1153万例文収録!

「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(211ページ目) - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > layer- thicknessの意味・解説 > layer- thicknessに関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

layer- thicknessの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 13314



例文

After a peripheral friction reducing layer 10a is formed between the underground structure 2a and ground, a self-hardening fluid 12a is press-fitted into a section between the batholith 2c and the ground by using a boring machine 7d, so that a solidified layer 12b with a thickness HQ can be formed and so that the underground structure 2a can be pushed upward.例文帳に追加

地下構造物2aと地盤との間に周摩擦低減層10aを形成した後、穿孔機7dを使用して底盤2cと地盤との間に自硬性流体12aを圧入して、厚さがHQの固化層12bを形成すると共に、地下構造物2aを上方に押動させる。 - 特許庁

In the galvannealed steel sheet using steel comprising 0.2 to 2.0 mass% Si as a plating base material, the thickness of a nitrogen-concentrated layer in the surface layer part of the steel sheet is 3 to 100 μm, the concentration of Al in a plating film is 0.20 to 0.40 mass%, and the concentration of Fe is 7 to 15 mass%.例文帳に追加

0.2〜2.0質量%のSiを含有する鋼をめっき母材とする合金化溶融亜鉛めっき鋼板であって、鋼板表層部の窒素濃化層が3〜100μmであり、めっき皮膜中のAl濃度が0.20〜0.40質量%、Fe濃度が7〜15質量%である、合金化溶融亜鉛めっき鋼板。 - 特許庁

When the width W of a depletion layer of a MOS capacitor that is formed in the second region 16 under the gate insulating film 19 when a power voltage is applied to the gate electrode 20 is given as W=√(2εϕ/qNa), the thickness Tsi of the second region 16 that is perpendicular to the direction of the gate length Lg is smaller than the width W of the depletion layer.例文帳に追加

ゲート電極20に電源電圧を印加したときに、ゲート絶縁膜19下の第2領域16に形成されるMOSキャパシタの空乏層の幅Wを、W=√(2εφ/qNa)としたとき、ゲート長Lgと直交する方向の第2領域16の厚さTsiが、空乏層の幅Wより小さい。 - 特許庁

A chip-protecting layer that protect the semiconductor chip 2 with respect to an external force is adhered on side surfaces of a semiconductor chip 2, having electrode pads 3 on its surface to constitute the chip-size semiconductor device, wherein the protecting layer is composed of thermosetting epoxy resin, and has a height of about 200-250 μm from the chip surface and a thickness of 80-110 μm.例文帳に追加

表面に電極パッド3を備えた半導体チップ2の側面に、表面から約200〜250μm高さで約80〜110μm程度の厚さを有する熱硬化性エポキシ樹脂材からなり外力に対し半導体チップ2を保護するチップ保護層を固着してチップサイズ半導体装置を構成する。 - 特許庁

例文

Before or during the step (ii), a nitride or oxynitride layer (5) of a semiconductor of the thin layer (3) is formed on the exposed region (3a) with a thickness sufficient to provide a ratio of the rate of oxygen diffusion though the exposed region (3a) to that through the region (3b) covered with the mask (4) that is greater than 2.例文帳に追加

ステップ(ii)の前又は最中に、薄い層(3)の半導体の窒化物又は酸窒化物の層(5)は、露出領域(3a)上に形成され、上記層(5)の厚さは、露出領域(3a)を通る酸素の拡散速度とマスク(4)で覆われる領域(3b)を通る酸素の拡散速度との比が2より大きくなるようにする。 - 特許庁


例文

The resin sash is formed by using an extrusion resin material 1 for which a base layer 11 of a hard polyvinyl chloride-based resin and a surface layer 12 of a thickness 0.1-0.5 for which a polyether-based polymeric agent containing polyethylene glycol as a conductive material is mixed and arranged in the hard polyvinyl chloride-based resin (single body) are disposed by performing co-extrusion molding.例文帳に追加

