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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23002件
To provide a displacement measuring method and its apparatus capable of accurately measuring a relative displacement in the peripheral direction of the cyclic pattern of an obverse and a reverse in a simple configuration.例文帳に追加
簡単な構成で、表面及び裏面の周期的パターンの周囲方向の相対的な位置ずれ測定を正確に行うことができる位置ずれ測定方法及び装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a press molding method of a molding material for an outside corner accessory capable of performing molding for forming an uneven pattern to the molding material without performing the removal of burr.例文帳に追加
バリの除去を行なう必要なく成形材料に凹凸模様を形成する成形を行なうことができる出隅役物用成形材料のプレス成形方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern exposure method and apparatus capable of forming periodic patterns of various shapes arranged in a work conveying direction in high throughput in simple equipment with suppressed equipment investment.例文帳に追加
フレキシブルな形状で搬送方向に周期的なパターンを高スループットで、かつ設備投資を抑制した簡易な設備で形成することのできるパターン露光方法及び装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method of cleaning a semiconductor substrate with ultrasonic waves, which can restrain damages to a pattern forming part of the semiconductor substrate accompanying ultrasonic vibration without deteriorating the cleaning efficiency.例文帳に追加
洗浄効率を低下させることなく、超音波発振に伴う半導体基板のパターン形成部へのダメージを抑制し得る超音波による半導体基板の洗浄方法を提供する。 - 特許庁
To provide a semiconductor manufacturing method and a semiconductor manufacturing device that can improve the uniformity of pattern sizes in a wafer surface to suppress variations in characteristics of a semiconductor device.例文帳に追加
ウェハ面内のパタン寸法の均一性を向上させ、半導体装置の特性のばらつきを抑えることが可能な半導体製造方法と半導体製造装置を提供する。 - 特許庁
To provide a positioning method between a soldering pin group of a belt-like flexible board and an electrode pattern at a wiring board side by utilizing chip components originally mounted on the wiring board.例文帳に追加
帯状フレキシブル基板の半田付けピン群の配線基板側の電極パターンに対する位置決めを、その配線基板にもともと搭載されているチップ部品を利用して行う。 - 特許庁
To provide a method and an apparatus of manufacturing a semiconductor device which can surely transfer a thin silicon wafer and form an organic film having small variation in a pattern dimension within a surface.例文帳に追加
薄いシリコンウエハを確実に搬送し、パターン寸法の面内バラツキが小さな有機膜をシリコンウエハ上に形成できる半導体装置の製造方法および製造装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a method capable of uniforming the film thickness of a curing resin layer and enhancing the transfer accuracy and positioning accuracy of a signal pattern in manufacturing of a multilayer optical recording medium.例文帳に追加
多層構成の光記録媒体の製造において、硬化性樹脂層の膜厚が均一化でき、信号パターンの転写精度および位置合わせ精度を向上できる方法を提供する。 - 特許庁
A ferrite substrate 30 is provided at one end of a substrate 10 including a ground conductor 20 formed widely and an antenna pattern 32 using conductors is also formed by the screen printing method.例文帳に追加
接地導体20が広く形成された基板10の一端にはフェライト基板30が設けられており、導体によるアンテナパターン32がスクリーン印刷により形成されている。 - 特許庁
To provide a transparent electromagnetic wave shielding film having excellent electromagnetic wave shielding performance, high transparency and enhanced adhesion property of a conductive metal pattern, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加
電磁波遮蔽性能に優れ、且つ高い透明性を有し、更に導電性金属パターンの密着性が向上した透明電磁波遮蔽フィルム、及びその作製方法を提供すること。 - 特許庁
Also, in its manufacturing method, a pressure membrane printing process is used to form the antenna pattern 12 on the surface of the bobbin 11, and the resist glass is sintered on it before being coated with the overcoat 13.例文帳に追加
また、その製造方法では、圧膜印刷工程を用いてボビン11の外周面にアンテナパターン12を形成し、その上にレジストガラスを焼結してオーバーコート13が施されている。 - 特許庁
To provide a multiplexer and multiplexing method for obtaining a multiplexed pattern corresponding to a huge amount of multiplexing information which needs complicated and much arithmetic processing by a simpler constitution.例文帳に追加
