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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 23003件
The method includes the steps of creating an antenna array pattern as a computer file, printing the created pattern onto the surface of a transfer paper, placing the printed image surface, in contact with the surface of a material to be etched, and transferring the printed image to the surface of the material to be etched.例文帳に追加
本方法は、コンピュータファイルとしてアンテナアレイパターンを作成するステップと、作成したパターンを転写紙の面上に印刷するステップと、印刷画像面をエッチング対象の材料の表面と接触させた状態で配置するステップと、印刷画像をエッチング対象の材料の表面に転写するステップとを含む。 - 特許庁
Further, the semiconductor package has a semiconductor element mounted on the interposer, and the method of manufacturing the interposer includes a step of forming the conductor pattern on a metal foil of the prepreg formed by bonding the metal foil to the one surface by etching and a step of forming the coating layer so as to cover at least the part of the conductor pattern.例文帳に追加
また、半導体パッケージは、上記インターポーザに半導体素子を搭載しており、インターポーザの製造方法は、片面に金属箔を接合してなるプリプレグの金属箔にエッチングにより導体パターンを形成する工程と、前記導体パターンの少なくとも一部を覆うように被覆層を形成する工程とを有する。 - 特許庁
To manufacture a reticle that can expose only a portion where a pattern is changed on an edge area of a wafer and then to provide a method for manufacturing a semiconductor device wherein a double exposure process is performed by using the reticle to leave the photoresist on the part where the pattern is changed.例文帳に追加
ウエハーの縁領域のうち、パターンの変形が生じる部分のみ露光されるようにレチクルを作製した後、そのレチクルを用いてパターンの変形が生じる部分のみ2重露光することによって、パターンの変形が生じる部分のフォトレジストを残すレチクル及びそれを用いた半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
This method is characterized by manufacturing a diffraction grating with a shape of a rugged pattern in which at least corner parts continue in a curved line by a polishing process using a polisher 5 from a diffraction grating surface 2 consisting of the rectangular rugged pattern shape of a low pass filter 1 as a raw material.例文帳に追加
本発明の回折格子製造方法は、素材であるローパスフィルタ1の矩形形状の凹凸パターン形状からなる回折格子面2から、少なくともコーナ部が曲線で連なる凹凸パターン形状の回折格子を、ポリシャ5を使用したポリシング研磨加工により作製することを特徴とするものである。 - 特許庁
To enhance reliability and productivity of semiconductor devices by preventing anomalous electrostatic charging of a circuit pattern, and controlling electrostatic charge voltage to a desired value uniformly in an electron-beam irradiation region in a method of inspecting the position and the type of defect on a wafer having a circuit pattern using a charged-particle beam during a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加
荷電粒子線を用いて、半導体製造工程途中の回路パターンを持つウエハ上の欠陥の位置や種類を検査する方法において、回路パターンの異常な帯電を防ぎ、電子線照射領域を均一に、所望の帯電電圧に制御し、半導体装置の信頼性および生産性を高める。 - 特許庁
To provide a pattern forming method by a positive-negative reversal in which wet etching using an alkaline etching liquid is performed for a step of finally acquiring a negative image by giving a positive pattern a resistance to an organic solvent used for a composition for forming a reverse film to the degree of necessity, and securing solubility into an alkaline etching liquid.例文帳に追加
ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物に使用される有機溶剤に対する耐性を必要限度で与え、かつアルカリ性エッチング液への溶解性を確保することによって、最終的にネガ像を得る工程をアルカリ性エッチング液によるウエットエッチングで行うポジネガ反転によるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
In the manufacturing method for conductive pattern sheet, a base layer including a metal oxide, a binder and a compound containing a mercapt group or a carboxyl group is provided on a base material, then ink containing metal having a pattern shape is provided over the base layer and then a metal film is formed over formed metal catalytic nuclei.例文帳に追加
基材上に金属酸化物、バインダー、メルカプト基またはカルボキシル基を含む化合物を含有する下地層を設け、該下地層上に金属を含むインクをパターン状に付与し、形成された金属触媒核上に金属皮膜を形成させることを特徴とする導電性パターンシートの作製方法。 - 特許庁
