「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(367ページ目) - Weblio英語例文検索

The injection molding method is characterized in that a plating catalyst is applied to the surface of a molded product from the groove having a plating catalyst inflow circuit-like pattern of an injection mold at the time of injection molding using the injection mold having the groove having the plating catalyst inflow circuit-like pattern provided to its inner surface.例文帳に追加

内面にめっき触媒流入用回路状パターンの溝を有する射出成形用金型を用い、射出成形時に前記射出成形用金型のめっき触媒流入用回路状パターンの溝よりめっき触媒を成形品表面に付与することを特徴とする射出成形方法。 - 特許庁

To provide a conductive metal paste, and its manufacturing method, containing stable metal colloid particles and endowed with superb adhesiveness by cold cure and conductivity, a forming method of a conductive pattern utilizing the above conductive metal paste, as well as an additive for the conductive metal paste and its manufacturing method.例文帳に追加

本発明は、安定な金属コロイド粒子を含有し、低温硬化で良好な接着性、導電性を有する導電性金属ペースト及びその製造方法、上記導電性金属ペーストを利用した導電性パターンの形成方法、並びに、導電性金属ペースト用添加剤及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for correcting a defect of a photomask capable of acquiring an excellent cross-sectional shape at the edge part of a pattern of an absorption layer or a light blocking layer after dark defect correction, a method for manufacturing a photomask using it, and a photomask defect correction device for performing the method.例文帳に追加

本発明は、黒欠陥修正後、吸収層または遮光層のパターンの端部にて良好な断面形状が得られるフォトマスクの欠陥修正方法、およびそれを用いたフォトマスクの製造方法、それを実施するためのフォトマスクの欠陥修正装置を提供することを主目的とする。 - 特許庁

This method eliminates the necessity of using a photolithography method in forming a wiring using a liquid material by an inkjet method, so that manufacturing cost is suppressed and on-demand performance is prevented from being impaired because the concave structure is formed based on wiring pattern data before forming the wiring with the liquid material.例文帳に追加

本発明によれば、インクジェット法等により液体材料を用いて配線を形成するに当たりフォトリソ法を用いる必要が無いためコストを抑えることが可能となり、液体材料により配線を形成する前に、配線パターンデータに基づいて凹構造を形成するためオンデマンド性を損なうことも無い。 - 特許庁

To provide a surface treatment method for a stainless steel substrate which secures the adhesion between an organic resist pattern formed on the surface of a stainless steel substrate and the stainless steel surface and facilitates the peeling of a thin film deposited on the stainless steel substrate regarding the method of producing a thin film member by an electroforming method using the stainless steel substrate.例文帳に追加

ステンレス基板を用いた電鋳法による薄膜部材の製造方法に関して、該ステンレス基板表面に形成した有機レジストパターンと該ステンレス表面との密着を確実にし、且つ該ステンレス基板上に形成した薄膜の剥離性を容易にするステンレス基板の表面処理方法を提供する。 - 特許庁

Since a method for forming a pattern is not accompanied by the volume contraction of the resist mask, heating is hardly required and the method is accompanied by large viscosity lowering, and moreover since the plane size of the resist mask is enlarged by a simple method before the second etching, and the resist mask can be formed with proper adhesion, thus easily forming a wiring 11 having a forward-tapered structure.例文帳に追加

レジストマスクの体積収縮を伴わず、加熱をほとんど必要とせず、しかも大きな粘度低下を伴うので、２回目のエッチングの前にレジストマスクの平面寸法を簡便な方法でもって大きく、しかも密着性良く形成出来るので順テーパー構造の配線１１が容易に形成できるようになる。 - 特許庁

To provide a polyimide screen printing varnish composition and a polyimide paste composition excellent in dense fine pattern design and continuous printability by screen printing method without using any photoresist method and photoprinting method and capable of easily forming adhesive layer or protective layer with high heat resistance and high electrical insulation.例文帳に追加

