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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23002件
To provide a method for manufacturing a mold for precision casting by which a casting can be simply performed even in the case that an undercut-shape part that it is impossible to directly separate from the mold in a rubber pattern type single body exists.例文帳に追加
ゴム型単体では直接鋳型脱型が不可能なアンダーカット形状が存在しても、簡易に鋳出し成形できる精密鋳造鋳型の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing cell culture basis that is used for attaching cells on the base material in a high definition pattern and culturing them.例文帳に追加
本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、培養させるために用いられる細胞培養基板の新たな製造方法を提供することを主目的としている。 - 特許庁
To provide a printed circuit board and an inspection method thereof in which positional shift of display caused by solder resist and silk printing from a wiring pattern of the printed circuit board can be electrically inspected.例文帳に追加
プリント基板の配線パターンに対するソルダーレジストおよびシルク印刷による表示の位置ずれを電気的に検査し得るプリント基板およびその検査方法を提供すること。 - 特許庁
In the method for producing the stamper for the optical information recording medium, a master 6 with a projecting and recessing pattern is produced by exposing and developing a master substrate 3 for recording in which the resist 2 composed of the inorganic material is formed on a substrate 1.例文帳に追加
基板1上に、無機材料から成るレジスト2が形成されている記録原盤3に、露光および現像を行って凹凸パターンを有する原盤6を製作する。 - 特許庁
To provide a method for forming a pattern so as to obtain a vertical profile of a resist wall during developing when a thick resist layer is formed by using a photosensitive film in a LIGA (Lithographie, Galvanoformung, Abformung)-like process.例文帳に追加
LIGAライクプロセスで感光性フィルムを用いて厚膜レジスト層を形成するとき、現像時のレジスト壁の垂直性を得ることができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a design method of an integrated circuit device capable of reducing characteristic variation of a macrocell due to the difference of an automatic generation part of a dummy pattern for a flattening process of an insulation layer surface; and the like.例文帳に追加
絶縁層表面の平坦化処理用ダミーパターンの自動発生箇所の相違によるマクロセルの特性変動を低減する集積回路装置の設計方法等を提供すること。 - 特許庁
To provide a printed board electrical connection method capable of suitably and electrically connecting an external connection to a conductive member even if a large number of pattern wiring are concentrated and a connection piece.例文帳に追加
多くのパターン配線が集中する場合にも、外部接続と導電部材とを好適に電気的に接続するプリント基板の電気的接続方法及び接続片を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method which can efficiently manufacture a highly reliable wiring board provided with a highly reliable conductive pattern in which cracks, disconnection, a short circuit and the like are prevented from occurring.例文帳に追加
クラック、断線、短絡等の発生が防止された、信頼性の高い導体パターンを備えた信頼性の高い配線基板を効率よく製造することのできる製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a direct exposure method and a direct exposure device of low cost and high-precision which will not cause positional deviations of an exposure pattern, resulting from yawing of a stage on which a substrate to be exposed is placed.例文帳に追加
露光対象基板を載せるステージのヨーイングに起因する露光パターンの位置ズレを発生しない、低コストかつ高精度の直接露光方法および直接露光装置を実現する。 - 特許庁
According to this method, the rolling roller, forming mold or the like, on which the pattern is engraved, is abolished whereby the expense of investment for a part such as the rolling roller, forming mold or the like can be lightened remarkably.例文帳に追加
これにより、模様を刻設された圧延ローラや成形型の使用を廃止して、圧延ローラや成形型等の部品への投資費用を大幅に軽減させることができる。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus and an image forming method capable of suppressing image quality deterioration due to deviation in the ink jetting direction from a nozzle to the inside of a nozzle array in the end of the recording head, without using a mask pattern such as a gradation mask.例文帳に追加