共押出成形を行って硬質ポリ塩化ビニル系樹脂の基層11と、硬質ポリ塩化ビニル樹脂(単体)に導電性物質としてポリエチレングリコールを含有するポリエーテル系の高分子剤を混合配置した肉厚0.1〜0.5の表層12を配置した押出樹脂材1を用いて樹脂サッシを形成する。 - 特許庁

In the decorative material, a waterproof sheet layer 2 and a decorative sheet 3 made of a synthetic resin are laminated sequentially on a wood base material 1 such as laminated plywood; and a groove part 7 is formed from a surface of the decorative sheet 3 by grooving to a depth which is greater in dimension than the thickness of the decorative sheet 3 and small enough not to pass through the sheet layer 2.例文帳に追加

積層合板等の木質基材1の上に、耐水性シート層2と、合成樹脂製の化粧シート3とを順次積層し、該化粧シート3の表面から、該化粧シート3の厚みを越え、前記耐水性シート層2を貫通しない深さの溝加工による溝部7を形成した化粧材である。 - 特許庁

The inclined retardation layer 87 is prepared by oblique deposition of an inorganic material, and the like on the surface of the crystalline retardation layer 86 with the main birefringence direction within a range of about 0-45 degrees with respect to the surface normal and to a thickness to be produced easily without making higher the haze of the retardation compensating element 57.例文帳に追加

傾斜位相差層87は、主屈折率の方向が表面の法線に対して0度より大きく45度程度の容易に作製できる範囲で、かつ位相差補償素子57のヘーズを高めない程度の厚さに、無機材料など結晶位相差層86の表面に斜方蒸着することによって作製される。 - 特許庁

Concretely, in order to form the solid image as the forming object, printing layer is printed one by one in tallying with n outline profiles, each of which emerges by horizontally crosswise-cutting the solid as the forming object and then n printing layers, the n of which is calculated by dividing the height of the forming object with the thickness of the printing layer, are stacked together.例文帳に追加

具体的には、形成対象の立体を水平に輪切りにしたn個の輪郭形状に合わせて1層ずつ印刷層を印刷し、形成対象の高さと印刷層の厚みから算出されるn個の印刷層を積層することにより、その形成対象の立体像を形成することができる。 - 特許庁

例文

After that, as a removing process, before the upper coating material 50 is dried, a removing roll 71 is brought into contact with the upper coating layer 5, thereby removing much upper coating 50 in the plurality of projecting parts 21 as the projecting parts 21 are increased in the projecting height H, so that the upper coating layer 5 is different in thickness between the projecting parts 21.例文帳に追加

その後、除去工程として、上側塗料50が乾燥する前に、除去ロール71を上側塗料層5に接触させ、複数の凸部21における上側塗料50を各凸部21の突出高さHが高いほど多く付着除去し、上側塗料層5の厚みを各凸部21同士で互いに異ならせる。 - 特許庁

例文

To provide a high-density printed circuit board which uses an inexpensive inter-layer insulating base material and has high adhesion secured between electroless plating and the inter-layer insulating base material and allows microwire formation using a semi-additive method, in order to make a mobile device small in size, thin in thickness, light in weight, high in definition, multiple in function or the like.例文帳に追加

モバイル機器の小型、薄型、軽量、高精細、多機能化等を実現するために、安価な層間絶縁基材を用い、無電解めっきと層間絶縁基材との高い密着性を確保し、セミアディティブ法を用いた微細配線形成が可能な高密度プリント配線基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

A developer scattering preventing member coming into contact with a developer layer on a developer carrier whose layer thickness is regulated is arranged so that the edge of the free end may not come into contact with the rising range of a magnetic brush by a developing main pole while the free end comes into contact with an image carrier, and the half value width of the developing main pole is set to30°.例文帳に追加

