「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(361ページ目) - Weblio英語例文検索

The pattern forming method comprises the steps of: transferring a pattern formed on an original plate to a plurality of chip regions under different transfer conditions; segmenting each of the chip regions into a plurality of sections; determining optimum transfer conditions for each of segment sections corresponding to each of the chip regions; and transferring the pattern on a wafer using the optimum transfer conditions determined for each of the segmented sections.例文帳に追加

原板に形成されたパタンを互いに異なった転写条件で複数のチップ領域に転写する工程と、各チップ領域それぞれを複数の領域に分割する工程と、複数のチップ領域の互いに対応する分割領域ごとに最適な転写条件を求める工程と、分割領域ごとに求められた最適な転写条件を用いてウエハ上にパタンを転写する工程と、を含む。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes a step of forming a resist pattern on a surface to be processed by forming a resist film on the surface using the resist composition for immersion exposure, irradiating the resist film with exposure light by immersion exposure, and developing it, and a step of transferring the pattern to the surface to be processed by etching through the resist pattern as a mask.例文帳に追加

本発明の半導体装置の製造方法は、被加工面上に、本発明の前記液浸露光用レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成した後、該レジスト膜に対して液浸露光により露光光を照射し、現像することによりレジストパターンを形成するレジストパターン形成工程と、該レジストパターンをマスクとしてエッチングにより前記被加工面にパターンを転写するパターン転写工程とを少なくとも含む。 - 特許庁

To provide a casting pattern reducing labortime for forming a cavity during casting by a casting pattern and thus realizing drastic reduction of the number of production processes, and also provide a production method for the casting pattern which is formed with high accuracy and efficiency in accordance with a product to be casted even when it has especially large and complicated shape and realizes drastic reduction of production cost in casting production.例文帳に追加

鋳造模型によって鋳型中にキャビティを造形する手間を省くことで、鋳造工数の大幅な削減を実現する鋳造模型と、鋳造される製品が特に大型で複雑形状のものでも、それを象って製作する非常に高精度でかつ能率的に製作可能として、模型製作に伴う大幅なコスト低減を実現できる鋳造模型の製造方法を提供する。 - 特許庁

The conductor pattern forming method comprises the steps of forming a plurality of copper patterns 110 on one surface of a substrate 100; pressing a part of the copper patterns 110 from the thickness direction to thereby form partly wider regions 112 on the copper patterns 110; making solder powder adhere to each copper pattern 110; and melting the solder powder on the copper pattern for the formation of solder plating having bumps.例文帳に追加

導体パターンの形成方法は、基板１００の一方の面上に複数の銅パターン１１０を形成する工程と、各銅パターン１１０の一部を厚さ方向から押圧し、銅パターン１１０の一部の幅広領域１１２を形成する工程と、各銅パターン１１０上に半田粉末を付着させる工程と、銅パターン上の半田粉末を溶融し、隆起を有する半田めっきを形成する工程とを有する。 - 特許庁

The evaluation method of the resist composition, which is used in the resist pattern forming method including a process of immersion exposure, includes forming of a resist film, selectively exposing, performing a treatment in which the resist film is brought into contact with a immersion solvent used in the process of immersion exposure, baking after exposure (PEB), developing, and evaluating the obtained resist pattern formation performance.例文帳に追加

浸漬露光する工程を含むレジストパターン形成方法に用いられるレジスト組成物の評価方法であって、 レジスト膜を形成し、選択的露光し、前記レジスト膜に前記浸漬露光する工程に用いる浸漬溶媒を接触させる処理を行い、露光後加熱（ＰＥＢ）し、現像し、得られたレジストパターン形成性能を評価することを特徴とするレジスト組成物の評価方法。 - 特許庁

To provide an insulating resin with excellent adsorptive properties to a plating catalyst or a precursor thereof and forming an insulating resin layer with excellent resistance to a plating solution; an insulating resin layer-forming composition comprising the insulating resin; a laminate easily forming a metal pattern; a method for manufacturing a surface metal film material using the laminate; and a method for manufacturing a metal pattern material.例文帳に追加

めっき触媒又はその前駆体に対する吸着性に優れ、めっき液耐性に優れる絶縁性樹脂層を形成しうる絶縁樹脂及び該絶縁性樹脂を含んでなる絶縁性樹脂層形成用組成物、金属パターンを簡易に形成しうる積層体、該積層体を用いた表面金属膜材料の作製方法、金属パターン材料の作製方法の提供。 - 特許庁