To provide a dye containing curing composition for forming high-resolution pattern images (for instance, pixels) superior light resistance, heat resistance, pattern formation and solvent resistance by suppressing elution to a developing liquid of an exposure part, and to provide a color filter using it and its manufacturing method.例文帳に追加
露光部の染料の現像液への溶出が抑制され、耐光性、耐熱性、パターン形成性(現像性)、および耐溶剤性に優れ、解像度の高いパターン像(例えば画素)を形成することができる染料含有硬化性組成物並びにこれを用いたカラーフィルターおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a rhythm creating device, a rhythm creating method and a rhythm creating program, capable of crating a corrected rhythm pattern by correcting an extraction error of a voice rhythm pattern extracted from human utterance, without spoiling naturalness and expression of human utterance, and even without spending time and effort.例文帳に追加
人間の発声から抽出された音声韻律パターンの抽出誤りを、人間の発声が有する自然性・表現力を損なうことなく、しかも、手間と時間をかけずに修正することにより、修正韻律パターンを生成することが可能な韻律生成装置、韻律生成方法、および、韻律生成プログラムを提供する。 - 特許庁
In the electrically conductive pattern forming method, an electrically conductive layer is formed using a photosensitive composition containing (A) electrically conductive particles, (B) an alkali-soluble resin, (C) a compound containing an ethylenically unsaturated group and (D) a photopolymerization initiator and the electrically conductive layer is exposed and developed to form a pattern.例文帳に追加
(A)導電性粒子、(B)アルカリ可溶性樹脂、(C)エチレン性不飽和基含有化合物および(D)光重合開始剤を含有する感光性組成物を用いて導電層を形成し、当該導電層を露光処理し、当該導電層を現像処理してパターンを形成する導電性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide an organic photoreceptor having high reproducibility of gradation and hardly producing a visible moire pattern, and to provide a method and a device for forming an image in which a moire pattern is hardly visible, high cleaning property for toner is obtained for a long time, and a sharp electrophotographic image can be formed when the above organic photoreceptor and a polymerization toner are used.例文帳に追加
本発明の目的は、階調再現が高く、モアレ縞が目立たない有機感光体、及び該有機感光体と重合トナーを用いた場合に、モアレ縞が目立たず、長期に亘ってトナーのクリーニング性が良好で、鮮鋭な電子写真画像を形成できる画像形成方法、画像形成装置を提供することである。 - 特許庁
A casting of an oilless bushing is formed by a lost foam pattern casting method using a cylindrical lost foam pattern made of a foamed resin having many through-holes at its peripheral wall and graphite is packed into the through-holes disposed at the peripheral wall of the casting and the casting packed with the graphite is subjected to finishing, by which the oilless bushing is formed.例文帳に追加
周壁に多数の貫通孔を有する発泡樹脂製の円筒形消失模型を用いて消失模型鋳造方法によりオイルレスブッシュの鋳物を鋳造し、この鋳物の周壁に設けられた貫通孔に黒鉛を詰め込み、この黒鉛を詰め込んだ鋳物を仕上げ加工してオイルレスブッシュを形成する。 - 特許庁
The method for manufacturing the magnetic recording medium includes at least: a protective layer forming step for forming a protective layer on an irregular pattern of the magnetic recording medium having a magnetic layer with the irregular pattern formed thereon along the irregular shape, and a resin filling step for filling a recess of the protective layer with resin.例文帳に追加
凹凸パターンが形成された磁性層を有する磁気記録媒体の凹凸パターンの上に凹凸形状に添って保護層を形成する保護層形成工程、形成された保護層の凹部に樹脂を充填する樹脂充填工程を少なくとも有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁
In the exposure method for irradiating the pattern images of interference fringes on a sensitive substrate to perform exposure, the pattern images of the interference fringes are formed by using the intensity contrasts of the interference fringes generated when irradiating on an interference position from different angles three or more beams whose wavelengths are identical to each other.例文帳に追加
感応基板上に干渉縞パターン像を照射して露光を行う露光方法において、前記干渉縞パターン像を、同一の波長を有する3つ以上の光束を別の角度から干渉位置に照射した際に発生する干渉縞の明暗により形成することを特徴とする。 - 特許庁