複雑で多くの演算処理を必要とする膨大な多重化情報に対応する多重化パターンを、より簡単な構成で求められる多重化装置および多重化方法を提供する。 - 特許庁
To provide a photomask capable of suppressing deformation of a pattern formed by exposure transfer with dipole illumination light and reduction in the exposure margin, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加
ダイポール照明光による露光転写で形成されるパターンの変形および露光マージンの低下を抑制できるフォトマスク及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide the manufacturing method of a semiconductor device with which a conductive film pattern is formed by exposing the entire photoresist film of low stepped region and a high stepped region, by performing an exposing operation.例文帳に追加
低段差領域及び高段差領域全体のフォトレジスト膜を1回で露光し、導電性膜パターンを形成することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
A method for forming an electro conductive film pattern forms a first metal film 2 comprising ITO on an insulated substrate 1 and further, forms selectively a resist mask 3 being an insulated thin film on the first metal film 2.例文帳に追加
絶縁性基板1上にITOからなる第1の金属膜2を形成し、さらに第1の金属膜2上に選択的に絶縁性薄膜であるレジストマスク3を形成する。 - 特許庁
To detect minute defects with improved sensitivity by preventing pseudo-defects from occurring because of minute variations of a pattern to be inspected for a method of inspecting defects for comparing inspection and reference patterns.例文帳に追加
検査パターンと参照パターンとの比較を行う欠陥検査法に関し、検査対象パターンの微小な変動による擬似欠陥の発生を防ぎ、微小な欠陥を感度良く検出する。 - 特許庁
To provide a method which allows a through-hole position and the through-hole position on design to directly coincide with each other in the film aligning in the case incapable of attaching a land pattern to a film for exposure.例文帳に追加
露光用フィルムにランドパターンを付けられない場合のフィルム合わせにおいて、スルーホール位置と設計上のスルーホール位置を直接合わせることができる方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing ladderproof fabrics suitable for making fabrics comprising a basic pattern with yarns arranged parallel to one another, that have an improved appearance and surface feel.例文帳に追加
改良された外観と表面感触を有する、互いに平行に配置される編み糸を有する基本パターンからなる布地を作るのに適した無伝線布地の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a height measurement method and a charged particle beam lithography apparatus in which drawing accuracy can be enhanced by reducing the height measurement error caused by a pattern formed on a specimen.例文帳に追加
試料に形成されたパターンに起因する高さ測定誤差を低減して、描画精度の向上を図ることのできる高さ測定方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁
To provide a chemically amplified positive photoresist composition for a thick film, having higher sensitivity and high fidelity to a mask, and to provide a method for manufacturing a thick resist pattern by using the photoresist composition.例文帳に追加
より高感度でマスク忠実性の高い厚膜用化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物と、当該フォトレジスト組成物を用いた厚膜レジストパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for transmitting high speed serial signals, a modulator, a demodulator which do not depend on an input data pattern to avoid continuation of the same logic signal in order to prevent Inter Symbol Interference.例文帳に追加
Inter Symbol Interferenceを防止するために、入力データパターンに依存せず、同じ論理信号が続かないようにする高速シリアル信号の伝送方法および変調、復調器を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming a semiconductor conductive layer for forming a resist pattern in good accuracy in which acid generated from a chemical amplification resist film is not consumed by a metal brought into contact with the acid.例文帳に追加
化学増幅型レジスト膜から発生する酸が接触する金属によって消費されず、レジストパターンを精度良く形成する半導体導電層の形成法を提供する。 - 特許庁
BOARD FOR SEALING MICRO ELECTROMECHANICAL PART, MULTI-PATTERN BOARD FOR SEALING MICRO ELECTROMECHANICAL PART, MICRO ELECTROMECHANICAL DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING MICRO ELECTROMECHANICAL DEVICE例文帳に追加
微小電子機械部品封止用基板及び複数個取り形態の微小電子機械部品封止用基板、並びに微小電子機械装置及び微小電子機械装置の製造方法 - 特許庁
