「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(210ページ目) - Weblio英語例文検索

The positive electrode has a black mix layer formed on at least one surface of its positive electrode collector, and the black mix containing nickel sulfide expressed by NiSy, a conductive substance and a binder is shaped in a thin film so that the black mix layer is formed, wherein the thickness of the positive electrode black mix layer should preferably be 5-200 μm.例文帳に追加

上記正極は正極集電体の少なくとも一方の面に正極合剤層を形成したものであって、上記正極合剤層は一般式ＮｉＳ_y で示されるニッケル硫化物と導電体とバインダーを含む正極合剤を薄膜状に形成したものであることが好ましく、また、その正極合剤層の厚みは５〜２００μｍであることが好ましい。 - 特許庁

The optical recording medium has a recording layer for recording information using holography between the upper substrate and the lower substrate, the recording layer containing at least a polymerizable monomer and a polymerization initiator, of which the contents are distributed so as to increase in the thickness direction of the recording layer, and a manufacturing method of the optical recording medium.例文帳に追加

上側基板と、下側基板との間に、ホログラフィを利用して情報を記録する記録層を有する光記録媒体において、前記記録層が少なくとも重合性モノマー及び重合開始剤を含有し、かつ該重合性モノマーの含有量及び重合開始剤の含有量が前記記録層の厚み方向に分布を有する光記録媒体及び該光記録媒体の製造方法である。 - 特許庁

The solar cell comprises a first electrode film, a photoelectric conversion layer and a second electrode film laminated one above another on one side of a transparent board, partial lacks formed into the second electrode film and the photoelectric conversion layer, and transparent members of the same thickness as or larger than that of the photoelectric conversion layer are formed at the partial lacks.例文帳に追加

本発明の太陽電池は、透光性の基板片面に第１電極膜／光電変換層／第２電極膜を順次積層され、部分的欠落部が該第２電極膜および光電変換層に設けられている太陽電池であって、該欠落部の位置に、光電変換層の厚みと同等かそれ以上の厚みで透明部材が形成されていることを特徴とする太陽電池。 - 特許庁

The method for manufacturing the epitaxial wafer, wherein the thickness of the epitaxial layer formed in the surrounding region of a silicon wafer is controlled by controlling a growth speed and/or a growth temperature of the epitaxial layer of which vapor-phase epitaxy is achieved, in the method for manufacturing the epitaxial wafer by supplying a raw material gas onto the silicon wafer to achieve vapor-phase epitaxy of the epitaxial layer.例文帳に追加

シリコンウエーハ上に原料ガスを供給してエピタキシャル層を気相成長させることによりエピタキシャルウエーハを製造する方法において、前記気相成長させるエピタキシャル層の成長速度及び／又は成長温度を制御することにより、前記シリコンウエーハの周辺部に形成されるエピタキシャル層の厚さを制御することを特徴とするエピタキシャルウエーハの製造方法。 - 特許庁

To reduce the thickness unevenness on the outer peripheral side of a light transmission layer while suppressing the complication of manufacturing processes and a manufacturing device to the minimum when manufacturing an optical information medium, which has an information recording surface on the surface of a substrate and the light transmission layer on the information recording surface and is irradiated with laser beams for recording or reproduction through the light transmission layer.例文帳に追加

支持基体表面に情報記録面を有し、この情報記録面上に光透過層を有し、この光透過層を通して記録または再生用のレーザー光が照射される光情報媒体を製造するに際し、製造工程および製造装置の複雑化を最小限に抑えた上で、光透過層の外周側の厚さむらを小さくすること。 - 特許庁

The optical laminate of the present invention has a base film having an in-plane retardation Re of 10 nm or less, a thickness direction retardation Rth of 15 nm or less and a light transmittance of 15% or less in a wavelength of 380 nm; and an intermediate layer containing a urethane resin and being formed on the base film; and a surface treatment layer formed on the intermediate layer.例文帳に追加