In the method for extending the display having a function for combining a fixed pattern with an input video image and displaying it, which is used for a display device and causes emission luminance deterioration according to display luminance and display time, aging processing of the display is performed at a state that a simple reserve video of the fixed pattern is displayed on the display.例文帳に追加
入力映像に固定パターンを合成して表示する機能を備えた表示装置に用いられかつ表示輝度および表示時間に応じて発光輝度劣化を起こすようなディスプレイの延命化方法において、固定パターンの単純反転映像をディスプレイに表示させた状態で、ディスプレイのエージング処理を行う。 - 特許庁
The method comprises the following practice: Using a production machine where a front roller and a back roller constituting a draft part are driven by separate variable-speed motors respectively, the front roller is speed-varied based on a design pattern DP indicating the variation in the thickness of spun yarn memorized in a memory to produce the objective special yarn SY corresponding to the design pattern DP.例文帳に追加
ドラフトパートを構成するフロントローラとバックローラとがそれぞれ別の可変速モータで駆動される製造装置を使用して、記憶装置に記憶された紡出糸の太さの変化を示すデザインパターンDPに基づいてフロントローラの変速を行ってデザインパターンDPに対応する特殊糸SYを製造する。 - 特許庁
To provide a phenolic resin composition, which shows high elongation even when the composition is applied to a semiconductor device and cured by heat at 250°C or lower, and can be used as an alternative material of a polyimide resin or a polybenzoxazole resin, and to provide a method for producing a cured relief pattern using the composition, and a semiconductor device having the cured relief pattern.例文帳に追加
半導体装置に適用して、250℃以下の熱で硬化させた際でも、伸度が高く、ポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂の代替材料となり得るフェノール樹脂組成物、該組成物を用いた硬化レリーフパターンの製造方法、及び該硬化レリーフパターンを有してなる半導体装置の提供。 - 特許庁
This authentication method is provided with an image acquiring step for acquiring an image of skin of a person to be authenticated (S10), and a collating step for collating a pattern of a pore in the acquired image with a pattern of a pore of a registrant stored beforehand in a database and judging whether the person to be authenticated is the registrant (S18 to S28).例文帳に追加
被認証者の皮膚の画像を取得する画像取得ステップ(S10)と、取得した画像中の毛穴のパターンと、あらかじめデータベースに保存された登録者の毛穴のパターンとを照合し、被認証者が登録者であるか否かを判定する照合ステップ(S18〜S28)とを備える。 - 特許庁
To provide a positive resist composition that forms a resist pattern of favorable shape that exhibits excellent resolution and reduced line width roughness (LWR), a polymeric compound that can be used as a base component of the positive resist composition, a compound that can be used in synthesizing the polymeric compound, and a method of forming a resist pattern.例文帳に追加
解像性に優れ、ラインワイズラフネス(LWR)が低減された良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の基材成分として利用できる高分子化合物、該高分子化合物の合成に利用できる化合物、およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a photosensitive composition which includes a polyurethane resin that has enhanced sensitivity, surface hardness, cold heat shock resistance, plating resistance and insulation properties and unexpectedly has an excellent shape of a permanent pattern and excellent resolution, and to provide a photosensitive film using the photosensitive composition, a photosensitive laminate, a method for forming a permanent pattern, and a printed board.例文帳に追加
感度、表面硬度、冷熱衝撃性、めっき耐性、及び絶縁性が向上し、予想外に永久パターンの形状、及び解像性に優れるポリウレタン樹脂を含む感光性組成物、該感光性組成物を用いた感光性フィルム、感光性積層体、永久パターン形成方法、及びプリント基板の提供。 - 特許庁
To provide a machine translated result selecting system for giving the right analyzed result by preventing a method for giving an unsuitable score to a partial pattern and by preventing the generation of a state that the partial pattern does not exists, which are generated in respect of a specified input source language sentence in a conventional ordinary filtering analysis system.例文帳に追加