層厚規制された現像剤担持体上の現像剤層に接する現像剤飛散防止部材が、その自由端は像担持体に接しながら、自由端の先端は現像主極による磁気ブラシの立上がり範囲に接触しないように配置されており、現像主極の半値幅が30°以下に設定される。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a water cooler component capable of suppressing the non-uniformity of the thickness of an insulating layer 3 when manufacturing the water cooler component for which a recessed groove 2 to be the flow path of cooling water is formed on one surface of a metal base material 1 and also the insulating layer 3 is laminated on a surface on the opposite side of the one surface.例文帳に追加

金属製の基材1の一面に冷却水の流路となる凹溝2が形成されると共に前記一面とは反対側の面に絶縁層3が積層された水冷器部品を製造するにあたり、絶縁層3の厚みの不均一化を抑制することができる水冷器部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

A mold releasable film is a polyester film having a lamination structure of 2 or more layers wherein a particle is contained in at least one outermost surface layer, a ratio t/d of the thickness t of outermost surface layer to the average diameter d of the particle being 0.2≤t/d≤5, and the mold reasable film has surface resistance of less than 1×1010 Ω.例文帳に追加

少なくとも2層以上の積層構造からなるポリエステルフィルムであって、少なくとも片面の最表層に粒子を含有し、該最表層の厚さtと該粒子の平均粒径dの関係が 0.2≦t/d≦5 の範囲にあり、表面抵抗率が1×10^10Ω未満であることを特徴とする離型フィルム。 - 特許庁

The water treatment filter that is prepared by dry process and whose cylindrical activated carbon section 2 is composed of an activated carbon fiber layer with molding density of 0.10 to 0.45 g/cm^3, a filtering film section 3 with film thickness of 0.1 to 5.0 mm is disposed on the outer layer of the section 2, and both substances are integrated thereon.例文帳に追加

水処理用フィルターであって、乾式法により得られるとともに成型密度0.10〜0.45g/cm^3である活性炭繊維層により円筒状の活性炭部2が構成され、活性炭部2の外層に膜厚み0.1〜5.0mmであるろ過膜部3が配置されて、両者が一体化されている。 - 特許庁

In the multilayer thin film capacitor, the thickness of the uppermost electrode layer 42 (hereinafter referred to as electrode layer 42b) in a central capacitance generating region b is made different from those of the uppermost electrode layers 42 (hereinafter referred to as electrode layers 42a and 42c), in the capacitance generating regions a and c on the left and right sides of the central capacitance generating region b.例文帳に追加

中央に位置する容量発生領域bの最上層の電極層42(以下、電極層42bとする)の厚みが、左右に位置する容量発生領域a,cの最上層の電極層42(以下、電極層42a,42cとする)の厚みと異なっている積層型薄膜コンデンサとする。 - 特許庁

To provide a circularity correcting method for obtaining a thin-walled cylinder of less dispersion of film thickness, and a circularity-corrected thin-walled cylinder, and the thin-walled cylinder having a surface layer material thereof, and to provide a fixing belt and a carrying unit of an image heating and fixing device using the thin-walled cylinder with the surface layer material.例文帳に追加

膜厚ばらつきの少ない薄肉円筒を得る真円矯正法、真円矯正された薄肉円筒及び更に表層材を形成した薄肉円筒を提供し、特に前記表層材付薄肉円筒を用いた、像加熱定着装置の定着ベルト及び搬送ユニットを提供する。 - 特許庁

This antifalsification paper is formed by paper-embedding the band-like security material parallel to and at one end of the base paper and covering at least a part of the security material by a covering layer formed of the same papery substance as that of the base paper in a state that the covering layer having a thickness through which the security material can be seen covers the security material.例文帳に追加

帯状のセキュリティ材料が基紙の一端に平行に抄き込まれ、セキュリティ材料の少なくとも一部が基紙と同一紙質の被覆層で被覆された偽造防止用紙であって、被覆層は、セキュリティ材料を透視可能な厚さで被覆された偽造防止用紙を提供する。 - 特許庁