本発明の光学積層体は、面内位相差Ｒｅが１０ｎｍ以下であり、厚み方向位相差Ｒｔｈが１５ｎｍ以下であり、かつ、波長３８０ｎｍにおける光の透過率が１５％以下である基材フィルムと；基材フィルム上に形成された、ウレタン樹脂を含む中間層と；中間層上に形成された表面処理層と；を有する。 - 特許庁

In the biosensor which keeps a first hydrophilic polymer layer fixed on the self-assembled membrane formed on the surface of a metal substrate, the first hydrophilic polymer layer is covered with a second hydrophilic polymer layer with an on-drying film thickness of 20-100 nm of the sum total of the first and second hydrophilic polymer layers.例文帳に追加

金属基板の表面上に被覆した自己組織化膜の上に、第一の親水性高分子層が固定されているバイオセンサーにおいて、前記第一の親水性高分子層の上に第二の親水性高分子層が被覆されており、前記第一の親水性高分子層及び前記第二の親水性高分子層の合計の乾燥時の膜厚が20nm以上100nm以下であることを特徴とするバイオセンサー。 - 特許庁

The manufacturing method of another embodiment of the LED package includes steps of forming the fluorescent layer with a predetermined thickness; forming the fluorescent grid structure in the ink-jet processing which uses an ink with the fluorescent powder contained therein, on the fluorescent layer; and arranging the fluorescent layer on which the fluorescent grid structure has been formed, on the LED chip.例文帳に追加

また、本発明は所定の厚さを有する蛍光層を形成する段階と、前記蛍光層上に蛍光体粉末が含まれたインクを使用するインクジェット工程により格子構造の蛍光体を形成する段階、前記格子構造の蛍光体が形成された蛍光層をＬＥＤチップ上部に配置する段階を含むＬＥＤパッケージの製造方法を提供する。 - 特許庁

The epitaxial layer 2 which is uniform in second impurity concentration in the direction of its depth (thickness) is formed on a silicon semiconductor wafer 1 kept in first impurity concentration, then the semiconductor wafer 1 is subjected to a thermal treatment to make the concentration distribution of impurities contained in the epitaxial layer 2 slope from a first impurity concentration to a second impurity concentration in the direction of depth of the epitaxial layer 2.例文帳に追加

第１不純物濃度のシリコンからなる半導体ウエハ１上に、エピタキシャル層２の深さ（厚さ）方向において均一に第２不純物濃度のエピタキシャル層２を形成した後、半導体ウエハ１を熱処理して、エピタキシャル層２の深さ方向において、エピタキシャル層２の不純物濃度分布を、第１不純物濃度から第２不純物濃度へ傾斜させる。 - 特許庁

After forming a wiring electrode 1 on the upper surface of an aluminum substrate 3 while interposing a seed metal layer 4, anodization is performed according to the time corresponding to the width of a predetermined wiring electrode 1 thus obtaining a circuit board in which an alumite layer of a predetermined thickness is formed entirely on the upper layer of the aluminum substrate 3 including the lower part of the wiring electrode 1.例文帳に追加

アルミニウム基板３の上面にシードメタル層４を介して配線電極１を形成した後、所定の配線電極１の幅に対応した時間に応じて陽極酸化処理を行うことにより、配線電極１の下部も含めて、アルミニウム基板３の上層部全域に所定の厚みのアルマイト層を形成した回路基板であることを特徴とする。 - 特許庁

The polarizing plate includes a transparent protective film bonded to at least one side of a polarizer with an adhesive layer interposed therebetween, wherein the adhesive layer is formed from an active energy ray curing adhesive containing at least one kind of curable component, and the adhesive layer has a (Tg) of ≥60°C and a thickness of 0.01-7 μm.例文帳に追加

偏光子の少なくとも一方の面に、接着剤層を介して透明保護フィルムが設けられている偏光板であって、接着剤層は、少なくとも１種の硬化性成分を含有する活性エネルギー線硬化型接着剤により形成されており、接着剤層のＴｇが、６０℃以上であり、かつ、接着剤層の厚みが、０．０１〜７μｍであることを特徴とする偏光板。 - 特許庁