グラデーションマスクのようなマスクパターンを用いることなく、端ヨレによる画質の低下を抑制することができる画像形成装置及び画像形成方法等を提供する。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus for rotary type blow-molding capable of enhancing the added value, increasing the production rate, and reducing the production cost through the blow molding for matching the pattern of a container with an expansion part.例文帳に追加
ロータリー式であり、かつ、容器の模様と張り出し部を一致させるブロー成形により、付加価値を向上させるとともに、生産速度を高速化し生産コストを低減する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a development roller for achieving uniform depth of groove in a groove pattern and to provide a developing device and an image forming device capable of eliminating unevenness in shading and achieving high quality of image.例文帳に追加
溝パターンの溝深さが均一とされた現像ローラの製造方法と、濃淡ムラが解消されて高画質が得られる現像装置及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing a woody product with a pattern being extremely close to a woodgrain of a natural wood on the surface and with a touch such as hand feeling being extremely close to the natural wood.例文帳に追加
天然の木の木目に極めて近い模様を表面に有し、手触り感等の風合いも天然の木に極めて近い木質様製品の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a recorded matter including a pattern (printed part) excellent in glossy texture and friction resistance, and to provide a method for manufacturing whereby the recorded matter can be efficiently manufactured.例文帳に追加
光沢感、耐擦性に優れたパターン(印刷部)を備えた記録物を提供すること、また、当該記録物を効率よく製造することができる製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a component mounting order determining method in a component-mounting machine for easily and always determining an optimum pattern of the order for mounting components using shorter calculation time.例文帳に追加
より短い計算時間で容易に、かつ常に部品実装順序の最適パターンを決定することができる部品実装機における部品実装順序決定方法を提供すること。 - 特許庁
The method includes the steps of measuring the static display noise (fixed pattern error 20) of a display device 14, by using the display noise to create pseudo-random noise 12 and subtracting the pseudo-random noise 12 from a continuous gradation image.例文帳に追加
ディスプレイ装置14の静的ディスプレイノイズ(固定パターン誤差20)を測定し、ディスプレイノイズを用いて擬似ランダムノイズ12を生成し、擬似ランダムノイズ12を連続階調画像から差し引く。 - 特許庁
To prevent drawing data from being very large in amount owing to a smaller beam diameter and higher resolution which are inevitable for a finer pattern to be exposed in a laser beam exposing method.例文帳に追加
レーザビーム露光方法において、露光するパターンの微細化に対応するために不可避となる描画ビーム径や分解能の微細化による描画データの肥大化を防ぐことを課題とする。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a double-sided printed wiring board which is superior in flexibility and dimensional accuracy where a fine pattern can be formed, and conduction between terminals can be prevented from occurring.例文帳に追加
微細なパターンの形成が可能で屈曲性が高く寸法精度が高くかつ端子間の電気的導通を防止することができる両面プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To obtain a three-dimensional periodical structure which has extremely high consistency to a semiconductor integrated circuit and wherein a pattern layer of a fine dimension not exceeding a micrometer order is laminated, and its manufacturing method.例文帳に追加
半導体集積回路との整合性が極めて高く、かつ、マイクロメータオーダ以下の微細寸法のパターン層を積層した3次元周期構造体と、その製造方法とを提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of preventing distortion or loss of a photoresist pattern used as an etching barrier in a process of etching an organic bottom anti-reflective coating.例文帳に追加
有機反射防止膜のエッチングの際にエッチングバリアとして用いられる感光膜パターンの歪み又は損失を防止することができる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method of easily locating the position of a defective area without increasing man-hours even in a semiconductor device equipped with a dummy pattern formed on a wiring layer.例文帳に追加
配線層にダミーパターンが形成されている半導体装置においても、工数の増加しない簡単な手法で不良発生箇所の位置を容易に特定することができるようにする。 - 特許庁
The layer 20 is formed by a method, where a paste formed of the same material as that for the ceramic layers is applied on a pattern for the ground electrode formed on a ceramic green sheet and is subjected to firing.例文帳に追加
オーバーコート層20は、セラミックス層と同じ材料で形成したペーストをセラミックスグリーンシート上に形成したグランド電極用パターンの上に塗布し、焼成することによって形成する。 - 特許庁
The pattern forming method performs a multiple exposure process comprising exposing a resist film a plurality of times, wherein a contact angle of the resist film for water is ≥75°.例文帳に追加
