「pattern design system」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

METHOD FOR CORRECTING PATTERN, PATTERN CORRECTING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PATTERN CORRECTING PROGRAM AND DESIGN PATTERN例文帳に追加

パターン補正方法、パターン補正システム、マスク製造方法、半導体装置製造方法、パターン補正プログラム、及び設計パターン - 特許庁

PATTERN DESIGN SIMULATION SYSTEM, SERVER USED FOR PATTERN DESIGN SIMULATION SYSTEM, PATTERN DESIGN SIMULATION METHOD AND PROGRAM, COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM WITH PROGRAM RECORDED THEREON AND OUTPUTTED PRODUCT例文帳に追加

柄デザインシミュレーションシステム及び柄デザインシミュレーションシステムに用いるサーバ及び柄デザインシミュレーション方法並びにプログラム及びプログラムを記録したコンピュータに読み取り可能な記録媒体及び出力物 - 特許庁

The printing system provided with a printer driver 13 having a design pattern image generating function includes an attaching range particularizing module 14 for particularizing an attaching range of the design pattern image, and a design pattern image generating module 15 for generating the design pattern image of the particularized range.例文帳に追加

地紋画像作成機能を有するプリンタドライバ１３を備えた印刷システムにおいて、地紋画像の付加範囲を特定する付加範囲特定モジュール１４と、特定された範囲の地紋画像を作成する地紋画像作成モジュール１５とを備えるようにした。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, DESIGN SUPPORT SOFTWARE SYSTEM, AND AUTOMATIC TEST PATTERN GENERATION SYSTEM例文帳に追加

半導体集積回路、設計支援ソフトウェアシステム、および、テストパターン自動生成システム - 特許庁

AUTOMATIC PATTERN GENERATION SYSTEM, METHOD AND EQUIPMENT DATA AUTOMATIC DISTRIBUTION SYSTEM FOR AUTOMATIC DESIGN DEVICE例文帳に追加

自動絵柄作成システム及び方法、並びに自動設計装置用設備機器データ自動配信システム - 特許庁

PATTERN TEACHING SYSTEM, PATTERN IDENTIFICATION DEVICE USING THE SAME, COMPUTER PROGRAM, AND DIGITAL LOGIC CIRCUIT DESIGN METHOD FOR PATTERN IDENTIFICATION DEVICE例文帳に追加

パターン教示システム、それを用いたパターン識別装置、コンピュータプログラム及びパターン識別装置のデジタル論理回路設計方法 - 特許庁

To provide a wiring design system allowing relatively reasonable wiring design, and capable of creating a reasonable and high-density wiring pattern in a single-layer board.例文帳に追加

より合理的な配線設計を可能とし、単一層の基板において、合理的で且つ高密度な配線パターンの作成を可能とする。 - 特許庁

Circuit design data of a circuit pattern of an array substrate is inputted into a CAD system.例文帳に追加

ＣＡＤシステムにアレイ基板の回路パターンの回路設計データを入力する。 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR DESIGN RULE CHECKING ENHANCED WITH PATTERN MATCHING例文帳に追加

パターンマッチングを有する改良されたデザインルール検査のための方法及びシステム - 特許庁

ELECTRON BEAM LITHOGRAPHY SYSTEM, BEAM PATTERN LIMITING APERTURE, AND DESIGN METHOD THEREOF例文帳に追加

電子ビーム描画装置並びにビームパターン限定アパーチャ及びその設計方法 - 特許庁

To provide a lithography correcting system which forms a resist pattern nearer to design dimensions for forming the resist pattern crossing perpendicularly to a pattern on a substrate having steps.例文帳に追加

段差を有する基板上のパターンと直交するレジストパターンを形成する場合に、設計寸法により近いレジストパターンを形成可能なリソグラフィ補正システムを提供する。 - 特許庁

Consequently, the design efficiency of a pattern can be improved, as compared to a system of correcting each data representing each pattern element of a basic pattern part one by one by an operator.例文帳に追加

その結果、基礎パターン部の各パターン要素を示すデータを作業者が１つずつ補正する場合に比べて、パターンの設計効率を向上することができる。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR EXPOSING CIRCUIT PATTERN, PHOTOMASK USED THEREIN, DESIGN METHOD OF THE SAME, ILLUMINATION SYSTEM AND ITS EMBODIMENT METHOD例文帳に追加

回路パターンの露光のための装置及び方法、使用されるフォトマスク及びその設計方法、そして照明系及びその具現方法 - 特許庁

This system, this method and this computer program for analyzing circuit design provide a means for discretizing a circuit pattern into a series of pixels.例文帳に追加