The sliding member is characterized by having a substrate, a gradient layer having at least one element selected from silicon, tungsten, chromium and titanium, and carbon and formed on the surface of the substrate in such a state that the content ratio of the carbon is reduced as it advances from the surface to the substrate direction in the thickness direction and the DLC layer formed on the surface of the gradient layer.例文帳に追加

本発明の摺動部材は、基材と、ケイ素、タングステン、クロムおよびチタンより選ばれる少なくとも一種の元素と、炭素と、を有し、厚さ方向を表面から基材方向に進むにつれて炭素の含有割合が減少した状態で基材の表面に形成された傾斜層と、傾斜層の表面に形成されたダイヤモンドライクカーボン層と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

This hydrogen storage alloy containing Fe and Ni, without containing Co as constituting elements, having double layer structure of a surface layer 1 with lower Fe concentration than that on the inside of the alloy by surface modification, wit thickness 100-2000Å and abase alloy layer 2 is used, and thereby, the hydrogen storage alloy for a nickel-hydrogen storage battery with a low price and high discharge characteristics can be obtained.例文帳に追加

構成元素としてＣｏを含有せず、ＦｅとＮｉを含有し、表面改質により、Ｆｅ濃度が合金内部のそれよりも低く、厚みが１００〜２０００Åである表面層と母合金層との二層構造を有する水素吸蔵合金を用いることにより、安価で、放電特性に優れるニッケル−水素蓄電池用水素吸蔵合金を得られる。 - 特許庁

In the magnetic recording medium in which a long polymer film substrate or a polymer flexible substrate is formed, an underlayer having <10 nm film thickness is formed on the substrate, and a magnetic layer which comprises the spinel iron oxide thin film composed essentially of maghemite is formed on the under layer, the magnetic recording layer has ≥159 kA/m (2,000 Oe) coercive force.例文帳に追加

長尺状の高分子フィルム基体又は高分子フレキシブル基体と、該基体上に膜厚が１０ｎｍ未満の下地層を形成し、該下地層上に形成されたマグヘマイトを主成分とするスピネル酸化鉄薄膜からなる磁気記録層を用いた磁気記録媒体において、前記磁気記録層の保磁力が１５９ｋＡ／ｍ（２０００Ｏｅ）以上である磁気記録媒体である。 - 特許庁

In this liquid crystal display device adopting a vertical alignment mode using a liquid crystal layer of vertical alignment in the initial alignment state, a reflection display region R encloses the surroundings of a transmission display region T in one dot and an insulation layer 21 for adjusting the thickness of liquid crystal layer is provided the region corresponding to the reflection display region R of the dot peripheral part.例文帳に追加

本発明の液晶表示装置は、初期配向状態が垂直配向の液晶層を用いた垂直配向モードを採用しており、１つのドット内で反射表示領域Ｒが透過表示領域Ｔの周囲を取り囲んで設けられ、液晶層厚を調整するための絶縁膜２１が、ドット周縁部の反射表示領域Ｒに対応する領域に設けられている。 - 特許庁

The electrode is one forming a counter electrode with respect to a working electrode positioned holding at least partly an electrolyte layer in between, and a side of the counter electrode which contacts with the electrolyte layer is constituted of a porous carbon member at least, and voids in the porous carbon member become larger in the thickness direction, the nearer they approach the electrolyte layer.例文帳に追加

本発明に係る電極は、作用極に対して、少なくとも一部に電解質層を挟んで配置される対極をなす電極であって、前記対極は、前記電解質層と接する側が少なくとも多孔質カーボン部材から構成され、前記多孔質カーボン部材に内在する空隙が、その厚さ方向において、前記電解質層に近づくほど大きいことを特徴とする。 - 特許庁