同一のレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにおいて、レジスト膜の、水に対する接触角が75°以上であることを特徴とするパターン形成方法。 - 特許庁
To provide a method for producing a partially hydrophilic sheet in which whole layer of a thick hydrophilic porous sheet is divided to a hydrophilic part and a hydrophobic part at an arbitrary pattern in an excellent productivity.例文帳に追加
厚手の親水性多孔質シートの全層が任意のパターンで親水性部分と疎水性部分とに区画された部分親水性シートの生産性に優れた製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a replica mold having excellent performance of transferring the pattern of the master mold and also combining excellent hardness, transparency and heat and chemical resistances and a convenient and inexpensive method of manufacturing the replica mold.例文帳に追加
マスターモールドのパターン転写性に優れ、かつ、非常に優れた硬度、透明性、耐熱性および耐薬品性を有するレプリカモールドおよびその簡便・安価な製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a profile tracking method of digital image for precisely processing a pattern or image containing a plurality of colors or luminance at high speed with a minimized data capacity.例文帳に追加
複数の色あるいは輝度を含む図形や画像でも精度の高い図形や画像を少ないデータ容量で、かつ、高速に処理できるディジタル画像の輪郭追跡手法を提案する。 - 特許庁
This method checks a form of an incoming call (access pattern) at the entrance of communication channels and inspects words in the signal at proper places of a communication circuit so as to enhance the effect of fault blocking.例文帳に追加
通信回線の入口で来信の形態(アクセのスパターン)を検査すると共に、交信回路の適所で信号中の単語を検査する方法をとり、障害阻止の効果を高める。 - 特許庁
To provide a method for producing a multiwire wiring board exhibiting excellent conductor pattern forming accuracy without lowering the connection accuracy and excellent controllability of the thickness of an insula tion layer in a build-up layer.例文帳に追加
接続信頼性を低下させることなく導体パターンの形成精度に優れ、またビルドアップ層の絶縁層厚の制御に優れたマルチワイヤ配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a dry etching method whereby a wiring pattern can be formed with ensuring a sufficient remaining quantity of resist, without giving damage to a base in manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加
半導体装置の製造において、下地にダメージを与えずに、十分なレジスト残量を確保しながら配線パターンを形成することができるドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing metal wire pattern for surely forming a metal film of sub-micron order on a transparent substrate, and to provide a backlight system and a liquid crystal display using them.例文帳に追加
サブミクロンオーダーの金属膜を透明基板上に確実に形成することができるメタルワイヤーパタンの製造方法、バックライトシステム及びそれらを用いた液晶ディスプレイを提供する。 - 特許庁
To obtain a method for manufacturing a replica pattern for lens molding that is capable of manufacturing a plurality of highly accurate replica patterns in a short term and has a molding face with good heat resistance and high hardness.例文帳に追加
高精度のレプリカ型を短期間で複数個製作することを可能とし、かつ、耐熱性が良好で硬度の高い成形面を有するレンズ成形用レプリカ型の製造方法を得る。 - 特許庁
CASTING METHOD USING PATTERN MADE OF FOAMED POLYSTYRENE OR THE LIKE例文帳に追加
鋳造作業中に於ける砂型の製作は、もっぱら木型等に頼っているが、その木型に代わって、瞬時に溶解する発泡スチロール等の合成樹脂を用いて行う製造方法、及び、技術 - 特許庁
To provide a flat display panel which can easily respond to the pitch change of the pattern to be formed while aiming to improve a throughput and accuracy as well as controllability, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
スループットや精度および制御性の向上を図りながら、形成すべきパターンのピッチ変化に容易に対応することのできるフラットディスプレイパネルおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide the forming method of a metal film with which a resist pattern with less deformation by heat and high anti-stress nature and an electrode is highly precisely formed even if the metal film is thick.例文帳に追加
熱による変形が少なく、耐応力性も高いレジストパターンを作製し、金属膜厚が厚い場合でも高精度に電極を形成できる金属膜の形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a coating needle cleaning method capable of shortening a cleaning time and sufficiently performing cleaning, and a coating needle cleaning device, and a pattern correction apparatus equipped with it.例文帳に追加