A method of forming a nanostructure aggregate includes steps for transferring a nano-pattern from a porous anodized aluminum template to a mask material layer, and growing a nanostructure on an unreformed growth surface of a substrate in regions exposed through the nano-pattern formed in the mask material layer by a bottom-up growth method where the nanostructure is composed of nano-rings or nano-doughnuts.例文帳に追加

多孔質陽極酸化アルミニウムテンプレートからマスク材層にナノパターンを転写し、マスク材層のナノパターンを介して露出された領域において基板上にボトムアップ成長法によって基板の未改質成長面上に形成されたナノ構造体を成長させ、前記ナノ構造体が、ナノリング又はナノドーナツからなることを特徴とするナノ構造体集合体を製造する方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a reflective mask having a light-shielding region where an absorbing layer is laminated in a periphery of a pattern region, by which a defect can be corrected without leaving a correction mark while preventing decrease in the throughput of the mask manufacture and damages in a normal pattern or a reflection layer, and thereby, a high-quality mask is manufactured, and also to provide a mask blank suitable for the method.例文帳に追加

パターン領域の周辺に吸収層を積層した遮光領域を設けた反射型マスクの製造において、マスク製造のスループットを低下させず、正常パターンや反射層に損傷を与えることなく、修正痕を残さずに欠陥修正を行い、高品質のマスクを製造することができる反射型マスクの製造方法およびそれに適したマスクブランクを提供する。 - 特許庁

In the manufacture of the heater utilizing this method, plural number of heaters, having larget electric resistance of the resistance pattern established larger than the product standards are manufactured, and the heater having the target value outside the standards are adjusted to be smaller by the above method in the electric resistance of the resistance pattern.例文帳に追加

これを利用する発熱体の製造において、抵抗体パターンの電気抵抗値が製品規格値よりも大きく設定したねらい値である発熱体を複数個製造し、そのねらい値を有する規格外の発熱体を、その抵抗体パターンの電気抵抗値を上記方法により小さく調整し、製品規格外の発熱体のすべてを製品規格内の電気抵抗値とすることができる。 - 特許庁

The method for manufacturing organic electroluminescence element provides an advantage that when forming the organic film layer pattern with LITI, the method for manufacturing organic electroluminescence element can adjust incident light having various modes with homogeneity by using the space light modulator, can produce the laser beam having a predetermined mode profile, and can form the organic film layer pattern without using a mask.例文帳に追加

ＬＩＴＩを用いて有機膜層パターンを形成するにおいて、空間光変調器を用いることで、多様な形態を持つ入射光を均質に調節することができ、所望の形態のプロファイルを持つレーザービームを形成することができ、マスクを使わなくても、有機膜層パターンを形成することのできる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供するという利点がある。 - 特許庁

The thin film pattern forming method includes a process spewing out dispersion solution containing a dispersion medium and particulate-like quantum dots which are dispersed into a dispersion medium by an ink-jet method, and making it adhered to a receiving surface with a given pattern, and a process of removing at least a part of the dispersion medium from the dispersion solution adhered to the receiving surface.例文帳に追加

本発明の薄膜パターン形成方法は、インクジェット法により、分散媒と微粒子状の量子ドットとを含み、前記量子ドットが前記分散媒中に分散してなる分散液を吐出し、受け面に所定パターンで付着させる工程と、前記受け面に付着した前記分散液から前記分散媒の少なくとも一部を除去する工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, by which a sufficient electric connection reliability between an internal connecting terminal and the wiring pattern can be secured with respect to the method of manufacturing the semiconductor device in which a semiconductor chip is connected to a wiring pattern in a flip-chip manner and which is nearly as large as the semiconductor chip in plan view.例文帳に追加

本発明は、半導体チップが配線パターンにフリップチップ接続されると共に、平面視した状態で半導体チップと略同じ大きさとされた半導体装置の製造方法に関し、内部接続端子と配線パターンと間の電気的な接続信頼性を十分に確保することができる半導体装置の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a decorative material repairing method which enables the repair of the defective spot of the decorative material with a pattern applied to the surface of a substrate based on pattern data stored in advance by ink-jet coating by producing no feeling of difference from a part other than the defective spot, the decorative material which is repaired by the method and produced, and a decorative material repairing apparatus.例文帳に追加