When a coat layer containing a platinum catalyst is formed on a surface of the monolithic filter by coating, the concentration of the platinum catalyst in the coat layer from an upstream end to a downstream end of a part of an exhaust passage cross-section of the monolithic filter is increased compared with the other part to increase the contact probability between the exhaust particulate and the platinum catalyst per unit thickness of the coat layer.例文帳に追加

モノリスフィルタの表面に白金触媒を含有させたコート層を被覆形成する際、モノリスフィルタの排気通路断面の一部分について、その上流端から下流端までを、他部分と比較して、前記コート層の単位厚さ当たりでの排気微粒子と白金触媒との接触確率を高くするため、前記コート層中の白金触媒の濃度を高くする。 - 特許庁

The semiconductor apparatus comprises a semiconductor substrate 21, an interlayer dielectric 23 formed on the semiconductor substrate and having a contact hole opening to the semiconductor substrate, a metal wiring layer 13 having one end connected with the contact hole and the other end constituting a bonding pad, and an adhesion layer 31 of Ti having a thickness of 5-500 Å provided between the interlayer dielectric and the metal wiring layer.例文帳に追加

半導体基板２１と、該半導体基板上に形成され、該半導体基板へのコンタクトホールが開口された層間絶縁膜２３と、一端が前記コンタクトホールに接続され、他端がボンディングパッドを構成する金属配線層１３と、前記層間絶縁膜と金属配線層との間に設けられ、厚さが５〜５００〔Å〕のＴｉから成る密着層３１とを有する。 - 特許庁

The photopolymeric resin laminate is manufactured by forming a photopolymeric resin composition containing a resin for a binder which is a specific linear polymer, a photopolymerizable unsaturated compound and a specific photopolymerization initiator as a photopolymeric resin layer and using a base layer having a film thickness of ≥10 to ≤30 μm, a haze of ≥0.01 to ≤1.5% as a base layer.例文帳に追加

特定の線状重合体であるバインダー用樹脂、光重合可能な不飽和化合物及び特定の光重合開始剤を含む光重合性樹脂組成物を光重合性樹脂層とし、支持体層として膜厚が１０μｍ以上３０μｍ以下、ヘーズを０．０１％以上１．５％以下であるものを用いて光重合性樹脂積層体を製造する。 - 特許庁

The color filter for a liquid crystal display including a transmission region and a reflection region includes a transparent resin layer between a substrate and a coloring layer in the reflection region, and at least one color pixel different in a coloring layer film thickness of the reflection region and the transmission region and having an opening region in the reflection region.例文帳に追加

透過用領域と反射用領域を含むカラーフィルターであって、反射用領域において基板と着色層の間に透明樹脂層を有し、反射用領域と透過用領域の着色層膜厚が異なり、かつ反射用領域には開口領域を有する少なくとも１色の画素を含むことを特徴とする液晶表示装置用カラーフィルター。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a roller for OA equipment, a method which improves heat conductivity by making thinner the thickness of a surface layer made of a fluororesin layer, which excels in mold releasability as well as prevents deterioration of a rubber layer, and which has no sticking of foreign objects on the inner face of a cylindrical mold if it is used, and also to provide a roller for OA equipment.例文帳に追加

フッ素樹脂層からなる表層の厚みを薄くして熱伝導性の向上を図ることができ、更に離型性にも優れ、しかも、ゴム層の劣化を防止することができると共に円筒状金型を用いた場合であっても円筒状金型の内面に異物が付着することのないＯＡ機器用ローラーの製造方法及びＯＡ機器用ローラーを提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus of an organic electroluminescence display device with a sufficient luminance and an excellent utility by forming an EL layer in a uniform thickness to achieve effective electroluminescence of pixel openings using an ink jet method, and to provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus of a color filter with an excellent utility performing a uniform photocoloration at pixel openings by forming a colorant layer in a uniform thickness.例文帳に追加

