「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(354ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pressure sensitive adhesive sheet with a metallic lustrous layer region easily formed at a low cost and in a pattern of an arbitrary shape and to provide a method for producing the adhesive sheet.例文帳に追加

金属光沢層領域を簡便かつ安価に形成し、さらには金属光沢層領域を任意の形状にパターン形成した粘着シート、およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an image processor for preventing the pattern such as Sneke-Line texture without damaging the resolution and gradation property that an error diffusion method originally has as much as possible.例文帳に追加

誤差拡散法が本来有する解像度や階調性を極力損なわずにＳｎｅｋｅ−Ｌｉｎｅテクスチャ等のパターン発生を防止する画像処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electrical connection body of a circuit pattern of a printed circuit board in which a space occupied by the electrical connection body is reduced and the quality of a manufacturing process can be improved.例文帳に追加

電気的な接続体の占める空間を減少させ、製造プロセスの質の良さを上回らせるプリント回路基板の回路パターンの電気的な接続体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wafer processing apparatus that shortens a time needed for forming a resist pattern while keeping the wafer cleaning efficiency high, and also to provide a production method of a semiconductor device.例文帳に追加

基板の洗浄効率を高く維持しながら、レジストパターンの形成に要する時間を短縮することができる基板処理装置及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a substrate developing apparatus and a method therefor, which prevent minute deposits from remaining of on the substrate, in particular on open frame and in a pattern-formed region, after the developing process.例文帳に追加

現像処理後の基板、特に基板のオープンフレームやパターン形成領域に微小な付着物が残留するのを防止できる基板現像装置および基板現像方法を提供する。 - 特許庁

The light emission control pattern THR is obtained by forming these grooves in the corner part on the light incidence face of a stamper balanced in the face by a method like cutting.例文帳に追加

出光制御パターンＴＨＲは面内の均整を取ったスタンパーの入光面側のコーナー部に、切削などの手段で上記の溝を加工しておくことにより形成できる。 - 特許庁

To provide a resist material improved in resolution and excellent in resistance to surface roughness and side lobes at the time of using a halftone mask, and a pattern forming method using the resist material.例文帳に追加

解像性を大きく改善し、かつハーフトーンマスク使用時の表面荒れやサイドローブに対する耐性が優れたレジスト材料、及びレジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display adaptable to narrow pitches between bumps of a recent driver LSI without reducing the size of a conductive pattern, and to provide its inspection method.例文帳に追加

導電性パターン部を小さくすることなく、近年のドライバーＬＳＩのバンプ間の狭ピッチ化に対応可能な液晶表示装置およびその検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a CMOS image sensor, capable of forming a convex color film pattern used as a microlens and of improving optical transmission characteristics, and to provide a method of manufacturing the CMOS image sensor.例文帳に追加

マイクロレンズとして用いられる凸面形状のカラーフィルタパターンを形成して光透過度特性を向上させることのできるＣＭＯＳイメージセンサ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL display in which a position shift after positioning of a mask and a substrate is controlled and a pattern deposition of an organic compound layer of an organic light emitting element can be made in a high resolution.例文帳に追加

有機ＥＬディスプレイの製造において、マスクと基板とを位置合わせした後の位置ずれを抑制し、有機発光素子の有機化合物層を高解像度でパターン成膜する。 - 特許庁

To improve the followingness of a control target and perform highly precise drive control by switching its excitation pattern according to a situation, regarding an excitation control method for a stepping motor.例文帳に追加

ステッピングモータの励磁制御方法につき、状況に応じて励磁パターンを切り換えることにより、制御対象の追従性の向上や、高精度な駆動制御を行えるようにする。 - 特許庁

To provide a cylindrical knitted fabric capable of forming a pattern in which lines for binding connection points are focused on one point on the cylindrical knitted fabric, and to provide a method for knitting the same.例文帳に追加

接合ポイントを結ぶラインが筒状編地の編地上の一点に収束する柄を形成することができる筒状編地及びその編成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a multilayered wiring board, where a wiring conductor layer with a fine pattern can be formed, and the wiring board is not required to be baked, while being restrained from shrinking.例文帳に追加

微細なパターンを有する配線導体層を形成することができるとともに、収縮を抑制しながら焼成する必要のない多層配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

There is provided a system, method, and device for tracking motion across a surface 130 by creating an interference pattern 310 by reflecting light 111 from the surface 130.例文帳に追加

表面１３０を横断する動きを、その表面１３０から光１１１を反射して干渉パターン３１０を生成することにより、追跡するシステム、方法、およびデバイスが提供される。 - 特許庁

To provide an electrostatic attraction type fluid discharge method and an apparatus therefor which make the minute hole diameter of a nozzle and the lowering of drive voltage compatible and realize suppression of the scattering of droplets in a discharge tip member to form a clear fine pattern.例文帳に追加