従来の通常型フィルタリング解析方式における特定の入力原言語文に対して発生した、部分パターンに対する不適切なスコアの付与法、部分パターンが存在しない状態が発生しないようにして正しい解析結果を与える機械翻訳結果選択方式を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a method suitable for manufacturing a magnetic recording medium provided with the recording magnetic part of a prescribed pattern inside a recording layer with the high flatness of a recording surface, and the magnetic recording medium provided with the recording magnetic part of the prescribed pattern inside the recording layer and suitable for achieving the high flatness of the recording surface.例文帳に追加
所定パターンの記録磁性部を記録層内に有し且つ記録面の平坦性の高い磁気記録媒体を製造するのに適した方法、および、所定パターンの記録磁性部を記録層内に有し且つ高い記録面平坦性を実現するのに適した磁気記録媒体を、提供すること。 - 特許庁
The method of manufacturing the semiconductor includes steps of: supervising the variation of the pattern dimension whenever the pattern forming is performed to a plurality of wafers 14, measuring the light exposure/focal permission region from the monitor result, and sequentially updating the center of its light exposure/focal permission region as a new target value over the light exposure and the focus.例文帳に追加
複数枚のウェーハ14に対するパターン形成が実行されるごとにパターン寸法の変動を監視し、その監視結果から露光量・フォーカス許容領域を求め、その露光量・フォーカス許容領域の中心を露光量およびフォーカスに対する新たな目標値として逐次に更新していく。 - 特許庁
The method for manufacturing a chip LED light emitting device comprises a step of forming a through hole board having a through hole part and mounting a chip LED on an electrode pattern and a reflecting plate covering an LED part including the pattern on the board, having a recess 7a formed to draw in its shape a part of a parabolic line and adhering a buffer material.例文帳に追加
スルーホール部を有し、電極パターン上にチップLEDを搭載したスルーホール基板およびスルーホール基板上の電極パターンを含めたチップLED部分を覆い、その形状が放物線の一部を描くように形成した凹所7aを有し、緩衝材を貼り付けた反射板を作成する。 - 特許庁
In the display method of the glass and the coaster, the transparent glass with a pattern on the side face is put in the container whose side face is transparent or translucent, the flexible coaster with a color pattern is inserted into the transparent glass by being bent and slid along the side face of the glass, and the glass and the coaster are displayed.例文帳に追加
本発明のグラスおよびコースターの陳列方法は、側面が透明若しくは半透明の容器に、側面に図柄の施された透明のグラスを入れ、透明のグラスの内側に柔軟性のある色彩模様の施されたコースターをグラスの側面に沿わせるように屈曲させて挿入し、陳列することを特徴とする。 - 特許庁
A method of manufacturing a substrate for liquid crystal display device, on which a protrusion for liquid crystal divided alignment is formed, is characterized by containing a stage for forming the protrusion by exposing and developing a photosensitive resin via a mask having a pattern corresponding to the protrusion and gradation of light transmittance in the pattern.例文帳に追加
液晶分割配向のための突起が形成された液晶表示装置用基板の製造方法であって、突起に対応したパターンを有し、かつ該パターン内で光透過率に階調をもたせたマスクを介して感光性樹脂を露光、現像することによって突起を形成する工程を含むことを特徴とするものである。 - 特許庁
To effectively cancel particularly a portion of DC offset and to avoid deviation accompanying distortion of distribution of light in the length direction of a pattern when return light is incident obliquely with respect to the direction of the detection pattern of an optical detector, when obtaining a tracking error signal by a push and pull method in an optical disk device.例文帳に追加
光ディスク装置において、プッシュプル法でトラッキングエラー信号を得る際に、とくに直流オフセット分を有効にキャンセルするとともに、光検出器の検出パターン方向に対して斜めに戻り光が入射する場合におけるパターンの長さ方向における光の分布の歪みに伴う偏差を回避する。 - 特許庁
To provide a negative resist composition which satisfies high sensitivity, high resolution, good heat resistance of a pattern, suppression of outgassing and reduction of surface roughness in microfabrication of a semiconductor device, and also to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加
半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン耐熱性、アウトガスの低減、表面荒れの低減を満足するネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