回路設計を解析するためのシステム、方法およびコンピュータ・プログラムは、回路パターンを一連の画素に離散化する手段を提供する。 - 特許庁

Interference pattern information 17 is outputted by a pattern matching verification system 15, and the interference pattern information 17 and design rules 11 are compiled to extract design rules to be applied to the interference pattern information 17, by a physical verification system 16, and design rules are referred to verify the design rules between a comparison cell list 13 and the interference pattern information 17.例文帳に追加

パターンマッチング検証システム１５によって干渉パターン情報１７が出力され、物理検証システム１６によって、干渉パターン情報１７とデザインルール１１とがコンパイルされることによって干渉パターン情報１７に適用されるデザインルールが抽出され、デザインルールを参照して、比較セルリスト１３と干渉パターン情報１７との間にてデザインルールの検証が行われる。 - 特許庁

To provide an SEM system for length measurement capable of high-accuracy and precise OPC (optical proximity correction) evaluation which is important from now on with advancement in a finer semiconductor design pattern, and to provide an evaluation system for a circuit pattern feature and a method therefor.例文帳に追加

半導体設計パターンの微細化に伴い今後重要となる高精度かつ詳細なＯＰＣ評価が可能とした測長ＳＥＭシステム並びに回路パターン形状の評価システム及びその方法を提供することにある。 - 特許庁

The optimization method creates equipment information on such pieces of equipment constituting the system and a design values table X including operating pattern information per time zone of a specified equipment as well as a neighborhood value table X' of those design values table X.例文帳に追加

本最適化方法では，システムを構成する機器の機器情報およびその機器の時間帯ごとの運転パターン情報を含む設計値テーブルＸと，その設計値テーブルＸの近傍値テーブルＸ’が作成される。 - 特許庁

To provide a sequence design support system for supporting efficient sequence design by improving an automation rate in preparing a valve pattern drawing used for original data of a sequence control program.例文帳に追加

シーケンス制御プログラムの元データとなるバルブパターン図の作成について自動化率を高め、それによりシーケンス設計をより効率的に行えるように支援するシーケンス設計支援システムの提供。 - 特許庁

To provide a CAM design system capable of automating and automatically checking a series of manual operation such as an optimum blank layout, a test pattern design, a correction of a change in dimension, a confirmation of a manufacturing constraint, and a writing of a manufacturing work instruction or the like.例文帳に追加

板取の最適レイアウト、テストパターン設計、寸法変化の補正、製造上の制約確認、製造作業指示書の作成など、一連の人手介入作業を自動化し、自動チェックするＣＡＭ設計システムを提供する。 - 特許庁

To provide a reflecting surface designing method for the reflecting mirror of vehicular lamp which improves the controllability of a luminous intensity distribution pattern and the efficiency of design work and to provide a reflecting surface design system and a recording medium.例文帳に追加

配光パターンの制御性及び設計作業の効率が向上される車両用灯具の反射鏡の反射面設計方法、反射面設計システム、及び記録媒体を提供する。 - 特許庁

The detailed information of a pasting method such as a pattern and a procedure of pasting the interior material is inputted to a building design CAD system 2 to perform not only the structure design of a building but also the allocation processing of the interior material.例文帳に追加

内装材を貼付けるパターンや手順などの貼り方の詳細情報を建物設計ＣＡＤシステム２に入力して、建物の構造設計だけでなく、内装材の割付け処理まで行なわせる。 - 特許庁

To provide a printed board wiring processing system by which radiation noise occurrence from a wiring pattern on a printed board is prevented and the design quality is guaranteed by detecting an EMC design condition at the time of processing the wiring.例文帳に追加

配線処理時にＥＭＣ設計条件を検出することでプリント基板上の配線パターンからの放射ノイズ発生を防止して設計品質を保証するプリント基板配線処理方式を提供する。 - 特許庁

To provide a design system capable of proposing a design pattern employing a low power consumption flip-flop while preventing the deterioration of a target machine cycle (delay).例文帳に追加

目標マシンサイクル（ディレイ）を悪化させないように考慮しつつ、低消費電力フリップフロップに切替えた設計パターンを提供し得る設計方式を提供する。 - 特許庁

In a correction processing system for printed wiring board manufacture data as an embodiment of the present invention automatically, information regarding pattern design specifications included in design data is made to be generated by analyzing the CAD data (design data) first.例文帳に追加

本発明のプリントは配線板製造データの補正処理システムでは、まず、ＣＡＤデータ（設計データ）を解析することによって、設計データ中に含まれているパターン設計仕様に関する情報を自動的に生成するようにする。 - 特許庁

As a different dot pattern is printed on every tool for designing the electronic form on the slip 3 for the ruled line, the design system 100 specifies a tool used for the design based on positional coordinates on the dot pattern included in the entered data.例文帳に追加