予め記憶された模様データに基づいて基材の表面に模様が施された化粧材の不良箇所を、その不良箇所以外の部分との違和感を生じさせることなくインクジェット塗装により補修できる化粧材補修方法と、該化粧材補修方法により補修がなされて製造された化粧材、更に化粧材補修装置を提供する。 - 特許庁

To provide an unevenness inspection device, an unevenness inspection method and an unevenness determination method capable of precisely discriminating a pattern change production place from the contrast caused by the difference in the quantity of diffracted light in a pattern having periodicity, especially a substrate like an LCD manufacturing photomask, and also performing an unevenness inspection by simply leading out the change production period thereof.例文帳に追加

周期性のあるパターン、特に、ＬＣＤ製造用フォトマスクのような基板において、回折光量差によるコントラストからパターン変動発生箇所を精度良く識別し、かつ、その変動発生周期を簡便に導出することによって、むら検査を実施することができるむら検査装置、むら検査方法およびむら判定方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a highly refined and reliable printed wiring board and a palladium inactivating treatment liquid therefor, by inactivating a palladium remaining on the surface of an insulation layer as a catalyst so as to improve the insulation property of a circuit pattern, in a method for manufacturing a printed wiring board using an additive method to form the circuit pattern by a copper plated layer formed on the surface of the insulation layer.例文帳に追加

絶縁層の表面に形成した銅めっき層により回路パターンを形成するアディティブ法によるプリント配線板の製造方法において、絶縁層の表面に残留する触媒たるパラジウムを不活性化して回路パターンの絶縁性を向上させ、高精細かつ高信頼性のプリント配線板を得ると共に、そのパラジウム不活性化処理液を提供する。 - 特許庁

To provide: a new conductive paste for intaglio offset printing, which can form an electrode pattern having a sufficient thickness and which excels in three-dimensional shape accuracy and conductivity on a surface of a substrate by increasing a transfer rate in a first transfer process out of an electrode pattern forming processes using an intaglio offset printing method; and a method of manufacturing an electrode substrate using it.例文帳に追加

凹版オフセット印刷法を利用した電極パターンの形成工程のうち、１回目の転写工程での転写率を高めて、基板の表面に、十分な厚みを有し、三次元の形状精度と導電性に優れた電極パターンを形成することができる、新規な凹版オフセット印刷用導電ペーストと、それを用いた電極基板の製造方法とを提供する。 - 特許庁

The optimal designing method of an antenna comprises a step for constituting a rod antenna of a prism or a circular cylinder, a step for generating an antenna element pattern on the side face of the prism or the circular cylinder, and a step for searching the antenna element pattern for optimizing antenna characteristics of the rod antenna using genetic algorithm or a random search method.例文帳に追加

本発明に係るアンテナ最適設計方法は、多角柱又は円柱によって前記ロッド型アンテナを構成する工程と、前記多角柱又は前記円柱の側面上にアンテナ素子パターンを生成する工程と、遺伝的アルゴリズム又はランダムサーチ法を用いて、前記ロッド型アンテナのアンテナ特性が最適となる前記アンテナ素子パターンを探索する工程とを有する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter substrate by simply correcting a black matrix exposure pattern, fabricating an exposure mask and forming a black matrix in a black matrix forming process in which a series of patterning treatments such as pattern exposure with a proximity exposure method on a black photosensitive resin layer on a transparent substrate, a development treatment and so on are conducted.例文帳に追加

透明基板上の黒色感光性樹脂層に近接露光法（プロキシミティー）にてパターン露光し、現像処理等の一連のパターニング処理を行ってブラックマトリクスを形成する工程において、簡易的にブラックマトリクス露光パターンのパターン補正を行って露光マスクを作製してブラックマトリクスを形成するカラーフィルタ基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

According to the method of manufacturing semiconductor device, the method of manufacturing semiconductor device using the Ru film as the electrode is characterised by including the steps of coating a resist on the Ru film, forming a pattern of the relevant resist, etching the Ru film based on the pattern, and removing the resist using simple substance of oxygen gas.例文帳に追加