Of the cathode material for the nonaqueous electrolyte lithium-ion secondary battery made by a lithium compound 3 adhered on the surface of particles 2 consisting of the lithium iron phosphate compound, the adhered lithium compound forms a coated layer of lithium iron phosphate compound particles, with a thickness of the coated layer of 3 to 1,000 nm.例文帳に追加

リチウム鉄リン酸化合物からなる粒子2の表面にリチウム化合物3が添着されてなる非水電解質リチウムイオン二次電池用正極材料であって、添着されたリチウム化合物はリチウム鉄リン酸化合物粒子の被服層を形成しており、前記被覆層の厚さが3〜1000nmである正極材料。 - 特許庁

A laminated film for a wrap film mainly comprises an aliphatic polyamide resin and has a thickness of 5-15 μm and characterized by that the m.p. of aliphatic polyamide constituting at least one surface layer is lower than that of aliphatic polyamide constituting a center layer by 30°C or higher.例文帳に追加

本発明のラップフィルム用積層フィルムは、厚さが5μm以上15μm以下である主に脂肪族ポリアミド樹脂からなるラップフィルム用積層フィルムであって、少なくとも一方の表層を構成する脂肪族ポリアミドの融点が中心層を構成する脂肪族ポリアミドの融点より30℃以上低いことを特徴とするものである。 - 特許庁

In the method of manufacturing the epitaxial wafer by supplying source gas and carrier gas onto the processed wafer to vapor deposit the epitaxial layer, the thickness of the epitaxial layer formed on the periphery of the processed wafer is controlled by controlling the flow rate of the carrier gas to be supplied.例文帳に追加

被処理ウエーハ上に原料ガスおよびキャリアガスを供給してエピタキシャル層を気相成長させることによりエピタキシャルウエーハを製造する方法において、 前記供給するキャリアガスの流量を制御することにより、前記被処理ウエーハの周辺部に形成されるエピタキシャル層の厚さを制御するエピタキシャルウエーハの製造方法。 - 特許庁

A fixed electrostatic capacity is surely induced between the other capacitor electrode layer 3 and the one capacitor electrode layer 2 to make the electrostatic capacitance of the built-in capacitor constant, and the wiring board equipped with the built-in capacitor can be easily reduced in size and thickness.例文帳に追加

他方の容量素子電極層3と一方の容量素子電極層2との間に確実に一定の静電容量を生じさせて内蔵容量素子の静電容量の値を常に一定に維持することができるとともに、容量素子内蔵配線基板の小型化・低背化を容易とすることができる。 - 特許庁

To provide an optical disk having a DVD recording layer, a BD recording layer and a reflection film of an optimum thickness to maintain the high read signal quality when reading bits from the reflection film formed on a mold substrate.例文帳に追加

DVD記録層及びBD記録層を有する光ディスクにおいて、モールド基板上に形成された反射膜についてこの反射膜の側からピットを読み出す場合においても、読み出される信号品質が良好に維持されるように、反射膜の膜厚が最適に設定された光ディスクを提供する。 - 特許庁

A plurality of conductor lines 2 arranged in parallel in a flat cable are covered by a polyvinyl chloride layer 8 forming an insulation layer 4 consisting of insulation sheets 9a, 4b for the flat cable with a thickness of 45 μm or less, which in turn is covered by an outer sheet base material 6.例文帳に追加

本発明のフラットケーブル用絶縁シートは、並設された複数の線状導体2を被覆する絶縁層4を形成するフラットケーブル用絶縁シート9a,9bであって、45μm以下の厚さを有し、線状導体2を固定するポリ塩化ビニル層8と、ポリ塩化ビニル層8を支持するシート状の基材6とを備える。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display and its manufacturing method wherein problems of corrosion of a transparent conduction layer and increase of contact resistance can be solved without generating disadvantage of reduction of step coverage caused by increase of the thickness of a wiring layer itself and generation of an undercut, reduction of productivity and increase of a production cost.例文帳に追加