ＥＬ層を均一膜厚に形成して、画素開口部を有効に発光させ、十分な輝度で実用性に優れた有機ＥＬ表示装置をインクジェット法によって製造する方法及び製造装置を提供し、また、色素層を均一膜厚に形成して、画素開口部で均一な色調の光着色を行なう実用性に優れたカラーフィルターをインクジェット法によって製造する方法及び製造装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The proton conductive electrolyte film 4 has a plurality of acid polymer layers 4a and a plurality of base polymer layers 4b alternately laminated, with the number of superposition of the polymer chains in a thickness direction per acid polymer layer 4a set at less than 10 as well as with the number of superposition of the polymer chains in a thickness direction per base polymer layer 4b set at less than 10.例文帳に追加

複数の酸性ポリマー層４ａと複数の塩基性ポリマー層４ｂとがそれぞれ交互に積層されてなり、各酸性ポリマー層４ａの一層当たりの高分子鎖の厚み方向の重なり数が１０未満に設定されるとともに、各塩基性ポリマー層４ｂの一層当たりの高分子鎖の厚み方向の重なり数が１０未満に設定されていることを特徴とする燃料電池用のプロトン伝導性電解質膜４を採用する。 - 特許庁

Based on the viewpoint of the restriction on the hardness and the form of the rubber plates in the aforementioned spring structure, since the physical characteristics of the spring structure can be determined by way of specific factors including hardness, elastic modulus, the thickness of each rubber plate layer “t,” the ratio “D/t” (primary form ratio) between the thickness “t” and the diameter “D” of each rubber plate, and the ratio “D/h” (secondary form ratio) between the total thickness “h” and the diameter “D” of the rubber plates, after having conducted various experiments on trial samples, the inventors eventually discovered the practical extent of the factors above to which the aforementioned object could be achieved. 例文帳に追加

上記構成におけるゴム硬度並びに形状規制は、バネ構体の性質が、ゴムの硬度、弾性率、ゴム板一層の暑さt、ゴム板の厚さtと直径Dとの比D/t（一次形状率）、ゴム板の総厚hと直径Dとの比D/h（二次形状率）等によって決定されることに着目し、各種試作例に対する実験によって、上記目的が達成される範囲を調べた結果見出したものである。 - 特許庁

The thin-film transistor, having a semiconductor layer having a source region and a drain region across a channel region, the thin-film transistor such that at least either the source region or the drain region has a region having a small film thickness than that of the channel region and preferably, has a region with a large film thickness and a region with a small film thickness in the region.例文帳に追加

チャネル領域を挟んでソース領域とドレイン領域とを有する半導体層を備える薄膜トランジスタであって、上記ソース領域及びドレイン領域の少なくとも一方の領域は、チャネル領域よりも膜厚の薄い領域を有する薄膜トランジスタであり、好ましくは、上記ソース領域及びドレイン領域の少なくとも一方の領域は、該領域内で膜厚の厚い領域と膜厚の薄い領域とを有する薄膜トランジスタである。 - 特許庁

Moreover, by forming a photoelectric conversion layer into the eddy shape or a concentric shape to make into the plate shape as a whole, the photoelectric conversion element introduces light from the direction which intersects this plate, and varies gradually and/or continuously the wavelength of light convertible in the photoelectric conversion layer in the thickness direction of the plate.例文帳に追加

また、光電変換層を渦巻き状または同心形状に形成し、全体として板状の形状とし、この板に交差する方向から光を入射させる光電変換素子であって、その板の厚さ方向に光電変換層の光電変換可能な光の波長が段階的および／または連続的を変化させる。 - 特許庁

To reduce stress applied to a developer in a developer residence layer formed near a developer layer thickness regulating member on the upstream side of a developer conveyance direction and to improve the stability of a charge amount of a toner and the durability of the developer, in an image forming apparatus in which magnetic brush development is carried out.例文帳に追加

磁気ブラシ現像を行う画像形成装置において、現像剤層厚規制部材の現像剤搬送方向上流側近傍に生じる現像剤滞留層で現像剤にかかるストレスを軽減し、トナー帯電量の安定性と現像剤の耐久性を向上させることができるようにする。 - 特許庁