フォトレジスト法及びフォトプリント法を用いずに、スクリーン印刷法により、緻密な微細パターン形状及び連続印刷性に優れており、耐熱性、高絶縁性に優れた接着層または保護層を容易に形成することができるポリイミドスクリーン印刷ワニスの組成物及びポリイミドペースト組成物の提供すること。 - 特許庁

To provide a printing method which can stably produce printed patterns good in pattern accuracy and results in method of manufacturing organic functional elements, by readily clarifying the relation between ink containing organic functional materials suitable for printing conditions and letterpress, when an organic functional element is made by letterpress method.例文帳に追加

凸版印刷法によって有機機能性素子を形成する際に、容易に印刷条件に適した有機機能性材料を含むインキと、印刷用凸版の関係を明らかにすることにより、安定してパターン精度の良い印刷パターンを形成できるような印刷方法、ひいては有機機能性素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a multi-tank electrolytic copper plating method for quickening the speed of electrolytically plating an electrolytic plating layer on the surface of a conductive composition layer which includes silver particles and resin binder and is formed in a pattern shape on a substrate sheet, and to provide a method for manufacturing an electromagnetic wave shielding material with satisfactory productivity by using the multi-tank electrolytic copper plating method.例文帳に追加

基材シート上に銀粒子と樹脂バインダを含みパターン状に形成された導電性組成物層の表面に電解銅めっき層を電解めっきする速度を速くできる多槽電解銅めっき方法と、この方法を利用して電磁波遮蔽材を生産性よく製造できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a calculation method which predicts design of clothing accessories, preparation of a paper pattern, reproduction of a three-dimensional shape after sewing and the wearing state of by a human body on the basis of a geometric or dynamic calculation method, and a display method for observing and evaluating its state without preparing a real dress.例文帳に追加

衣料服飾品類のデザイン、型紙の作成、縫製後の立体形状の再現、人体への着装状態を現実の服を作成することなく、幾何学的あるいは、力学的な計算方法に基づいて予測する計算方法と、その状態を観察、評価するための表示方法を提供すること。 - 特許庁

A laminated LC filter 31 is set so as to arrange the folded parts 64a-71a of the external electrodes 64-71, which are constituted by attaching and printing conductive paste, within a region of the folded electrodes 51-58 that are formed by a pattern printing method, a photolithography method, or a thin film forming method.例文帳に追加

積層型ＬＣフィルタ３１は、パターン印刷法、フォトリソグラフィ法もしくは薄膜形成法によって形成された折り返し電極５１〜５８の領域内に、導電性ペーストの付与焼付けによって形成された外部電極６４〜７１の折り返し部６４ａ〜７１ａを配設するように設定されている。 - 特許庁

To provide a method for obtaining a number of amplification products of nucleic acids at one time from a pair of primer sets when a nucleic acid is amplified through applying the PCR method in a method for detecting nucleic acid mutation which detects the nucleic acid mutation from a dissociation curve of a target double strand nucleic acid to a single strand or a dissociation pattern.例文帳に追加

対象２本鎖核酸の１本鎖への解離曲線あるいは解離パターンから核酸変異を検出する核酸変異検出法において、ＰＣＲ法を応用して核酸増幅を行う場合に一対のプライマーセットから一度に数多くの核酸増幅産物を得る方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new authenticity discrimination method capable of performing not only the check of existence of a hidden pattern which is performed by an authenticity discrimination method based on conventional technology but also the verification of contents and to provide an authenticity discrimination device suited to the new authenticity discrimination method.例文帳に追加

従来技術における真正性識別方法が、隠しパターンの有無を確認するに止まっていたのを、内容の検証をも可能化する、新たな真正性識別方法を提供すること、および、そのような真正性識別方法に適した真正性識別装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device capable of forming a low-resistance metallic semiconductor contact with an excellent reproducibility and excellent adhesive properties, by using a lift-off method proper to the formation of a fine pattern without an oxidation process and a heat treatment process; and to provide the semiconductor device manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加