洗浄時間を短縮することができ、十分な洗浄を行なうことのできる塗布針洗浄方法、塗布針洗浄装置およびこれを備えたパターン修正装置を提供する。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus and a gradation adjustment method of the image forming apparatus by which gradation compensation is properly performed even when there is internal unevenness in a gradation pattern.例文帳に追加
階調パターンに内面むらがある場合でも、適正に階調補正を行なうことができる画像形成装置及び画像形成装置の階調調整方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a semiconductor chip capable of manufacturing a semiconductor chip of an N×N shot size without forming marks in a main pattern region.例文帳に追加
本発明は、メインパターン領域内にマーク類を形成することなく、N×Nショットのサイズの半導体チップを製造することが可能な、半導体チップの製造方法の提供を目的とする。 - 特許庁
To provide a molding method for plastic molded product, capable of accurately transferring a minute pattern of an imprinting surface and improving mold releasability and productivity.例文帳に追加
賦形面の微細なパターンを精度よく転写できるとともに、離型性及び生産性を向上させることのできるプラスチック成形品の成形方法の提供を目的とする。 - 特許庁
To provide an inspection method for a semiconductor integrated circuit including an equalization process for generating a burn-in test pattern for equalizing the number of times of toggling on each element level of the semiconductor integrated circuit.例文帳に追加
半導体集積回路の各素子レベルでのトグル回数を平準化するバーンインテストパターンを生成する平準化工程を含む半導体集積回路の検査方法の提供。 - 特許庁
To improve the image quality of a hatched pattern of low density in the case of performing image processing by using a dither matrix method.例文帳に追加
ディザマトリックス法を用いて画像処理を行う場合、低濃度のハッチングパターンの画質を向上させる画像処理装置、画像処理方法及びプログラムを記憶した記憶媒体を提供する。 - 特許庁
To provide a printing method of conductor, which enables formation of a finer, intact conductor pattern free of defects such as cavities and bubbles at a relatively low temperature.例文帳に追加
より微細で、空洞や気泡等の欠陥のない健全な導電体からなるパターンを比較的低い温度履歴で形成できるようにした導電体の印刷方法を提供する。 - 特許庁
To prevent a processing load from being enlarged unnecessarily by performing motion compensation with unnecessarily high precision even on a portion where a picture pattern is monotonous in a hierarchical motion vector calculating method.例文帳に追加
階層型動きベクトル算出方法において、絵柄が単調な部分においても不必要に高い精度で動き補償をおこない、無駄に処理負荷が大きくなることを防止する。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition providing a polyimide resin film having extremely low residual stress after curing, and also to provide a method for forming a cured relief pattern by using the composition.例文帳に追加
硬化後のポリイミド樹脂膜としてきわめて低い残留応力を与える感光性樹脂組成物、さらに該組成物を用いた硬化レリーフパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a tape carrier for a semiconductor device which restrains excess deposit of tin at a wiring pattern side surface which is generated in electroless tin plating.例文帳に追加
無電解スズめっきの際に起きる配線パターン側面のスズの過剰析出を抑制し、高い信頼性を有する半導体装置用テープキャリアを実現できる製造方法の提供。 - 特許庁
The pattern forming method is characterized by forming a hard mask layer, providing the step in the hard mask layer and performing anisotropic etching on a substrate using the hard mask layer as an etching mask.例文帳に追加
本発明のパターン形成方法は、ハードマスク層を形成し、該ハードマスク層に段差を設け、該ハードマスク層をエッチングマスクとして基板に異方性エッチングを行うことを特徴とする。 - 特許庁
To provide a semiconductor device with a MOS transistor and a manufacturing method thereof, for securing the reliability of a fine-pattern gate electrode while reducing its occupied area.例文帳に追加
微細パターンのゲート電極の信頼性が得られると共に、トランジスタの占有面積の縮小化を可能にしたMOSトランジスタを有する、半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a substrate with microlenses capable of arbitrarily setting pattern shapes of a second aperture for etching and having such an advantage that the degree of freedom in designing the lens shape widens.例文帳に追加
第2のエッチング用開口のパターン形状を任意に設定でき、レンズ形状設計の自由度が広がる等の利点があるマイクロレンズ付基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing a relief pattern includes a process of irradiating a coating film made of the above photosensitive resin composition patternwise with active rays and then developing and removing the irradiated portion with an alkali aqueous solution.例文帳に追加
前記の感光性樹脂組成物からなる塗膜に、活性光線をパターン状に照射し、照射部をアルカリ水溶液で現像除去するレリーフパターンの製造方法。 - 特許庁
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