To provide a positive photoresist for near-field exposure having good light efficiency and capable of reducing pattern edge roughness even in the case of a small thickness of an image forming photoresist layer and to provide a photolithography method characterized in including a step for exposing an image forming photoresist layer formed using the photoresist by near-field exposure.例文帳に追加

像形成用フォトレジスト層の層厚が小さくても光効率が良く、パターンエッジラフネスが低減できる近接場露光用のポジ型フォトレジストおよびこれを用いて形成した像形成用フォトレジスト層を近接場露光により露光する工程を含むことを特徴とする、光リソグラフィ方法を提供する。 - 特許庁

The flexible metal-laminated film 100 includes a polymer film 110, the thin copper foil 120 which contacts the polymer film on one surface and is thinned by etching the opposite surface, and a metallic layer 130 formed on the copper foil to have such a thickness that the layer can decrease the surface roughness of the etched copper foil.例文帳に追加

ポリマーフィルム１１０と、一面において前記ポリマーフィルムが接合し、反対面においてエッチングにより厚みが薄くなった銅箔１２０と、前記エッチングによる前記銅箔の表面粗度を低減することができる厚みで前記銅箔上に形成された金属層１３０とを含む軟性金属積層フィルム１００。 - 特許庁

A laminated polyester film of thickness 20 to 300 μm having at least one polyester layer containing micro-bubbles is an optical laminated polyester film which has a coating layer on one surface of the lamination polyester film, whose haze is within 5 to 40%, and whose total light transmittance is ≥80%.例文帳に追加

微細気泡含有ポリエステル層を少なくとも１層有する、厚み２０〜３００μｍの積層ポリエステルフィルムであり、当該積層ポリエステルフィルムの片面に塗布層を有し、ヘーズが５〜４０％の範囲であり、全光線透過率が８０％以上であることを特徴とする光学用積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁

To provide a liquid crystal device which is capable of obtaining good contrast characteristics even if a liquid crystal having a negative dielectric anisotropy is used and a retardation difference between a transmissive display region and a reflective display region is resolved by a layer thickness adjustment layer, and an electronic apparatus provided with this liquid crystal device.例文帳に追加

負の誘電率異方性を備えた液晶を用い、かつ、層厚調整層によって透過表示領域および反射表示領域のリタデーションの差を解消した場合でも、良好なコントラスト特性を得ることのできる液晶装置、およびこの液晶装置を備えた電子機器を提供すること。 - 特許庁

Since a resin reaction layer 14A can be formed by a resin overcoat selectively only on the surfaces of microlenses 13A with respect to the surface comprising the microlenses 13A and a microlens base film (flattening film 12), a microlens edge gap can be effectively reduced as much as twice the film thickness of the resin reaction layer 14A.例文帳に追加

マイクロレンズ１３Ａおよびそのマイクロレンズ下地膜（平坦化膜１２）によって構成される表面に対して、選択的にマイクロレンズ１３Ａの表面にのみ樹脂オーバーコートによる樹脂反応層１４Ａの形成が可能となるため、実効的に樹脂反応層１４Ａの膜厚の２倍分のマイクロレンズエッジギャップの縮小ができる。 - 特許庁

An insulation film 4 is provided for one plane of a first semiconductor layer 1 including a first oxide semiconductor (for example, indium oxide) with a thickness of 0.1-100 nm mainly including indium, and a second semiconductor layer 2 including a second oxide semiconductor (for example, gallium oxide) of I type is provided in contact with the other plane.例文帳に追加

インジウムを主要成分とする、厚さ０．１〜１００ｎｍの第１の酸化物半導体（例えば、酸化インジウム）よりなる第１の半導体層１の一方の面に絶縁膜４を設け、他の面に接して、Ｉ型の第２の酸化物半導体（例えば、酸化ガリウム）よりなる第２の半導体層２を設ける。 - 特許庁