本発明に半導体装置の製造方法によれば、電極としてＲｕ膜を用いた半導体装置の製造方法において、前記Ｒｕ膜上にレジストを塗布する工程と、当該レジストをパターン形成する工程と、該パターンに基づいて前記Ｒｕ膜をエッチングする工程と、酸素単体ガスを用いてレジストを除去する工程とを包含することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a recorder capable of acquiring a recording position adjusting value without bothering a user by reading out a recording position adjusting pattern recorded on a recording medium and capable of optimally adjusting the recording position by reading out the recording position adjusting pattern with high accuracy, and to provide a method for setting the recording position adjusting value and a recording method.例文帳に追加

記録媒体に記録した記録位置調整用パターンを読み取ることによって、ユーザを煩わすことなく、記録位置を調整するための調整値を取得することができ、しかも記録位置調整用パターンを高精度に読み取って、記録位置を最適に調整することができる記録装置、記録位置調整値の設定方法、および記録方法を提供すること。 - 特許庁

The method of producing the carbon nanotube is carried out by forming a prescribed pattern structure comprising a metallic based catalyst for forming carbon nanotube on the surface of a sapphire single crystalline substrate having R-plane as a crystal face of the surface and orienting and growing the carbon nanotube from the pattern structure by a CVD method in a direction opposed at 180° to the positive c-axis projecting direction on the R-plane.例文帳に追加

表面の結晶面がＲ面であるサファイア単結晶基板の表面に、カーボンナノチューブ生成用金属系触媒からなる所定のパターン構造を形成し、ＣＶＤ法により前記パターン構造から前記Ｒ面における正のｃ軸投影方向の１８０°反対方向を主体にカーボンナノチューブを配向成長させることを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。 - 特許庁

A method of printing the chipless RFID tags having unique shapes includes printing a RFID antenna pattern precursor by using a first printing method (herein, the RFID antenna pattern precursor has a plurality of disconnected wire segments), and printing a conductive ink by using a second printing method so as to mutually connect at least two of the plurality of disconnected wire segments, thereby manufacturing a final RFID antenna having a unique antenna geometric shape.例文帳に追加

第１の印刷法を用いてＲＦＩＤアンテナパターン前駆体を印刷し（ここで、ＲＦＩＤアンテナパターン前駆体は複数の非接続配線セグメントを有する）、第２の印刷法を用いて導電性インクを印刷して、該複数の非接続配線セグメントの少なくとも２つを相互接続し、独特のアンテナ幾何学形状を有する最終ＲＦＩＤアンテナを製造することを包含する独特の形体を有するチップレスＲＦＩＤタグの印刷方法。 - 特許庁

To provide a creating method and apparatus of drawing data for making short the movement distance of a stage that moves in a field unit in pattern drawing due to an electron beam, drawing data, a drawing method, a mask and its manufacturing method, a semiconductor device and its manufacturing method, a program for drawing data creation, and a computer readable record medium where the program is recorded.例文帳に追加

電子線によるパターン描画の際にフィールド単位に移動するステージの移動距離をより短くする描画データの作成方法及び装置、描画データ、描画方法、マスク及びこの作成方法、半導体装置及びこの製造方法、描画データ作成用プログラム及びこのプログラムを記録したコンピュータ読みとり可能な記録媒体を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for forming an electrode or a wiring pattern, which is made of a metal thin film that is uniform and has high adhesiveness, from a solution-free and resin-free raw material containing no solution and no resin component, by using an aerosol deposition method having a different film-formation principle from those of a screen printing method using a conventional metal paste composition, a photo-lithographic method and the like.例文帳に追加

従来の金属ペースト組成物を用いたスクリーン印刷法、フォトリソグラフィー法等とはその成膜原理が異なるエアロゾルデポジション法を用い、溶液や樹脂成分を含まない溶液，樹脂フリーの原料から、均一かつ密着性の高い金属薄膜からなる電極又は配線パターンを形成することができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display manufacturable with improvement of the utility efficiency of raw materials and simplifying the manufacturing process, its manufacturing technology and a means for forming a wiring of thin wires in a wiring forming method using a method of selectively forming a pattern, a thin film transistor manufacturing method, and a display manufacturing method.例文帳に追加

選択的にパターンを形成可能な方法を用いた配線の作製方法、薄膜トランジスタの作製方法、及び表示装置の作製方法に於いて、材料の利用効率を向上させ、作製工程を簡略化して作製可能な液晶表示装置及びその製造技術を提供し、配線の細線化を行う手段を提供する。 - 特許庁

The present invention also encompasses a lithographic structure containing the underlayer prepared from the above composition, a method of making the lithographic structure, and a method of using the lithographic structure to pattern an underlying material layer on a substrate.例文帳に追加