罫線用帳票３は電子フォームを設計するツール毎に異なるドットパターンが印刷されているため、設計システム１００は、記入データに含まれるドットパターン上の位置座標に基づいて設計の際に使用するツールを特定する。 - 特許庁

If you know that a certain component of your system will utilize a design pattern or set of patterns, simply dragging and dropping the pattern onto the canvas creates the basic component for you.例文帳に追加

システムの特定のコンポーネントがデザインパターン、または一連のデザインを利用することが分かっている場合は、単にそのパターンをキャンバスにドラッグ&ドロップするだけで、その基本コンポーネントが作成されます。 - NetBeans

To provide an exposing system which can predict the quantity of exposure enough to form a resist pattern having a line width equivalent to a design value even if there is any manufacturing error in the line width of a mask pattern.例文帳に追加

マスクパターンの線幅が製造誤差を有する場合も、設計値と等しい線幅を有するレジストパターンを形成可能な露光量を予測する露光システムを提供する。 - 特許庁

To provide a CAD/CAM system for an electronic circuit board capable of converting pattern information for design of the electronic circuit board exactly and efficiently into pattern information for production used in actual production.例文帳に追加

電子回路基板の設計用の図形情報を、実際の製造に使用する製造用図形情報に適正かつ効率的に変換することができる電子回路基板用ＣＡＤ／ＣＡＭシステムを提供する。 - 特許庁

The system makes pattern design of well-fitting easily-wearable products by performing the design work through steps of "making 3D figures", "making costume design", "stripping designs made in costume design from the surface of the 3D figures and making the stripped designs the 2D patterns" and so on, to recognize and briefly finish targets and required functions to be realized on the patterns.例文帳に追加

このシステムでは、設計業務を“３次元形状の作成”“服飾デザインの作成”“３次元の形状表面から服飾デザインにて作成したデザインを剥ぎ取り２次元パターン化する”等の工程を経て、型紙上に盛り込む目的・求める機能を、目で確認しながら短時間で加工し、着用しやすい、フィット性の高い商品の型紙設計を行う事が出来る。 - 特許庁

To provide a design support system, a design method, a design support program and a manufacturing method of a semiconductor integrated circuit, with which occurrence of a design pattern that is a main cause of a circuit defect and is difficult to be lithography-processed can be suppressed, dispersion due to manufacture fluctuation is suppressed and yield can be improved.例文帳に追加

回路不良要因であるリソグラフィー処理困難な設計パターンの発生を抑制でき、製造変動によるばらつきを抑制して歩留まりの向上を図ることが可能な半導体集積回路の設計支援システム、半導体集積回路の設計方法、半導体集積回路の設計支援プログラム、半導体集積回路の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a construction material design support system and a program for storing a section expressing the characteristics of the surface pattern in the surface pattern repetition units of construction materials as an initial display unit, and for displaying the initial display unit at the time of displaying the surface pattern.例文帳に追加

建築材の表面柄繰返し単位の中のその表面柄の特徴をよく表す部分を初期表示ユニットとして記憶しておいて、その表面柄を表示する際には、まずその初期表示ユニットを表示することができる建築材設計支援システム及びプログラムを提供すること。 - 特許庁

The system for supporting design of a business process comprises a business process storage means for storing business process data; a task complementary pattern storage means for storing task complementary pattern data; and a task complementation means for updating the business process data using the task complementary pattern data.例文帳に追加

業務プロセスの設計を支援するシステムであって、業務プロセスデータを記憶する業務プロセス記憶手段と、タスク補完パターンデータを記憶するタスク補完パターン記憶手段と、タスク補完パターンデータを用いて業務プロセスデータを更新するタスク補完手段を備える。 - 特許庁

This construction material design support system is provided with a surface pattern data file for storing an initial display unit DU being initial display region data in a surface pattern repetition unit CU, and configured to display a region expressing the characteristics of the surface pattern in the surface pattern repetition unit CU as the initial display unit DU at first at the time of selecting and displaying each surface pattern.例文帳に追加

表面柄繰返しユニットＣＵの中の初期表示領域データである初期表示ユニットＤＵを記憶する表面柄パターンデータファイルを備え、各表面柄パターンを選択して表示する際に、表面柄繰返しユニットＣＵの中のその表面柄の特徴をよく表す領域を初期表示ユニットＤＵとして最初に表示する建築材設計支援システム。 - 特許庁

The system comprises a matching engine that accesses a data store of patterns that can be used as composable design elements to map components of the computing system to a pattern.例文帳に追加

このシステムは、構成可能な設計要素として用いることができるパターンのデータストアにアクセスし、コンピューティングシステムのコンポーネントをパターンにマッピングするマッチングエンジンを備える。 - 特許庁