The hollow waveguide has a metallic pipe 2 constituting a waveguide and a dielectric layer 3 internally provided on the inner wall of the pipe 2, and cyclic polyolefin polymer having transparent thickness in the wavelength band of an ultraviolet region or an infrared region of ≥2μm wavelength, and having ≤0.01% water absorption is used for the dielectric layer 3.例文帳に追加

導波路を構成する金属パイプ２と、金属パイプ２の内壁に内装された誘電体層３を有し、誘電体層３は、紫外領域または波長２μｍ以上の赤外領域の波長帯で透明な厚さを有し、かつ、その吸水率が０．０１％以下の環状オレフィンポリマーを用いた。 - 特許庁

An heat-generating element 5 made of a semiconductor with conductivity by adding impurities such as zinc and tin is applied to a metal foil F made of stainless steel at thickness of nearly 3-7 μm, and a layer of heat-generating elements 5 is formed on the metal foil F by recrystallizing the layer by firing it at 800-1,200°C during a designated period.例文帳に追加

亜鉛、錫等の不純物を添加して導電性を具備した半導体からなる発熱素子５をＳＵＳからなる金属箔Ｆに３〜７μｍ程度の厚さに塗布し、８００〜１２００℃で所定時間焼成して再結晶化させ、金属箔Ｆ上に発熱素子５の層を形成する。 - 特許庁

The half of the wires and the other half of the wires are arranged in two upper and lower levels in the thickness direction of the sensor, an insulating layer is interposed between the half of the wires and the other half of the wires, and the other half of the wires are guided to the upper level via a through hole h1 formed in the insulating layer.例文帳に追加

前記半数の配線と他の半数の配線は、センサ厚み方向に上下二段に配列されており、半数の配線と他の半数の配線との間には絶縁層を介在させてあると共に他の半数の配線は絶縁層に形成したスルーホールｈ１を介して上段に導いてある。 - 特許庁

In a magnetic recording medium having a magnetic layer mainly consisting of the above ferromagnetic metal powder and a bonding agent, on a support, the magnetic recording medium is characterized by having 0.04-0.25 μm of the magnetic layer thickness, and 10% or less of demagnetization after being stored for one week at 60°C in 90% RH.例文帳に追加

支持体上に上記強磁性金属粉末と結合剤を主体とする磁性層を設けてなる磁気記録媒体において、該磁性層の厚みが０．０４〜０．２５μｍであり、かつ６０℃９０％ＲＨに１週間保存後の減磁が１０％以内であることを特徴とする磁気記録媒体。 - 特許庁

A thin plate type developing blade 6 whose thickness is ≤0.2 mm is supported by a developing case 17, and the free end side of the blade 6 abuts on the outer peripheral surface of the developing roller 5 so as to make the toner carried on the roller 5 a thin layer, and the thin toner layer is stuck by the roller 5, whereby an electrostatic latent image on a photoreceptor is visualizable.例文帳に追加

現像ケース１７で厚さ0.2mm以下の薄板状の現像ブレード６を支持してその現像ブレード６の自由端側を現像ローラ５の外周面に当接し、その現像ローラで担持するトナーを薄層化してその薄層化したトナーを同現像ローラ５で付着して感光体上の静電潜像を可視像化する。 - 特許庁

The magnetic recording medium has a nonmagnetic layer formed through application of a nonmagnetic coating material, prepared by dispersing at least nonmagnetic powder and carbon black in a binder on at least one surface of a nonmagnetic supporting body, and has a magnetic layer with ≤0.5 μm dry film thickness prepared by dispersing ferromagnetic powder in a binder, on at least one surface of a nonmagnetic supporting body.例文帳に追加

非磁性支持体の少なくとも一方の面上に、少なくとも非磁性粉末とカーボンブラックとをバインダー中に分散してなる非磁性塗料を塗布した非磁性層を介して、強磁性粉末をバインダー中に分散してなる乾燥厚み０．５μｍ以下の磁性層を有する磁気記録媒体である。 - 特許庁