配線層それ自体の厚さの増加及びアンダーカットの生成に起因するステップカバレッジの低下と、生産性の低下、製造コストの上昇という難点を生じないで、透明導電層の腐食及びコンタクト抵抗の増加という問題を解消できる液晶表示装置と、その製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing dielectronic powder used as a material for a dielectronic layer of a composite electronic component such as a lamination type filter and capable of obtaining a high reliable composite electronic component even when a green sheet constituting the dielectronic layer after firing is made thin in thickness.例文帳に追加

積層型フィルタなどの複合電子部品の誘電体層の材料として用いられ、焼成後に誘電体層となるグリーンシートを薄層化した場合においても、高い信頼性を有する複合電子部品を与えることができる誘電体粉末を製造するための方法を提供すること。 - 特許庁

Moreover, a flat-type solid-oxide fuel cell is formed by forming the solid electrolyte in a flat shape and laminating a plurality of power generation cells, each having the fuel electrode layer formed on one surface of the solid electrolyte and the oxidant electrode layer formed on the other surface thereof, in the plate thickness direction via a separator 2.例文帳に追加

また、固体電解質を平板状に形成して、固体電解質の一方の表面に上記燃料極層を、他方の表面に上記酸化剤極層をそれぞれ形成した発電セルを、板厚方向にセパレータ2を介して複数積層した平板型の固体酸化物形燃料電池とした。 - 特許庁

In the electrophotographic photoreceptor having a conductive support and a plurality of photosensitive layers, is characterized in that the surface layer of the photosensitive layers contains particulates and a degree of light absorption per thickness of 1 μm on the surface layer is 0.05 to 0.25 in respect to the wavelength of 1,000 nm.例文帳に追加

導電性支持体と複数の感光層を有する電子写真感光体において、該感光層の最表面層が微粒子を含有しており、かつ最表面層の膜厚1μm当たりの吸光度が、1000nmの波長に対して0.05以上0.25以下であることを特徴とする電子写真感光体。 - 特許庁

Thickness of the silicon layer 111 and the embedded insulating film 112 is optimized by spectral sensitivity characteristics for light incidence such that the buried insulating film acts as a reflecting film for red light of long wavelength, for example, and the red light is reflected to the photodiode 116 side and accumulated in a charge storage layer.例文帳に追加

シリコン層111及び埋め込み絶縁膜112の膜厚は、光入射に対する分光感度特性によって最適化されており、例えば長波長の赤色光については、埋め込み絶縁膜が反射膜として作用し、フォトダイオード116側に反射して電荷蓄積層に蓄積されるように形成する。 - 特許庁

There plurality of dielectric films include a nitride film SIN and an oxide film SIO on the nitride film, and a charge trap distribution in the film thickness direction of a laminated layer consisting of the nitride film and the oxide film localizes in the region around a structure transition layer formed between the nitride film and the oxide film.例文帳に追加

この複数の誘電体膜が、窒化膜SINと、当該窒化膜上の酸化膜SIOとを含み、窒化膜と酸化膜とからなる積層膜内の膜厚方向における電荷トラップ分布が、当該窒化膜と酸化膜との間に形成された構造遷移層を中心とした領域に局在している。 - 特許庁

The electrode for spot welding of the Sn-based plated sheet steel, includes a metallic layer constituted of Ni or an Ni alloy having a thickness of 1-1,000 μm in the tip end of the electrode tip thereof, wherein a surface roughness Ra of the surface of the metallic layer is 800 nm or less.例文帳に追加

Sn系めっき鋼板のスポット溶接用電極であって、厚さ1μm以上1000μm以下のNi又はNi合金からなる金属層を電極チップ先端に有しており、前記金属層の表面の面粗度Raが800nm以下であることを特徴とする、スポット溶接用電極である。 - 特許庁

When a resin layer 35a to form an optical element array 3 is molded using a transfer die 60, a layer 70 for exfoliation is previously formed on the die 60 by evaporating silicon fast so that a thin film having uniform thickness is formed along the surface 62 etched into an inverted V-shape as contrary to the desired shape.例文帳に追加