To provide a production system allowing a general user to easily produce a business form for an electronic pen printed with a dot pattern on the basis of a designed design without understanding a mechanism of the system.例文帳に追加

一般利用者がシステムの仕組みを理解することなく、設計したデザインに基づいてドットパターンが印刷された電子ペン用帳票を容易に製造することができる製造システムを提供する。 - 特許庁

To provide a print system for cloth and its printing method in which a small lot of design pattern made and selected arbitrarily by a user can be printed onto a material, and to provide a system for making clothing and its making method.例文帳に追加

ユーザが任意に制作、選択した小ロットのデザイン柄を素材に印刷可能な布地の印刷システムとその印刷方法、及び被服の制作システムとその制作方法を提供すること。 - 特許庁

A defect is detected which is generated in a wafer on which a pattern is formed, and positional relationships between a coordination system for indicating a defect position used by an inspection equipment 1 for outputting the position where the detected defect is generated and a coordination system used in the design data of the pattern are set in multiple ways (steps S3 and S4).例文帳に追加

パターンが形成されたウェハに発生した欠陥を検出し、検出した欠陥の発生位置を出力する検査装置１が使用する欠陥位置を指し示すための座標系と、パターンの設計データにおいて使用される座標系と、の間の位置関係を複数設定する（ステップＳ３、Ｓ４）。 - 特許庁

The system includes means configured to receive designation of an agricultural field on the map, then to receive a fertilization design condition including a fertilizer pattern and a priority condition, to design fertilization patterns for the agricultural field, and to display the designed fertilization patterns on the same screen.例文帳に追加

地図上での圃場の指定を受け付け、肥料パターン及び優先条件等の施肥設計条件を受け付け、該圃場に対する施肥パターンを設計し、設計した施肥パターンを同一画面上に表示する手段を備えることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a system that automatically shows a plurality of fertilization design patterns suitable for the soil and crop, in linkage with map data and in accordance with fertilization design conditions each including a different fertilizer pattern and priority condition so as to allow a user to compare the plurality of fertilization patterns on the same screen.例文帳に追加

地図データと連携させて、肥料パターンや優先条件等の異なる施肥設計条件により、土壌や作物に適合した複数の施肥設計パターンを自動提示し、同一画面上で比較できるように表示するシステムを提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern size guarantee system for a photomask which can decide whether the photomask is normal by automatically referring to and comparing measurement specifications (design value, size tolerance, etc.), with pattern size measurement results of the photomask obtained by a plurality of size measuring instruments.例文帳に追加

複数の寸法測定装置で得られたフォトマスクのパターン寸法測定結果に対し測定仕様（設計値、寸法公差等）を自動的に参照、比較して、フォトマスクの合否判定を行うことができるフォトマスクのパターン寸法保証システムを提供することを目的とする。 - 特許庁

The process system includes detailed simulation and characterization of the entire lithography process to verify that the design provides and/or achieves the desired results on a final wafer pattern.例文帳に追加

この処理装置は、デザインが最終ウェーハパターン上の望ましい結果を提供しおよび／または達成することを実証するため詳細なシミュレーションと完全なリソグラフィ過程の描写を含んでいる。 - 特許庁

In order to expose a plurality of patterns having various CD values by an electron beam exposure method using a VSB system, a CD design value of one pattern selected from the plurality of patterns is determined.例文帳に追加

様々なＣＤを有する複数のパターンをＶＳＢ方式の電子ビーム露光方法により露光するために、前記複数のパターンから選択される一つのパターンのＣＤ設計値を決定する。 - 特許庁

To provide an image processing procedure design expert system having a feature in evaluation processing capable of enhancing stability of constitution for a processing procedure without preparing a sample pattern accurately one picture element unit by one picture element unit.例文帳に追加

サンプル図形を１画素単位で正確に作成しなくても、処理手順の構成の安定性を向上することができる評価処理に特長をもつ画像処理手順設計エキスパートシステムを提供する。 - 特許庁

To improve throughput and yield as the whole of processes at the time of forming an element pattern of different design rule by an exposure system different in resolution in a post stage.例文帳に追加

後工程で異なる解像度の露光系により異なるデザインルールの素子パターンを形成する際の工程全体としてのスループットと歩留まりの向上を図る。 - 特許庁

This system is composed of a CPU 101 for executing software for design for displaying the path of the print pattern of a print circuit board, outside memory 102 and inside memory 103 for storing software, and display means 104 and 105.例文帳に追加

プリント回路基板のプリントパターンの線路を表示する設計用ソフトを実行するためのＣＰＵ１０１、ソフトを格納する外部メモリ１０２、内部メモリ１０３、表示手段１０４，１０５により構成される。 - 特許庁