本発明は、本発明の組成物から調製される基層を備えるリソグラフィ構造物、そのようなリソグラフィ構造物を製作する方法、およびそのようなリソグラフィ構造物を用いて基板上の下地材料層をパターン化する方法も含む。 - 特許庁

The production method of the sheet with the magnetic pattern includes the step of applying the magnetic ink produced by the magnetic ink by the production method of the magnetic ink including the step of mixing the magnetic colloid with the silver colloid to one surface of the white sheet substrate.例文帳に追加

磁性体コロイドと銀コロイドを混合する工程を有する磁気インクの製造方法によって製造された磁気インクを、白色系のシート基材の一方の面に塗布する工程を有する磁気パターンを有するシートの製造方法。 - 特許庁

To provide a method capable of reducing the mutual joint of extinctive patterns and/or the joining work with a gating which are manually worked in an improved casting method for the extinctive pattern assembly.例文帳に追加

消失性模型アッセンブリの改良された鋳造方法及び該方法によって作られた模型アッセンブリにおいて、手作業で行われる消失模型の相互の接合及び／又はゲーティングとの接合作業を少なくできる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for preventing the nozzle of an ink discharge head from drying which is able to prevent the drying of the ink discharge head while avoiding the occurrence of the adhering of dried foreign substance on nozzle surface and nozzle clogging, and a pattern printing method using the ink discharge head.例文帳に追加

インク吐出ヘッドの乾燥を防止し、ノズル表面の乾燥異物の付着やノズル詰まりの発生を回避できるインク吐出ヘッドのノズル乾燥防止方法およびそのインク吐出ヘッドを用いたパターン印刷方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist pattern formation method, restraining the occurrence of a droplet blot originating from a liquid for liquid dipping in liquid dipping exposure using a liquid for liquid dipping having a high refractive index, and a radiation-sensitive resin composition used in the formation method.例文帳に追加

高屈折率の液浸用液体を用いた液浸露光において、液浸用液体由来の液滴痕の発生を抑制できるレジストパターン形成方法、及びその形成方法に用いられる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a wiring board that is increased in adhesion between an insulating layer and a wiring pattern and reduced in transmission loss caused by a skin effect, and to provide a method of manufacturing the wiring board and a conductor-laminated board used for the wiring board and method.例文帳に追加

絶縁層と配線パターンとの間における密着性が高く、且つ、表皮効果に基づく伝送損失の少ない配線基板およびその製造方法、ならびに、これらに用いられる導体張板を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a paste application method by which a coating pattern is formed in a prescribed position in a simple and inexpensive fashion and a coating unevenness occurring at the start-up and the stoppage of the coating is eliminated in the application of high viscous paste such as phosphor paste for a PDP by a dispense method.例文帳に追加

ディスペンス法によりＰＤＰの蛍光体ペーストのような高粘度ペーストを塗布する場合に、簡単で安価な方法で所望の位置に塗布パターンを形成し、塗布の開始と終了時点での塗布ムラをなくす塗布方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical device having functions of reflection prevention, wavelength selection, wavelength dispersion and the like by forming a nano pattern by a highly accurate and simple method in a joining portion where patterning is difficult by a conventional lithographic technology and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

従来のリソグラフィ技術ではパターニングが困難な接合部位に高精度でかつ簡便な手法によりナノパターンを形成し、反射防止、波長選択、波長分散などの機能を持たせる光デバイスとその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a printed circuit board using an imprint method for uniformly forming a pattern of a large area by using a plurality of molds, sequentially separating a plurality of the molds and preventing releasing problem between the mold and an insulating layer.例文帳に追加

多数の金型を利用し大面積のパターンを均一に形成して、多数の金型を順次に分離させて金型と絶縁層間の離形問題を防止するためのインプリント法を利用した印刷回路基板の製造方法に関する。 - 特許庁

To obtain a method for forming patterns and a method for manufacturing semiconductor devices, which reduce the lowering of an etching rate accompanying the advance of dry etching and can form an etching pattern with an enhanced aspect ratio for a member to be processed.例文帳に追加

ドライエッチングの進行に伴うエッチング速度の低下を抑え、被加工部材に対しよりアスペクト比の高いエッチングパターンの形成を行うことのできるパターン形成方法及び半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a measuring method for clothes in pattern order tailoring, requiring neither skillfulness nor correction in a measuring of clothes and excellent in product reliability and the like, and to provide a clothes measured by this method.例文帳に追加