転写型60により光学素子アレイ3となる樹脂層35aを成形する際に、予め、転写型60には、所望の形状の逆V字型がエッチングされた表面62に沿って、均等な厚みの薄膜が成膜されるようにシリコンを蒸着して、剥離用の層70を形成しておく。 - 特許庁

A hydrogen-containing amorphous carbon (DLC) film layer is formed on the surface of a probe core material by means of high-frequency plasma chemical vapor deposition method, using a hydrocarbon gas as a source gas to form an electricity-insulating and highly hard protective film layer of a uniform thickness in the microprobe.例文帳に追加

プローブ芯材の表面に、炭化水素ガスをソースガスとして用いた高周波プラズマ化学気相析出法によって水素含有アモルファス状炭素(DLC)膜層を形成することにより、電気絶縁性、かつ高硬度性をもった均一な厚さの保護膜層を形成してなるマイクロプローブを実現できる。 - 特許庁

A magnetic head includes; a metal substrate 18; an amorphous adhesion layer 26 which is formed on the metal substrate 18, has a thickness of less than about 8 Å, and has composition of a carbon-silicon carbide or a carbon-silicon nitride; and a diamond-state carbon film 24 formed on the adhesive layer.例文帳に追加

金属基板18、金属基板上に形成された非晶質接着層26であって、約8Å未満の厚さであり、かつ炭素ケイ素炭化物又は炭素ケイ素窒化物の組成を有する接着層26と、接着層上に形成されたダイヤモンド状炭素被膜24を含む磁気ヘッドを提供する。 - 特許庁

In the order of lamination on an upper surface of a ferrite 20, in both terminal portions of a center electrode 22 in the first layer, electrode thickness is enlarged by charging electrodes 24a, 25a formed within openings 50a, 51a of insulating films 50, 51 formed on the side of an upper surface of both the terminal portions of the center electrode 22 in the first layer.例文帳に追加

フェライト20の上面への積層順で、第1層目の中心電極22の両端部は、第1層目の中心電極22の両端部の上面側に形成された絶縁膜50,51の開口部50a,51a内に形成されている充填電極24a,25aにて電極厚みが厚くなっている。 - 特許庁

To provide an electrode terminal junction ceramic member for semiconductor manufacturing device, such as a wafer-holding body or shower head which is reduced in thickness by using a metallized layer of a high-melting point metal as a heater wiring, an electrode for electrostatic chuck, etc., and in which an electrode terminal is junctioned directly to the metallized layer, without having to use a brazing material solder.例文帳に追加

ヒーター配線や静電チャック用電極などとして高融点金属メタライズ層を用いて厚みを薄くし、その高融点金属メタライズ層にロウ材や半田を用いずに電極端子を直接接合した、ウェハ保持体やシャワーヘッドのような半導体製造装置用の電極端子接合セラミックス部材を提供する。 - 特許庁

An LED chip 10 (semiconductor light-emitting device) includes a semiconductor light-emitting element layer 4 and a porous film 8 formed on a surface of the semiconductor light-emitting element layer 4 on a side of a projection direction (C2 direction) of light, wherein the porous film 8 has a plurality of pores 8 formed extending along the thickness of the film (C1 direction).例文帳に追加

このLEDチップ10(半導体発光装置)は、半導体発光素子層4と、半導体発光素子層4の光の出射方向(C2方向)側の表面上に形成された多孔質膜8とを備え、多孔質膜8は、膜の厚み方向(C1方向)に延びるように形成された複数の細孔8を含む。 - 特許庁

The piezoelectric thin film element 15 has the piezoelectric thin film 14, which includes a layer (first piezoelectric thin film 14a) formed of a polycrystal having a plurality of crystal orientations along the film thickness and a layer (second piezoelectric thin film 14b) formed of a polycrystal having a single crystal orientation.例文帳に追加