酸化工程や熱処理工程を行うことなく、微細パターン形成に適したリフトオフ法を用いて低抵抗金属半導体接触を密着性良く、かつ再現性良く形成することが可能な半導体装置の製造方法及びその製造方法により製造された半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a colored composition which has high sensitivity and excels in pattern profile even with a high coloring material content or a large film thickness in an excimer laser exposure method at a specific wavelength, to provide a method of manufacturing a color filter using the same, and to provide a color filter manufactured by the method and a color filter using the composition.例文帳に追加

特定の波長のエキシマレーザ露光方式において、色素含有量が高い、あるいは膜厚が厚くとも、高感度であると共に、パターン形状に優れた着色組成物、それを用いたカラーフィルタの製造方法、およびその方法により製造されるカラーフィルタとそれを用いたカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an optical waveguide for easily forming a core part (optical path) having high optical transmission performance, wide flexibility of designing a pattern and high-dimensional accuracy using an easy method, and to provide an optical waveguide manufactured by the method, and an optical waveguide structure having the optical waveguide.例文帳に追加

本発明の目的は、光伝送性能が高く、また、パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができる光導波路の製造方法、この製造方法により製造された光導波路、および、これを備えた光導波路構造体を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for creating writing data for electron beam exposure and electron beam writing, and a method for manufacturing a photo mask, an X-ray mask, and a mask for charged beam projection aligning for creating a mask pattern exactly same as a designed value with an existing low accelerating voltage electron beam writing system by a variable shaped method.例文帳に追加

既存の低加速電圧の可変成形法の電子線描画装置を用いて、設計値通りのマスクパターンを作成するための、電子線露光用描画データの作成方法、電子線描画方法及びフォトマスク、X線マスク及び荷電ビーム投影露光用マスク作製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the cleaning method, at first, superheated steam is sprayed from a steam nozzle to the fine pattern surface, thereby, steam is caused to penetrate to the inner part of fine grooves and particles are moistened by dew condensation.例文帳に追加

本発明の洗浄方式は、まず初めに微細パターン面に蒸気ノズルから過熱水蒸気ガスを噴射して微細溝内部に蒸気を侵入させ、結露によってパーティクルを湿潤させる。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition having high sensitivity, capable of forming a rectangular pattern and ensuring less residue in an unexposed portion, and provide a color filter using the curable composition, and a method for producing the color filter.例文帳に追加

高感度で、且つ、矩形なパターン形成が可能であり、未露光部の残渣が少ない染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which has high sensitivity and no substrate dependence and which provides excelling profile shape, even when a basic substrate is used, and to provide a pattern forming method that uses the positive resist composition.例文帳に追加

高感度であり、基板依存性がなく、塩基性基板を用いた場合でもプロファイル形状の優れたポジ型レジスト組成物及びこのポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する - 特許庁

To provide a method of manufacturing a photomask, which can manufacture precisely a pattern of an electronic device such as TFT, when manufacturing an LSI, a TFT-LCD (thin film transistor liquid crystal display), or the like.例文帳に追加

ＬＳＩやＴＦＴ−ＬＣＤ等の製造において、ＴＦＴ等の電子デバイスのパターンをより精度よく製造することができるフォトマスクの製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a printing plate that enables an ink to be applied on an entire surface and also enables a minute pattern to be transferred with superior shape accuracy on a base board, and also to provide a printing method using the same.例文帳に追加

インクを全面に塗布することができ、基板上に微細なパターンを形状精度の良い状態で転写することを可能にする印刷版とそれを用いた印刷方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a composite material, which allows a high flexibility in designing a conductive circuit and allows an easy formation of a conductive section having a fine pattern, without causing deterioration in an insulator.例文帳に追加