This method includes a step of preparing a pattern forming material having a wettability pattern composed of lyophilic areas and liquid repellent areas on the surface of a substrate, a step of applying an inspection liquid to the lyophilic areas, and a step of inspecting the inspection liquid applied to the lyophilic areas.例文帳に追加
基材表面に親液性領域と撥液性領域とからなる濡れ性パターンを有するパターン形成体を準備する工程と、上記親液性領域に検査液を付着させる工程と、上記親液性領域に付着した検査液を検査する工程とを有するパターン形成体の検査方法を提供する。 - 特許庁
To provide a positive photoresist composition which gives a resist pattern having high sensitivity and high resolution as ≤0.15 μm and having a square cross section in the production of a semiconductor device and to provide a positive photoresist composition showing small dimensional shift when a pattern is transferred to a lower layer in an oxygen plasma etching process of a two-layer resist method.例文帳に追加
半導体デバイスの製造において高感度且つ0.15μm以下の高解像力を有し、矩形形状を有するレジストパターンを与えるポジ型フォトレジスト組成物、2層レジスト法において酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型フォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a thin film transistor which easily realizes a fine electrode pattern, and forms so that a substrate front surface and an electrode pattern front surface may turn into the same plane, thereby laminating an insulating film which is laminated on the upper surface of the electrode, and which can, as a result, lower the drive voltage of a transistor.例文帳に追加
微細な電極パターンを容易に実現し、かつ基材表面と電極パターン表面とが同一平面となるように形成することにより、電極の上部に積層する絶縁膜を薄膜化することができ、その結果トランジスタの駆動電圧を下げることが出来る薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁
The device and manufacturing method of the device, wherein a first conductive layer contacting a semiconductor area is formed, an insulating layer is formed on the first conductive layer in a coating process, a mask pattern is formed by radiating a laser beam to a part of the insulating layer, etching is performed with the mask pattern as a mask to form a divided first conductive layer.例文帳に追加
本発明は、半導体領域に接する第1の導電層を形成し、第1の導電層上に絶縁層を塗布法により形成し、絶縁層の一部にレーザ光を照射してマスクパターンを形成し、前記マスクパターンをマスクとしてエッチングして、分割された第1の導電層を形成することを特徴とする。 - 特許庁
This method for evaluating the etching accuracy comprises forming a test pattern 2 for measuring resistance including test patterns 21-24 each with a predetermined width and a space between lines arranged in rows and columns on all over the test substrate, measuring a resistance value after etching, and assuming a finished state of a circuit pattern by converting the resistance value into the widths of the line.例文帳に追加
縦、横に配列された所定線幅および線間のテストパターン21〜24を含む抵抗測定用テストパターン2をテスト基板の全面にわたって形成し、エッチング後に抵抗値を測定し、その抵抗値を線幅に換算して回路パターンの仕上がり状態を想定しエッチング精度を評価する。 - 特許庁
The method of manufacturing the circuit substrate includes a step of disposing the chip 12 in a through hole 11A provided in the aperture substrate 11 corresponding to the height of the chip 12, and a step of forming a wiring pattern 13 on the aperture substrate 11 and wiring the wiring pattern 13 to the electrode 12A on the chip 12.例文帳に追加
チップ部品12の高さに対応させて開口基板11に設けた貫通穴11A内に、チップ部品12を配置する工程と、開口基板11上への配線パターン13の形成及び該配線パターン13とチップ部品12上の電極12Aとの結線を行う工程とを有している。 - 特許庁
The method has a step of detecting a pattern matching each lane based on a specific pit string, a step of determining a delay quantity to be added to one or more lanes which have detected the pattern matching, and a step of reading a received signal from a received signal buffer of one or more lanes according to the delay quantity.例文帳に追加
当該方法は、前記レーン毎に特定のビット列に基づきパターンマッチングを検出する段階、前記パターンマッチングが検出された1又は複数のレーンに付加すべき遅延量を定める段階、及び前記遅延量に従い、前記1又は複数のレーンの受信信号バッファから受信信号を読み出す段階、を有する。 - 特許庁