To provide a hot dip galvannealed steel sheet in which the generation of a streak-like pattern is suppressed, and which includes excellent plating adhesion on working as well, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加
本発明は、筋模様の発生を抑制し、かつ加工時のめっき密着性に優れた合金化溶融亜鉛めっき鋼板およびその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
This method for generating the geometric pattern from image information compressed by morphology skeletons of a binary image comprises the following processing (1)-(5).例文帳に追加
2値画像のモルフォロジースケルトンによって圧縮した画像情報から幾何学的模様を生成する方法であって、下記1〜5の処理を行うことを特徴とする幾何学的模様の生成方法。 - 特許庁
To provide a method for inspecting mold structures which quickly, accurately evaluates a degree of precision (linearity) of radius direction in a servo pattern; and to provide a mold structure and a magnetic recording medium.例文帳に追加
サーボパターンにおける半径方向の精密度(リニアリティ)を迅速かつ正確に評価することができるモールド構造体の検査方法、モールド構造体、及び磁気記録媒体の提供。 - 特許庁
To provide a defect inspection method capable of inspecting a defect by setting a size determination region having defect detection sensitivity corresponding to the size of a defect part automatically according to the pattern density.例文帳に追加
パターンの密度に応じて自動的に欠陥部分のサイズに応じた欠陥検出感度を有するサイズ判定領域を設定して欠陥検査できる欠陥検査方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device which can form an impurity introduction region and a positioning mark region in an aligned relation on the basis of a common insulating film pattern.例文帳に追加
共通の絶縁膜パターンに基づいて不純物導入領域と位置合わせマーク領域とを整合的に形成することができる半導体装置の製造方法を提供する - 特許庁
An absolute coordinate system is introduced to generate the signal, having the pattern as the basis and two optical sensor signals, and a feature extracting method is conducted.例文帳に追加
本発明は位置によるパターンを基礎とする信号と二つの光学センサ信号を発生させるために絶対座標を導入し、特徴抽出方法を行うことにより構成される。 - 特許庁
To provide a new polymeric compound useful as a component of a positive resist composition, a monomer thereof, a positive resist composition including the polymeric compound, and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物の成分として有用な新規な高分子化合物、そのモノマー、前記高分子化合物を含有するポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To utilize a signal side lead member as it is even when an effective element pattern in a vibrating part is changed in the case of manufacturing an ultrasonic vibrator to which the sparse method is applied.例文帳に追加
スパース法が適用された超音波振動子を製造する場合において、振動部おける有効素子パターンの変更があってもシグナル側リード部材をそのまま利用できるようにする。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a cosmetics case, by which a cosmetics case with good appearance is manufactured by forming a double layer structure and printing a pattern with a logo between the two layers.例文帳に追加
二層構造で形成され、二層の間にはロゴを有する柄が印刷されて、外観の美麗な化粧品ケースが製造できる化粧品ケースの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a pattern indication method of a game machine capable of increasing amusement for players and retaining player's expectation to a big win for a long time.例文帳に追加
遊技者の興趣を増大させることができると共に、遊技者の「大当たり」発生への期待感を長時間維持することができる遊技機の図柄表示方法を提供する。 - 特許庁
In this method for forming the dynamic pressure generating part, ink 12 is supplied to an outer peripheral face 2a1 of a raw material 2a' constituting a shaft member to form the masking pattern 1 and then treating a surface of a raw material of a non-mask part 1b.例文帳に追加
軸部材を構成する素材2a’の外周面2a1にインク12を供給してマスキングパターン1を形成した後、非マスク部1bの素材表面を処理する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of an organic electroluminescent element in which vapor deposition to form a minute pattern on a light-emitting layer or the like can be carried out easily in high reliability even with a large-sized substrate.例文帳に追加
発光層など、微小なパターンを形成する蒸着を、大型基板に対しても容易に信頼性高く行なえる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a recording system, a recording device and a recording method in the recording device for avoiding the large alteration of a controller due to the number, arrangement pattern and recording system of recording head parts.例文帳に追加