導電回路設計の自由度が高く、また、絶縁体のい劣化を生ず微細なパターンを有する導電部を容易に形成することのできる複合部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a magnetic recording medium capable of efficiently and surely manufacturing the magnetic recording medium having an adequate flat surface and formed with a recording layer formed of a specified irregular pattern.例文帳に追加

所定の凹凸パターンで形成された記録層を有し、且つ、表面が充分に平坦な磁気記録媒体を効率良く確実に製造することができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a titanium stock for a target having both a microstructure with a fine and uniform grain size and a macrostructure of excellent surface properties of the titanium stock with no surface pattern.例文帳に追加

結晶粒度が微細で均一なミクロ組織と、チタン材の表面が無模様で表面性状に優れたマクロ組織とを兼ね備えたターゲット用チタン素材を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for plasma treatment for a work piece in which an electric damage to a semiconductor element such as a MOS transistor contained in a circuit pattern of a wafer caused during plasma treatment is reduced.例文帳に追加

ウェハの回路パターンに含まれるＭＯＳトランジスタなどの半導体素子がプラズマ処理中に受ける電気的ダメージを軽減できるワークのプラズマ処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a light guide pattern processing method and machine to efficiently manufacture a light guide plate of various patterns and sizes in a short time by directly impacting the surface with chips.例文帳に追加

チップを用いて加工面を直接打撃して様々な形と大きさのパターンに導光板を短時間に効率よく製造できるようにした導光板のパターン加工方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a transfer substrate and a transfer method using the same having excellent releasability between the transfer substrate and a transfer pattern and capable of remarkably improving a transfer rate between the transfer substrate and a target substrate.例文帳に追加

転写パターンとの間の剥離性に優れるとともに、ターゲット基板との間の転写率を大幅に向上させることを可能とした転写基板とそれを用いた転写方法を提供する。 - 特許庁

The photosensitive composition contains a new sulfonium compound as a compound decomposable by the irradiation with active light or radiation to generate an acid, and the pattern-forming method uses the photosensitive composition.例文帳に追加

活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物として、新規なスルフォニウム化合物を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

The method further comprises steps of forming a first resist film (4a) and a second resist film (4b) of the film (4) having different solubilities due to exposure, and removing the film (4a) with a developer to form a resist pattern.例文帳に追加

次に、露光によって溶解度が異なる化学増幅型レジスト膜(4)の第１のレジスト膜(4a)及び第２のレジスト膜(4b)を形成し、現像液で第１のレジスト膜(4a)を除去してレジストパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a printer head, a printer and a method for manufacturing a printer head which are applicable to a thermal ink jet printer, for example, in order to avoid short circuit failure of a wiring pattern.例文帳に追加

本発明は、プリンタヘッド、プリンタ及びプリンタヘッドの製造方法に関し、例えばサーマル方式によるインクジェットプリンタに適用して、配線パターンの短絡事故を有効に回避することができるようにする。 - 特許庁

On a substrate, a first transfer layer containing a first organic material and a second transfer layer containing a second organic material are pattern-formed by a printing method, at least via a photothermal conversion layer.例文帳に追加

基板上に少なくとも光熱変換層を介して、第１の有機材料を含有する第１転写層および第２の有機材料を含有する第２転写層を印刷法によりパターン形成する。 - 特許庁

To provide a vapor deposition system and a vapor deposition method which can suppress the phenomenon that the film thickness of a multiplex thin-film layer on a substrate is made ununiform in a radial pattern periodicallly in its plane.例文帳に追加

基材上の多重薄膜層の膜厚がその面内において周期性を有して放射状に不均一になるという現象を抑制する蒸着装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which suppresses an abnormal growth of an SiGe mixed crystal on a polysilicon gate electrode pattern caused during an epitaxial growth of the SiGe mixed crystal layer which becomes a stress source.例文帳に追加

応力源となるＳｉＧｅ混晶層のエピタキシャル成長の際に生じる、ポリシリコンゲート電極パターン上のＳｉＧｅ混晶異常成長を抑制する半導体装置製造方法の提供。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus, an image forming system, and an image forming method which are capable of removing print restrictions, with respect to print data serving as a readable image in a printable region for a background design pattern.例文帳に追加