In this method for image forming, a polarization reversal pattern based on image information is formed on the ferroelectric substance 2, an electrostatic latent image is obtained by means of surface charge in accordance with the polarization reversal pattern and, therein, inorganic ferroelectric oxide such as LiNbxTa1-xO3 (0≤x≤1) is used as the ferroelectric substance 2.例文帳に追加
強誘電体2に画像情報に基づいた分極反転パターンを形成し、この分極反転パターンに対応した表面電荷によって静電潜像を得る画像形成方法において、強誘電体2としてLiNb_xTa_1−xO_3 (0≦x≦1)等の無機強誘電体酸化物を用いる。 - 特許庁
To provide a photosensitive resin composition which ensures excellent sensitivity even when applied to an LDI (laser direct imaging) system, has satisfactory storage stability, and enables to form a resist pattern having good resist shape free of undercut and overhang, a photosensitive film, a resist pattern forming method and a permanent resist.例文帳に追加
LDI方式に適用した場合でも優れた感度が得られ、且つ、充分な保管安定性を有し、アンダーカットやオーバーハング等のない良好なレジスト形状を有するレジストパターンを形成することができる感光性樹脂組成物、感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及び永久レジストを提供する。 - 特許庁
The method is characterized in that: (a) a material is directed to a layer of a pattern generator device to form a coating on the layer; and (b) at least a part of the material is prevented from reaching the layer in the step (a) so as to generate a trapezoidal profile of reflected light from the coating on the pattern generator.例文帳に追加
(a)材料をパターンジェネレータ装置の層に向かって、該層上にコーティングを形成するように方向付け、(b)パターンジェネレータ上のコーティングから反射する光の形状が台形になるようにステップ(a)の間に少なくとも前記材料の一部が層に到達するのを妨げることを特徴とする、方法。 - 特許庁
The conductive pattern manufacturing method irradiates a laser beam L of an ultrashort pulse whose width is less than 1 picosecond in a predetermined pattern to a light-permeable conductive layer a including an ultrafine inorganic conductive fiber provided in at least one side of an insulating base material 11 via condensing means 42.例文帳に追加
本発明の導電パターンの製造方法は、絶縁性基材11の少なくとも一方の面に設けられた、極細の無機導電繊維を含む光線透過性導電層aに、集光手段42を介してパルス幅1p秒未満の極短パルスのレーザ光Lを所定のパターンで照射する。 - 特許庁
This method for selling a medium whose purchase is designated by using a computer offers a plurality of kinds of purchase pattern information corresponding to the purchase condition of the user, and enables a customer to select and input one pattern from them in performing an input operation to purchase or reserve the purchase of the medium.例文帳に追加
この発明は、コンピュータを利用して購入指定される媒体の販売を行う媒体販売方法であって、前記媒体を購入または購入予約する入力操作時に、購入条件に対応した複数種類の購入パターン情報を呈示して選択入力させることを特徴とする。 - 特許庁
The method for manufacturing an exposure mask includes: a step S1 of patterning a light shielding film 2 formed on a quartz substrate 1 to form a light shielding pattern 2c; and a step S4 of directly measuring the level difference H from the surface of the quartz substrate 1 to the upper face of the light shielding pattern 2c and obtaining the measured value of the level difference H.例文帳に追加
石英基板1上に形成された遮光膜2をパターニングして遮光パターン2cを形成するステップS1と、石英基板1の表面から遮光パターン2cの上面までの段差Hを直接測定して、該段差Hの実測値を得るステップS4と、を有することを特徴とする露光用マスクの製造方法による。 - 特許庁
In the method for manufacturing an optical device including a step of forming a pattern having ridge lines on a raw material by using a die, the raw material is softened and then the raw material in the softened state is pressurized to such a degree that the raw material does not intrude into the deepest part of the die corresponding to the ridge line so as to form the pattern.例文帳に追加
型で素材に稜線を持つパターンを成形する段階を含む光学素子の製造方法であって、前記素材を軟化状態にし、該軟化状態の素材に対して前記型の前記稜線に対応する最深部に前記素材が入り込まない程度の圧力を加えて前記パターンを成形する。 - 特許庁
To perform mechanical adhesion and electrical jointing of both boards, without forming any via holes on the multilayer board in a method for connecting the multilayer board where pluralities of layers where a conductor pattern is formed are laminated for adhesion, and one flexible board where the conductor pattern is formed.例文帳に追加