洋服の仕立てを行うため、採寸を行うにも、熟練を要さず、修正が不要であると共に、製品の信頼性等に優れたパターンオーダ仕立てにおける衣服の採寸方法およびその採寸用衣服を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition containing an amine imide as a photobase generating agent which efficiently generates an enough strong base even with low exposure, together with a polyoxazole precursor, and to provide a method for manufacturing a relief pattern and a method for manufacturing a heat-resistant coating film.例文帳に追加

低露光量でも十分に強い塩基を効率よく発生する光塩基発生剤としてアミンイミドを、ポリオキサゾール前駆体と併用した感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法及び耐熱性塗膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device and a method extracting a novel attribute having no appearance pattern same to a seed attribute, based on an attribute correlation knowledge, in the device and the method for extracting the novel attribute from a nonstructurized text.例文帳に追加

非構造化テキストから新規属性を抽出するための装置および方法であって、属性相関知識に基づいて、シード属性と同じ出現パターンを有さない新規属性を抽出することのできる装置および方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for reducing impurities in an organic polymer by an easy method, after patterning and curing an organic polymer resin on a substrate and vaporizing a part of the organic polymer resin constituting the obtained pattern by chemical reaction.例文帳に追加

有機ポリマー樹脂を基板上にパターン加工、硬化を行った後、得られたパターンを構成する有機ポリマー樹脂の一部を化学反応によって気化した後、簡便な方法で有機ポリマー中に含まれる不純物を低減する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a magnesium alloy plate polishing method in which any stripe pattern is less conspicuous on a surface of a magnesium alloy plate when the surface of the magnesium alloy plate is subjected to the wet polishing to be smooth, and a magnesium alloy plate produced by the polishing method.例文帳に追加

マグネシウム合金板の表面を平滑に湿式研磨した場合に、その表面に縞模様が目立たないようにすることができるマグネシウム合金板の研磨方法およびその研磨方法によって作製されたマグネシウム合金板を提供する。 - 特許庁

To provide a phase shift mask that prevents the dimension of a pattern transferred to a photoresist from changing even if the exposure frequency increases, a method of manufacturing the phase shift mask, and a method of manufacturing a semiconductor device using the phase shift mask.例文帳に追加

本発明は、フォトレジストに転写されたパターンの寸法が、露光回数が多くなっても変化しない位相シフトマスク、その製造方法、および、その位相シフトマスクを使用した半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a magnetic disk drive and a method for writing servo information to a magnetic disk that are free of a problem even if a ferromagnetic body pattern of a master disk has some errors when real servo information is recorded by magnetic transfer.例文帳に追加

磁気転写で実サーボ情報を記録する場合に、マスターディスクの強磁性体パターンに多少の誤りが存在しても問題の無い磁気ディスク装置の製造方法及び磁気ディスクへのサーボ情報の書き込み方法を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetic recording medium which can be manufactured by a simple method and has high recording density and peeling resistance and whose film thickness and pattern are easily controlled, to provide its manufacturing method and to provide a magnetic recording and reading device using the same.例文帳に追加

簡単な方法で製造することができ、高い記録密度と耐剥離性とを兼ね備え、かつ膜厚およびパターン制御が容易な磁気記録媒体およびその製造方法ならびにそれを用いた磁気記録読取装置を提供する - 特許庁

To provide a correction method for a figure pattern for a semiconductor device and a manufacturing method for a semiconductor device, which can suppress increase in chip area, while resolving the hindrance of securing of gate extruding amount which is brought about by a corner-rounding phenomenon at miniaturization.例文帳に追加

微細化時のコーナーラウンディング現象がもたらすゲート突き出し量確保の阻害を解消しつつも、チップ面積の増大を抑えることができる半導体装置用図形パターンの補正方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

This rod is produced by forming a coating film 2 on the surface of a cylindrical member by a die-coating method, smoothly finishing the surface of the formed coating film 2 and then disposing an interference pattern thin film A on the finished surface of the coating film 2 by a vacuum deposition method.例文帳に追加

管状体の表面にしごき塗装方法によって塗装膜２を形成するとともに、塗装膜２の表面を平滑に表面仕上げを施し、その仕上げ塗装膜面２に真空蒸着法によって干渉薄膜Ａを設けてある。 - 特許庁