圧電体薄膜14を備える圧電体薄膜素子15であって、圧電体薄膜14は膜厚方向に、複数の結晶配向を有する多結晶体で構成された層(第1の圧電体薄膜14a)と、単一の結晶配向を有する多結晶体で構成された層(第2の圧電体薄膜14b)を含むようにした。 - 特許庁

A conductive substrate of thickness of 40 μm or less obtained by molding metal powder by powder rolling method, a hydrogen storage alloy layer formed by pressure bonding hydrogen storage alloy particles on the conductive substrate and a binder exiting on the surface of the hydrogen storage alloy layer are provided.例文帳に追加

金属粉末を粉末圧延法により成形して得られた厚さ40μm以下の導電性基板と、前記導電性基板に水素吸蔵合金粒子を圧着することにより形成された水素吸蔵合金層と、前記水素吸蔵合金層の表面に存在する結着剤とを具備することを特徴とする。 - 特許庁

To provide slide type electronic equipment in which a pair of bodies are connected with each other via a slide mechanism 3 which can easily manage the thickness of a thermo-active adhesive layer 9 when bonding two constituent members linked to the slide mechanism 3 with each other by the thermo-active adhesive layer 9.例文帳に追加

一対の本体がスライド機構3を介して互いにス連結されているスライド式電子機器において、スライド機構3に繋がる2つの構成部材を熱活性接着層9により互いに接合する際に熱活性接着層9の厚さを容易に管理することが出来るスライド式電子機器を提供する。 - 特許庁

The pneumatic tire includes a carcass as a skeleton toroidally structured between a pair of beads having a bead core and a bead filler, wherein the bead filler includes a core rubber and a coating rubber layer disposed in at least a part in contact with the carcass, and the coating rubber layer is softer than the core rubber and has a thickness of 0.1-0.7 mm.例文帳に追加

ビードコアおよびビードフィラーを有する一対のビード部間でトロイダル状に跨るカーカスを骨格とした空気入りタイヤにおいて、前記ビードフィラーは、コアゴムと、少なくとも前記カーカスに接する部分に設けた被覆ゴム層と、からなり、前記コアゴムよりも軟質の前記被覆ゴム層は、その厚さが0.1mm〜0.7mmである。 - 特許庁

There is disclosed a cargo restraining system and a method with its peel strength characteristics being intensified, the restraining system including laminated cargo restraining strips 30 with a layer of an adhesive to adhere the restraining strip 30 to the wall surface of a container 20, the layer of the adhesive having a thickness of approximately greater than about 1.6 and less than 3.0 millimeters.例文帳に追加

剥離強度特性が強化された貨物拘束システムおよび方法であって、拘束システムは、コンテナ20の側壁面に拘束ストリップ30を貼付するための約1.6ミリメートルより大きく、3.0ミリメートルより小さい厚みを有する接着層を含む積層積荷拘束ストリップ30を備える。 - 特許庁

An electrode configured of the aluminum pattern layer is formed on one face of a transparent base material, and the thickness of the oxide coating of aluminum on the opposite side face of at least the transparent base material side of the aluminum pattern layer is set to 13or less so that it is possible to provide an electrode film for a touch panel and a touch panel using the electrode film.例文帳に追加

透明基材の一方の面にアルミニウムパターン層からなる電極が形成されており、該アルミニウムパターン層の少なくとも該透明基材側とは反対側の面のアルミニウムの酸化物皮膜の厚みが13Å以下であるタッチパネル用電極フィルム、及び該電極フィルムを用いたタッチパネル。 - 特許庁

To provide a resin composition capable of unifying the thickness of a B-stage film or a cured product layer, capable of minimizing the surface roughness of the surface subjected to a roughening treatment when the surface of a cured product after curing is subjected to the roughening treatment, and capable of heightening the adhesive strength between the cured product and a metal layer.例文帳に追加