導体パターンが形成された複数の層を積層し接着してなる多層基板と、導体パターンが形成された1枚のフレキシブル基板とを接続する基板の接続方法において、多層基板にビアホールを形成することなく、両基板の機械的接着と電気的接合とを同時に行えるようにする。 - 特許庁
The method for manufacturing optical element is provided with: a metal layer-forming process of forming a metal layer 2 on a substrate 11A made of a dielectric; and a groove pattern forming process of forming a linear groove pattern 13 with a prescribed array by electric discharge machining for the metal layer 2.例文帳に追加
本発明の光学素子の製造方法は、誘電体からなる基板11A上に金属層2を形成する金属層形成工程と、前記金属層2に対して、放電加工により線状の溝パターン13を所定配列で形成する溝パターン形成工程と、を具備してなることを特徴とする。 - 特許庁
This manufacturing method uses the photomask 7 which has a pattern A for diffuse reflection area formation formed inside and a transparent pattern B formed outside and the exposure is carried out after the surface of the substrate 1 is coated with the positive photoresist with which a light-absorbing material having light absorptivity in a sensitive wavelength range is mixed.例文帳に追加
この製造方法では、内側に拡散反射領域形成用パターンAが外側に透明パターンBが形成されたフォトマスク7を用い、基板1の表面上に感光波長域に対して吸光性を有する吸光性材料が混入したポジ型のフォトレジストを塗布してから露光を行う。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing cylinders for intaglio printing capable of appropriately forming a fine pattern on a surface of the cylinder for intaglio printing, transferring the fine pattern required for printable electronics and a nanoimprint, using the cylinder and performing the intaglio printing at high productivity, and to provide a cylinder for intaglio printing.例文帳に追加
凹版印刷用のシリンダの表面に微細パターンを適切に形成できるとともに、このシリンダを用いてプリンタブルエレクトロニクスやナノインプリントで必要とする微細パターンを転写することが可能で生産性高く凹版印刷できる凹版印刷用シリンダの製造方法及び凹版印刷用シリンダを提供する。 - 特許庁
To provide a dry etching method with which no undercut occurs and a working shape difference hardly occurs between an isolate pattern and a congestion pattern, in the step of selectively removing a chemical compound semiconductor layer containing neither Al nor In and laminated on a chemical compound semiconductor layer containing either Al or In.例文帳に追加
AlもしくはInを含む化合物半導体層の上に積層されたAlもしくはInを含まない化合物半導体層を選択的に除去する工程において、アンダーカットが生じず、且つ、孤立パターン部と密集パターン部における加工形状差の生じにくい、ドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁
The conductive film 131 consisting of an ITO film is formed on the surface of a lower-side planar member 130 by a sputtering method and in order to separate a wiring pattern part and a planar pattern part for position detection electrically, the conductive film at the boundary is separated linearly by laser work.例文帳に追加
下側面状部材130の表面にスパッタ法によりITO膜からなる導電膜131を形成し、配線パターン該当部と位置検出用の面状パターン部とを電気的に分離するため、当該境界にある導電膜をレーザ加工により線状に剥離して絶縁部1311〜1314を形成する。 - 特許庁
To provide a method for performing an etching processing by using a resist film when a pattern of an organic film is formed or when a pattern of a thin film, which is formed on the organic resin film, is formed and removing the resist film without swelling the organic resin film in a manufacture of a semiconductor element substrate having the organic resin film.例文帳に追加
有機樹脂膜を有する半導体素子基板の作製において、有機樹脂膜のパターン形成時、または、これらの有機樹脂膜上に形成される薄膜のパターン形成時にレジスト膜を用いたエッチング処理を行った後、有機樹脂膜を膨潤させることなくレジスト膜を除去する方法について提供する。 - 特許庁
After a dot pattern with dots separated from one another is formed by landing the droplets of ink at a predetermined interval by the inkjet method, droplets of the ink are landed on areas between the respective dots of the dot pattern, and thereby at least a partial region other than the edge parts out of first and second electrode patterns is formed.例文帳に追加
そして、インクジェット法によりインクの液滴を所定間隔で着弾させることによりドット間が離隔したドットパターンを形成した後に、該ドットパターンの各ドット間に対してインクの液滴を着弾させることで、第1および第2電極パターンのうちのエッジ部以外の少なくとも一部の領域を形成する。 - 特許庁
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