ノズル孔径の微細化と駆動電圧の低電圧化を両立し、かつ吐出先部材での液滴飛散を抑制して鮮明な微細パターンを形成できるようにする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in resolution and focal depth and suppressing occurrence of scum and development defects, and to provide a pattern forming method using the positive resist composition.例文帳に追加

解像性、焦点深度に優れ、スカムや現像欠陥の発生を抑制したポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device by which pattern defects due to small particles used for roughening a material film can be prevented, and to provide the semiconductor device.例文帳に追加

材料膜の粗面化を行う際に使用する微粒子に起因するパターン欠陥の発生を防止することができる半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

To substantially reproduce a pattern of all minute defects observed in a silicon signal crystal grown by a CZ method with a couple of model constants against practical growth conditions.例文帳に追加

ＣＺ法により成長したシリコン単結晶に観察される全ての微小欠陥のパターンを実際の成長条件に対して、一組のモデル定数で実質的に再現する。 - 特許庁

To provide the constitution and manufacturing method of an IC tag where an adhesion part between the antenna pattern or IC chip of a noncontact IC tag and an antenna is not deteriorated due to the influence of corrosive gas or moisture.例文帳に追加

非接触ＩＣタグのアンテナパターンやＩＣチップとアンテナの接着部が腐蝕性ガスや水分の影響で劣化することのないＩＣタグの構成や製法について提案する。 - 特許庁

To provide an exposure method and an apparatus for rapidly and efficiently drawing a line image pattern in a large size to be used for an electromagnetic wave shield filter for a PDP.例文帳に追加

本発明は、ＰＤＰ用電磁波防止フィルタに用いられる大きなサイズの線画パターン描画を迅速、かつ効率よく行うことのできる露光方法、及び装置を得ることである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a conductive pattern, capable of giving high reliability, i.e. preventing the generation of migration without high-temperature sintering.例文帳に追加

本発明の目的は、高温焼結することなく、高信頼性を有する、すなわち、マイグレーションの発生を防止することができる導電性パターンの形成方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine pattern showing no visible discontinuity on the surface of a large-area mother die (die) by using stepping exposure.例文帳に追加

この発明は、ステッピング露光を用いて大面積な母型（金型）表面に目視レベルで不連続性が感じることがない微細パターン作成をする方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an electrostatic actuator having a fixing sheet of a four-phase electrode pattern, which needs only one face wiring, has a large and uniform electrostatic force, and is easy to be manufactured, and also to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

片面配線で済み、静電力が大きく、静電力が均等で、製造が容易な４相電極パターンの固定シートを有する静電アクチュエータおよびその製造方法。 - 特許庁

In this method of creation, since the same mask pattern is exclusive-ORed twice, original data is restored; and an original design image is displayed on the completed QR code image.例文帳に追加

この作成方式によれば、同一マスクパターンの排他的論理和が２回とられるので元データが復元され、完成したＱＲコード画像上に元のデザイン画像が表示される。 - 特許庁

To provide a rotation measurement apparatus and method in which, even if a member to be measured such as ruggedness or a stripe pattern has an error, that error is grasped and can be canceled.例文帳に追加

凹凸形状や縞模様などの被計測部材に誤差があった場合であっても、その誤差を把握し、誤差を除去することのできる回転計測装置及び方法を提供する。 - 特許庁

At this time, bead spacers are discharged by an ink jet method to opening portions of the microprojection pattern to prescribe the height of the ink film during transfer.例文帳に追加

このとき微小突起物パターンの開口部にインクジェット法によりビーズスペーサーを吐出し、このビーズスペーサーにより転写時のインキ膜の高さを規定する微小突起物の製造方法。 - 特許庁

To enable a radio base station NodeB to highly accurately measure reception power of E-DPDCH with a simple method even if the pattern of uplink user data is in an unknown state.例文帳に追加

上りユーザデータのパターンが不明な状態であっても、無線基地局ＮｏｄｅＢが、簡易な方法で高精度に、Ｅ-ＤＰＤＣＨの受信電力を測定することができる。 - 特許庁

To provide a method for producing a mask for solder printing which ensures good releasability of solder and can accurately transfer creamy solder even to the top of an ultrafine circuit pattern having several μm line width.例文帳に追加

半田の抜け性が良好で、線幅が数μｍオーダーの超微細回路パターン上にも正確にクリーム半田を転写可能な半田印刷用マスクの製造方法を確立する。 - 特許庁

In the manufacturing method of a laminated substrate, a plurality of release films 11 are formed on a stripping substrate 20 and an electrode layer 13 is formed on the release films 11 to form a prescribed pattern shape.例文帳に追加

（ａ）に示すように、剥離基板２０上に複数の剥離膜１１を形成し、剥離膜１１上に電極層１３を成膜して所定のパターン形状を形成する。 - 特許庁

To provide the creation method of mask data, a mask, and a computer-readable record medium that are used when a dummy projection region is formed in a specific pattern within a trench element separation region.例文帳に追加

