炭層と弁金属電極との導通を補償するので、弁金属の表面酸化によっても、電極の内部抵抗は増加せず、静電容量も保持される。 - 特許庁
To provide a field-effect transistor which reduces a parasitic capacitance generated between an umbrella part of a gate electrode of T-type structure and a diffusion layer, and to provide a method of manufacturing the field-effect transistor.例文帳に追加
T型構造のゲート電極の傘部と拡散層の間に生じる寄生容量を低減した電界効果トランジスタ及びその電界効果トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁
To eliminate increase in junction capacitance and disadvantages in microminiaturization by having a high concentration impurity layer interposed between two gates in a MOSFET.例文帳に追加
MOSFETに関するもので、2個のゲート間に高濃度不純物層が存在することにより、接合容量が増加する点と、微細化が不利である点とを解消することを課題とする。 - 特許庁
Furthermore, a clearance L1 between the resistsor 25 and an epitaxial layer 3 is enlarged to reduce the parasitic capacitance in the resistor 25 and improve the high-frequency characteristic of the semiconductor device.例文帳に追加
更に、抵抗体25とエピタキシャル層3との離間距離L1を広げることで、抵抗体25での寄生容量を低減し、半導体装置の高周波特性を向上させることができる。 - 特許庁
Thus, even when the insulating layer 23 is made thin to about 1 μm thickness, pinholes, leaking or the like between the common electrode and the pixel electrode can be prevented and a larger auxiliary capacitance can be obtained.例文帳に追加
かくすることにより、絶縁層23を1μm程度にまで薄くしても、コモン電極と画素電極の間のピンホール、リーク等を防止することができ、より大きな補助容量が得られる。 - 特許庁
To provide an electric double-layer capacitor, which has a large capacitance, a low electrical resistance, and a rated voltage of ≥2.6 V and the performance of which is stabilized, even if the capacitor is used over a long period.例文帳に追加
容量が大きく、電気抵抗が小さく、長期的に使用しても性能が安定している2.6V以上の定格電圧を有する電気二重層キャパシタの提供。 - 特許庁
The inter-layer insulating film 4 has a recess 10 formed reaching the capacitance lower electrode 3, and a capacitive insulating film 5A is formed on a bottom surface and a wall surface of the recess 10.例文帳に追加
層間絶縁膜4には、容量下部電極3に達する凹部10が形成されており、凹部10の底面及び壁面のそれぞれの上に容量絶縁膜5Aが形成されている。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device having a dual-damascene interconnect capable of sufficiently protecting a surface of a lower conductive layer, high in reliability, and small in interconnect capacitance.例文帳に追加
下層導電層の表面を十分保護することができ、信頼性が高く、配線容量が小さなデュアルダマシン配線を有する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
There is provided a semiconductor device having a capacitance element and a second transistor provided over a first transistor, an offset region being provided in a semiconductor layer of the second transistor.例文帳に追加
第1のトランジスタ上に設けられた第2のトランジスタと容量素子とを有し、第2のトランジスタの半導体層にはオフセット領域が設けられた半導体装置を提供する。 - 特許庁
In an upper pattern layer 83 of the display panel 10, formation areas of the light-receiving transistor Tr21 and the holding capacitance element C1 are selectively formed with openings 110.例文帳に追加
表示パネル10上の上部パターン層83において、受光用トランジスタTr21および保持容量素子C1の形成領域に、選択的に開口110が設けられている。 - 特許庁
The diaphragm 16 is formed larger in size than that of the fixed electrode layer 12 and a shield metal 33 is placed between them because a parasitic capacitance is caused by the diaphragm 16 as one configuration.例文帳に追加
振動膜16は、固定電極層12よりもそのサイズが大きく形成され、振動膜16を一構成として寄生容量が発生するため、この間にシールドメタル33を配置する。 - 特許庁
To provide a carbonaceous material for the polarized electrode of an electric double-layer capacitor for obtaining high capacitance with a small amount of variation, and to provide a method for manufacturing the polarized electrode.例文帳に追加
ばらつきが少なくかつ高い静電容量を得ることができる電気二重層キャパシタの分極性電極用炭素材および分極性電極の製造方法を提供する。 - 特許庁
To obtain a solid-state electrolytic capacitor in which a solid-state electrolytic layer composed of fine uniform conductive high molecules is formed into a winding type capacitor element and which has excellent electrical characteristics and large capacitance.例文帳に追加
巻回型のコンデンサ素子の内部に、緻密で均一な導電性高分子からなる固体電解質層を生成し、電気的特性に優れかつ大容量の固体電解コンデンサを得る。 - 特許庁
To decrease inhomogeneous irregular display caused by stray capacitance due to an insulating layer between a metal reflector and an ITO electrode in a reflection type liquid crystal display panel.例文帳に追加
反射型の液晶表示パネルにおいて、金属反射板とITO電極間の絶縁層による浮遊容量により発生していた不均一の表示むらを低減できる。 - 特許庁
The capacitor of a matching circuit built into an RFIC 15 is constituted by using parasitic capacitance generated between the dummy bump pad 18 of the RFIC 15 and the GND layer of the RFIC 15.例文帳に追加
RFIC15に組み込まれる整合回路のキャパシタを、RFIC15のダミーバンプパッド18とRFIC15のGND層との間に出来る寄生容量使って構成する。 - 特許庁
To provide a method for forming a capacitor in which a step for forming the conductive layer for a storage node electrode can be simplified and a high capacitance and a low leak current can be realized.例文帳に追加
ストレージノード電極用導電層の形成工程を単純化でき、高いキャパシタの容量と低いリーク電流を実現することができるキャパシタの形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an electrostatic capacitance type touch sensor which enhances detection precision of an object, without using a shield layer, and a display device and electronic equipment provided with the touch sensor.例文帳に追加
シールド層を用いずに物体の検出精度を向上させることが可能な静電容量型のタッチセンサ、並びにそのようなタッチセンサを備えた表示装置および電子機器を提供する。 - 特許庁
When the thickness and the dielectric constant of the dielectric layer are called d and ε, the dielectric capacitance C=f (d, ε) is varied in the direction crossing discharge channels.例文帳に追加
本発明によれば、誘電体層の厚さをd、誘電率をεとした誘電体層のキャパシタンスC=f(d,ε)を放電チャネルに対し交差する方向で変化させる。 - 特許庁
To provide an electric double layer capacitor having high capacitance per unit volume and achieving industrial production easily, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
単位体積当たりの静電容量が高い電気二重層キャパシタの工業的生産を容易に実現することができる電気二重層キャパシタおよびその製造方法提供する。 - 特許庁
A capacitor having superior frequency characteristics and capacitance achievement rate can be obtained by forming a precise conductive polymer layer, by polymerizing the high concentration polymerization solution at a high temperature.例文帳に追加
高濃度の重合溶液を高温で重合させることにより、導電性高分子層を緻密に形成し、周波数特性と容量達成率の優れたコンデンサを得ることができる。 - 特許庁
To suppress flickers caused by low power consumption and parasitic capacitance accumulated in switching elements and wiring at the time of inverting the polarity of a voltage applied to a liquid crystal layer.例文帳に追加
液晶層に印加される電圧の極性を変化させる際、低消費電力、かつ、スイッチング素子や配線内に蓄積された寄生容量の影響によるフリッカーを抑える。 - 特許庁
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