地紋パターンの印刷可能領域の可読画像である印刷データに対する印刷制限を解除することが可能な画像形成装置、画像形成システム、及び画像形成方法を提供する。 - 特許庁

In this method, the surface to be pressed to a product is made same face as that of the thermally conductive plate, thereby the white space pattern and the oven-baked part become a same face.例文帳に追加

前記嵌込型部材の押圧面を前記熱伝導板の押圧面と同一平面とすることにより、前記白抜き模様と天焼き部分とを同一平面とする白抜き天焼き製品の製造方法。 - 特許庁

To provide a mold for producing a roller which can be machined at a low cost and in a short time and by which the roller with a desired surface unevenness pattern can be easily produced and the method for producing the same.例文帳に追加

低コストかつ短時間で加工が可能であって、所望の表面凹凸形状を有するローラを容易に製造することのできるローラ製造用金型およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a developing method that complies with all requests for finer pattern size, higher uniformity, lower defectiveness, saving developer, etc., demanded in manufacturing a semiconductor device etc.例文帳に追加

半導体デバイスなどの製造において求められるパターン寸法の微細化、高均一性、低欠陥性、省現像液などの要求の全てに応えることができる現像処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive resist composition which ensures small surface roughness and line edge roughness during etching and has excellent resolution and a wide focal-depth range and to provide a method of forming a resist pattern using the same.例文帳に追加

エッチング時の表面荒れ、ラインエッジラフネスが少なく、解像性に優れ、焦点深度幅が広い、化学増幅型のポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a critical geometry in a micrometer size and a submicrometer size separating a first and a second regions of a print material without assistance of a surface energy pattern.例文帳に追加

表面エネルギーパターンの手助けなしに印刷材料の第１および第２の領域を分離するマイクロメータおよびサブマイクロメータの寸法の臨界形状を形成することのできる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for plotting by using a charged particle beam plotting apparatus which reduces a plotting time and improves plotting precision by reducing a pattern data quantity when plotting an oblique line.例文帳に追加

斜線の描画に際し、パターンデータ量を削減し、描画時間を短縮すると共に、描画精度も向上させることができる荷電粒子ビーム描画装置における描画方法を実現する。 - 特許庁

To provide a terminal connecting method of an extra-fine wire and a terminal connecting part wherein a single wire conductor of the extra-fine wire can be connected easily and strongly with a conductor pattern such as an FPC or a printed-circuit board or the like.例文帳に追加

極細線の単線導体を、ＦＰＣやプリント基板等の導体パターンに容易かつ強固に接続できる極細線の端末接続方法及び端末接続部を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern recognizing device robust to the fluctuation of illumination by complementing the weakness of a mutual partial space method to the fluctuation of illumination by a means for localizing/micronizing the fluctuation of illumination, thereby merging both merits with each other.例文帳に追加

対象の位置と姿勢の変動、対象の変形、ならびに照明変動などの変動全般に対して従来になく頑健なパタン認識装置とその方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for a permanent resist having superior shelf stability and high temperature humidity resistance, a photosensitive film for the permanent resist, a forming method of a resist pattern, and to provide a printed wiring board.例文帳に追加

保存安定性及び高温耐湿性に優れる永久レジスト用感光性樹脂組成物、永久レジスト用感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板を提供すること。 - 特許庁

A method for manufacturing the circuit substrate comprises the steps of forming a recess 23 on a part of a conductor pattern 21, and engaging a metal small piece 20 punched from a conductive metal sheet 17 within the recess 23 to form a metal bump 24.例文帳に追加

導体パターン２１の一部に凹部２３が形成され、該凹部２３に導電性金属シート１７より打ち抜かれた金属小片２０が嵌め込まれて金属バンプ２４が形成されている。 - 特許庁