トレンチ素子分離領域内に、ダミー凸部領域を所定のパターンで形成する際に使用する、マスクデータの生成方法、マスクおよびコンピュータ読み取り可能な記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition in which a defect, a scum and an elution ratio when liquid immersion exposure are improved and favorable for a liquid immersion exposure, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

液浸露光時に於ける、欠陥、スカム、及び溶出割合が改善された液浸露光に好適なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure method which achieves satisfactory alignment even in a terminal part in a moving direction in an exposure area, when forming a color pixel by slit exposure to a pattern of a black matrix.例文帳に追加

ブラックマトリックスのパターンに対し、スリット露光で着色画素を形成する際、露光領域の移動方向末端部にても位置合わせが良好な露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a leather, on which design is imparted and a pattern excellent in abrasion resistance and following tensile force without causing crack of cured film is formed, and to provide a method for producing the leather.例文帳に追加

皮革上に意匠が付与された、耐摩耗性に優れ、かつ硬化膜が割れることなく引っ張りに対して追従する模様の形成された皮革およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in sensitivity, limit resolution, roughness properties, exposure latitude (EL), post exposure bake (PEB) temperature dependency and depth of focus (DOF), and a resist composition.例文帳に追加

感度、限界解像力、ラフネス特性、露光ラチチュード（ＥＬ）、露光後加熱（ＰＥＢ）温度依存性、及びフォーカス余裕度（ＤＯＦ）に優れたパターン形成方法並びにレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a droplet discharge apparatus constituted so as to fix a discharged droplet at an impact position to suppress the expanse of wetting and enhanced in the controllability of a pattern size, and a droplet discharge method.例文帳に追加

吐出した液滴を着弾位置に定着させ、その濡れ広がりを抑制し、パターンサイズの制御性を向上した液滴吐出装置及び液滴吐出方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a metal circuit pattern, in which the adhesion strength of a polyimide substrate to a metal circuit part is high and in which the line-to-line insulation resistance of the metal circuit part is high.例文帳に追加

ポリイミド基材と金属回路部との密着強度が高くかつ金属回路の線間絶縁抵抗が高い金属回路パターン形成方法を提供するものである。 - 特許庁

In the system and method for determining the origin and the originality by tagging a recording sheet, a roller 10 for transferring at least a part of a random pattern 11 to a document is provided.例文帳に追加

記録用紙シートにタグを付けてその出所と本物性を決定できるようにするシステムと方法として、ランダムパターン１１の少なくとも一部を文書に転写するローラ１０を備える。 - 特許庁

To provide a method for molding a mold by which the density of the mold molded in a molding flask can be made almost uniform even if there is a deeply engraved part on a pattern plate.例文帳に追加

模型板に深い堀り込みがある場合においても、鋳枠内に造型される鋳型の密度をほぼ均一にできる鋳型造型方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a tapered pattern forming method which can perform taper work on a thin film, formed on a wafer in short time and moreover has a small number of processes required for forming the taper.例文帳に追加

ウエハ上に成膜された薄膜に対して、短時間でテーパ加工を施すことができ、しかも、テーパ形成に要する工程数の少ないテーパパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To reduce the number of steps for forming a pattern having a dimension less than a lithographic exposure resolution limit, and to provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of improving the yield.例文帳に追加

リソグラフィの露光解像限界未満の寸法を有するパターンを形成するための工程数を削減し、また、歩留まりを向上させる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To realize a resist pattern prediction method which does not require much time and effort for preparation, owing to the capability to perform convolution integration based on the result measured with one sample.例文帳に追加

１つのサンプルで測定された結果に基づいて畳み込み積分を行うことができることから、準備に手間と時間が余りかからないレジストパターン予測方法を実現する。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition suitable to liquid immersion exposure, improved in defects, scums and a leaching ratio upon liquid immersion exposure, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

液浸露光時に於ける、欠陥、スカム、及び溶出割合が改善された液浸露光に好適なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for molding a thermoplastic resin which restrains the molecular orientation and strain in the inner part of the resin and transfers a fine pattern of a mold onto the resin surface, as well as to provide its molding equipment.例文帳に追加

樹脂内部の分子配向や歪みを抑制し且つ樹脂表面に微細な金型パターンを転写するための熱可塑性樹脂の成形方法及びその成形装置を提供する。 - 特許庁

To provide a simple method of forming a color conversion filter having a color conversion layer with a high-definition pattern by adjusting interaction between a color filter layer being a base layer and ink droplets.例文帳に追加

下地となるカラーフィルタ層とインク液滴と相互作用を調整し、高精細なパターンを有する色変換層を有する色変換フィルタを形成するための簡便な方法の提供。 - 特許庁

To provide an inspection method capable of rapidly discriminating whether a press contact state of a terminal and an electrode pattern is defective or non-defective with high accuracy and an inspection apparatus used for such inspection.例文帳に追加

端子と電極パターンとの圧着状態の良否を、短時間かつ高精度で、判別することができる検査方法、および、かかる検査に用いられる検査装置を提供すること。 - 特許庁