Bステージフィルム又は硬化物層の厚さを均一にすることができ、更に硬化後の硬化物の表面を粗化処理したときに、粗化処理された表面の表面粗さを小さくすることができ、かつ硬化物と金属層との接着強度を高くすることができる樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing an Sn plating material capable of maintaining the thickness of an Sn plating layer over a long period and suppressing the deterioration of solder wetness of the plating material by retarding alloying of Sn with base plating metal and the growth speed of the alloy layer more slowly than heretofore without increase in production cost.例文帳に追加

製造コストの増加を招くことなく、Snと下地めっき金属との合金化や合金層の成長速度を今まで以上に遅くして、Snめっき層の厚さを長期間に亘って維持し、めっき材料のはんだ濡れ性の低下を抑制することが可能なSnめっき材料の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a technique in which the thickness of a skin horny layer is measured with ease and accuracy, at a transmission-reflection method using terahertz wave, the interference phenomenon occurring due to the sandwiching of the skin horny layer as a analyte by a mirror and a silicone is utilized or a metal mesh method using terahertz wave is utilized.例文帳に追加

皮膚角層の厚さを計測する技術であって、テラヘルツ波を用いた透過反射法において、ミラーとシリコンとで検体である皮膚角層を挟むことによって生じる干渉現象を利用する、又は、テラヘルツ波を用いたメタルメッシュ法を利用する、皮膚角層の厚さを簡便且つ精度良く計測する技術に関する。 - 特許庁

To provide a susceptor for supporting a semiconductor substrate in vapor phase epitaxy, improving the planarity of an epitaxial wafer, by controlling the layer thickness of an epitaxial layer on a peripheral part on the main front-surface side of the epitaxial wafer, and to provide a device and a method of manufacturing the epitaxial wafer which uses the susceptor.例文帳に追加

エピタキシャルウェーハ主表面側の周辺部のエピタキシャル層の層厚を制御することによってエピタキシャルウェーハの平坦性を向上させることができる気相成長の際に半導体基板を支持するためのサセプタと、このサセプタを用いたエピタキシャルウェーハの製造装置および製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reactor that effectively reduces vibration transmitted from core materials during reactor driving and noise due thereto and eliminates the need for thickness management on an adhesive layer in a structure having the core materials and a gap plate connected to each other via the adhesive layer, and thereby minutely secures a desired magnetic path length.例文帳に追加

リアクトル駆動時のコア材から伝達される振動やこれに起因する騒音を効果的に緩和することができ、コア材とギャップ板を接着剤層を介して接続する構造の場合における、該接着剤層の厚み管理を不要とでき、もって、所望する磁路長を精緻に確保することのできるリアクトルを提供する。 - 特許庁

In the intermediate transfer belt for the electrophotographic apparatus, the surface of the intermediate transfer belt is a resin layer that has a concavo-convex pattern formed by independent spherical resin particles embedded in the resin layer so that the embedment rate of the spherical resin particles in the thickness direction is higher than 50% but lower than 100%.例文帳に追加

電子写真装置用中間転写ベルトにおいて、該中間転写ベルトの表面が、独立した球形樹脂粒子により、深さ方向に50%を超え100%に満たない埋没率で埋め込まれた粒子によって凹凸形状を形成している樹脂層であることを特徴とする中間転写ベルト。 - 特許庁

例文

In the substrate 50 for loading the semiconductor element wherein plated layers 20, 21 of the predetermined shape are formed on both surfaces of a metal plate 10, the plated layer includes, within a recessed area 12 formed at the front surface of the metal substrate, a protective plated layer 20 is formed at a thickness that is thinner than the depth of the recessed area.例文帳に追加

金属板10の両面に、所定形状のめっき層20、21が形成された半導体素子搭載用基板50であって、 前記めっき層は、前記金属基板の表面に形成された凹部12内に、該凹部の深さよりも薄い厚さで形成された保護めっき層20を含むことを特徴とする。 - 特許庁




  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2026 GRAS Group, Inc.RSS