記録ヘッド部の数や配置パターン、記録方式等に起因するコントローラの大きな改変を回避できる記録システム、記録装置及び記録装置における記録方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming a gradation pattern which has a natural feeling and is closer to its real matter on the surface of an exterior material made by coating a base material having a rugged surface and an inclined surface.例文帳に追加
凹凸面や傾斜面を有する基材を塗装した外装材の表面に、ぼかし模様を形成し、自然な感じでより実物に近い模様を形成する方法を提供する。 - 特許庁
BORON NITRIDE THIN FILM EMITTER MADE BY CRYSTAL WITH POINTED TIP TAKING ON SELF-SIMILARITY FRACTAL PATTERN TWO-DIMENSIONALLY DISTRIBUTED AT DENSITY SUITED FOR ELECTRON EMISSION ON BORON NITRIDE FILM FRONT SURFACE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
窒化ホウ素膜表面に先端の尖った結晶が自己相似性フラクタル模様を呈して電子放出に適った密度で二次元分布してなる窒化ホウ素薄膜エミッターとその製造方法 - 特許庁
To provide the producing method of liposome using lipid pattern for efficiently forming liposome of a uniform shape from a uniformly patterned lipid film by electro-formation.例文帳に追加
エレクトロフォーメーションにより均一な形のパターン化された脂質フィルムから均一な形のリポソームを効率的に形成することができる脂質パターンを用いたリポソームの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an ion implantation method for using an ion implantation mask which is stable even with a fine pattern without fall to form a good annular ion implantation region.例文帳に追加
微細パターンでも安定して倒れの生じないイオン注入マスクを用い、良好な環状のイオン注入領域を形成することができるイオン注入方法を提供する。 - 特許庁
The photosensitive polyimide precursor composition contains a polyimide precursor (A), a photopolymerization initiator (B) and a plasticizer (C) and the pattern forming method and the electronic component using the same are provided.例文帳に追加
(A)ポリイミド前駆体、(B)光重合開始剤及び(C)可塑剤を含有してなる感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターンの製造法並びに電子部品。 - 特許庁
The method for fabricating the information recording medium includes a step of forming nanorod recording layers on a substrate by sputtering using a mask having a prescribed aspect ratio and a nanorod pattern.例文帳に追加
基板に、所定の縦横比とナノロッドパターンとを有するマスクを利用し、スパッタリング法でナノロッドによるナノロッド記録層を形成する段階を含む情報記録媒体の製造方法である。 - 特許庁
NEW OXIME ESTER COMPOUND, RADICAL POLYMERIZATION INITIATOR CONTAINING THE SAME, POLYMERIZABLE COMPOSITION, NEGATIVE TYPE RESIST BY USING THE SAME AND METHOD FOR FORMING IMAGE PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加
新規オキシムエステル化合物およびそれを含んでなるラジカル重合開始剤および重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法 - 特許庁
To provide an ink suitable for printing and forming an electrode pattern on a plasma display panel (PDP) electrode substrate, and a method for forming the PDP electrode substrate by printing.例文帳に追加
プラズマディスプレイパネル(PDP)の電極基板における電極パターンを印刷形成するのに適したインキ、および印刷法によってPDPの電極基板を製造する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a radiation curing composition having excellent pattern accuracy and to provide an optical waveguide and a method for manufacturing an optical waveguide by using the above radiation curing composition.例文帳に追加
優れたパターン精度を有する放射線硬化性組成物、およびこのような放射線硬化性組成物を用いた光導波路ならびに光導波路の製造方法を提供する。 - 特許庁
The aligning method successively transfers the pattern of a mask to the mask while synchronously scanning the mask and a reticle in a state of irradiation with pulse-like exposure light.例文帳に追加
本発明の露光方法は、パルス状の露光光を照射した状態でマスクとレチクルとを同期走査させつつ、マスクのパターンを逐次マスク上に転写する露光方法である。 - 特許庁
To provide a composition containing a water-soluble polymer which reacts with a photoresist layer to form a coating film along a surface thereof, and a photoresist pattern forming method using the composition.例文帳に追加
フォトレジスト層と反応してその表面に沿ってコーティング膜を形成することができる水溶性重合体を含む組成物、及びこれを用いたフォトレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
This pattern forming method forms a barrier film 103 containing a polymer and a bridging agent on the resist film 102 of a substrate 101 to make this polymer cause a bridging reaction by heat.例文帳に追加
パターン形成方法は、基板101の上に形成したレジスト膜102の上に、ポリマーと該ポリマーに熱により架橋反応を生じさせる架橋剤とを含むバリア膜103を形成する。 - 特許庁
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