When the second layer is molded, the core is advanced or retracted in the direction of the mold cavity by a driver such as a hydraulic cylinder or the like to change the thickness dimension of the rising surface part of the mold cavity to mold the multi-layer molded product different in its shape between first and second layers of a resin.例文帳に追加

第２層を成形する際においては、油圧シリンダ等の駆動機により、入れ子を金型キャビティ方向に前進又は後退させて金型キャビティの立ち面部分の厚み寸法を変化させることにより、１層目と２層目で成形した樹脂の成形品の形状が異なった多層成形品を成形する。 - 特許庁

(2) The polyolefin multilayer shrink film including at least two or more layers is prepared by laminating a surface layer made of a polypropylene or polyolefin resin and an inner layer containing titanium oxide or a mixture of titanium oxide and carbon black so as to have a thickness of at least 1 μm or more, and stretching the layers vertically and horizontally by three times or more.例文帳に追加

（２）ポリプロピレン系又はポリオレフィン系樹脂からなる表面層と、酸化チタン又は酸化チタンとカーボンブラックの混合物を含んだ内部層を少なくとも１μm以上積層し、縦横それぞれ３倍以上に延伸した、少なくとも２層以上からなるポリオレフィン系多層シュリンクフィルムである。 - 特許庁

To provide a nitride semiconductor light emitting device with a high reliability and a high productive efficiency which doesn't need any short of a pn junction like a metallic adhesion layer and any thickness control nature for suppressing a light absorption and is obtained by an adhesion layer for raising an adhesiveness between a resonator end surface and an end surface coat film.例文帳に追加

金属の密着層のようにｐｎ接合のショートおよび光の吸収を抑制するための膜厚制御性を必要とせず、かつ共振器端面と端面コート膜の密着性を向上させる密着層により、信頼性、生産効率の高い窒化物半導体発光素子を提供することである。 - 特許庁

Since the cobalt-containing ferromagnetic layer 23 is formed thicker than 1 nm, the resistance variation and the resistance variation ratio can be improved while the thickness of the nickel-containing ferromagnetic layer 22 is in the range of 1 nm or less, and hence it can be adapted for high recording density by increasing the output.例文帳に追加

コバルト含有強磁性層２３の厚さを１ｎｍより厚くすることにより、ニッケル含有強磁性層２２の厚さが１ｎｍ以下の範囲において、抵抗変化量および抵抗変化量を改善することができ、従って、出力を大きくして高記録密度化に対応することが可能になる。 - 特許庁

Therefore, photoresist is applied onto the top surface of the polycrystalline silicon layer 6 and then exposed to light for the formation of a resist pattern conforming to the resistor 22, where the top surface of the polycrystalline silicon layer 6 is flat, and the photoresist film can be set uniform in thickness, so that the influence of a standing wave effect becomes uniform, and a resist pattern can be set uniform in width.例文帳に追加

このため、多結晶シリコン層６の上面にフォトレジストを塗布させ、フォトレジストを露光して抵抗素子２２に応じたレジストパターンを形成させるが、多結晶シリコン層６の上面は平坦でフォトレジストの膜厚を均一にできるので、定在波効果の影響が均一になり、レジストパターンの幅を均一にできる。 - 特許庁

A silicon epitaxial layer for which the thickness of the periphery is smaller than a center part, is formed on a substrate and the surface of the silicon epitaxial layer is polished by using an abrasive 30, for which a flexible plate body 33 composed of a thin hard plate is adhered and laminated between a sheet-like foamed body 32 by a soft rubber-like elastic body and a polishing cloth 34.例文帳に追加

基板上に周辺部の厚さが中心部よりも薄いシリコンエピタキシャル層を形成し、軟質ゴム状弾性体によるシート状発泡体３２と研磨布３４との間に硬質薄板からなる可撓性板体３３を接着積層した研磨部材３０を用いて、前記シリコンエピタキシャル層の表面を研磨する。 - 特許庁