「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(371ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for manufacturing a plastic liquid crystal display device by which a transparent electrode pattern can be formed while dissolving a problem of shift in position without giving damages to the plastic substrate itself.例文帳に追加

プラスチック基板自体にダメージを与えることなく位置ずれの問題を解消して、透明電極パターンの形成を行うことのできるプラスチック液晶表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a magnetic recording medium in which reactivity between a magnetic layer and reactive plasma or ions during the formation of a magnetic recording pattern is enhanced and the blur of an image in the patterning is hardly generated.例文帳に追加

磁気記録パターンの形成時における反応性プラズマまたはイオンと磁性層との反応性を高め、また、パターニングにおける像のぼけが生じにくい磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inexpensive speaker apparatus whose terminal can be securely mounted and a method for manufacturing the speaker apparatus while coping with the pitch narrowing of the pattern of a printed circuit board being the constituting element of information equipment.例文帳に追加

情報機器の構成要素であるプリント回路基板のパターンの狭ピッチ化に対応し、安価で且つ確実に端子の取り付けが可能なスピーカ装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition suitable for forming light shielding patterns excellent in adhesion, shape, light resistance and non- yellowing property in positions equidistant from lenses and to provide a light shielding pattern forming method.例文帳に追加

レンズに対して等しい位置に、密着性や形状や耐光無黄変性に優れた遮光パターンを形成するのに好適な、感光性樹脂組成物および遮光パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of processing a glass product having a resin coating film by which a clear pattern is formed in a coating film by removing the resin coating film which coats the surface of the glass product.例文帳に追加

ガラス製品の表面に被覆された樹脂コーティング皮膜を除去処理して、皮膜中に鮮明な模様の形成が可能な樹脂コーティング皮膜を有するガラス製品の加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a direct pattern forming waterless planographic printing plate so as to obtain a printing plate having good image reproducibility by development with water or an aqueous solution prepared by adding a surfactant to water.例文帳に追加

水または水に界面活性剤を添加したもので現像することによって画像再現性の良好な印刷版を得るための、直描型水なし平版印刷版の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern correction method for a photomask in which edge correction is carried out by dividing an edge, imparting evaluation points and calculating the proximity effect by use of OPC (optical proximity correction) techniques, and to provide a photomask.例文帳に追加

エッジ分割、評価点を付与し、OPC(Optical Proximity Correction)の技術を用いて近接効果を計算し、エッジ補正を行うようにしたフォトマスクのパターン補正方法及びフォトマスクを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that can satisfy both excellent developing property and excellent followability of immersion liquid and to provide a method for forming pattern using the composition.例文帳に追加

優れた現像性と優れた液浸液追随性との両立を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an electroluminescent element, whereby high luminous efficiency, high extraction efficiency, a simplified manufacturing process, and formation of high definition pattern are materialized.例文帳に追加

本発明は、発光効率や取り出し効率の高さ、製造工程の簡便さや高精細なパターンの形成を実現するＥＬ素子の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To obtain a method of forming a circuit pattern whereby a high- reliability product can be obtained efficiently for a short time, without costing by eliminating the need of etching works and associated facilities, form plates, etc.例文帳に追加

エッチング作業、それに伴う設備や版等を不要として、能率よく短時間で、コストがかからず、しかも信頼性の高い製品を得ることができることとした回路パタ−ンの形成方法とする。 - 特許庁

CAVITY SIDE MOLDING DIE, MOLDING DIE ACTUATION MEMBER, INCLINED GROOVE ANGLE ADJUSTMENT MEMBER, UNIT COMPONENT OF MOLDING DIE INCLUDING THESE MEMBERS AND METHOD FOR FORMING MOLDED OBJECT WITH SPIRAL PATTERN OUTLOOK USING UNIT COMPONENT例文帳に追加

固定側成形型、成形型作動部材、傾斜溝角度調整部材及びこれらを有する成形金型のユニット部品並びにこれを用いた外観螺旋模様を有する成形品の成形方法 - 特許庁

To provide a method and a device for processing a substrate capable of satisfactorily providing a processing of a processing liquid to a surface even though the substrate is an annular substrate formed by a pattern on its surface.例文帳に追加

表面にパターンが形成された円形基板であっても、その表面に対して処理液による処理を良好に施すことができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an IC tag which surely secures electric connection between a wiring pattern formed on a substrate and an IC chip, and which can be manufactured easily at low cost, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

基板に形成された配線パターンとICチップとの電気的接続を確実に確保することができ、製造が容易で、安価に製造することができるICタグおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing display device and a manufacturing device therefor by which a display device having high pattern accuracy all over the display region can be efficiently manufactured in a process with a short lead time.例文帳に追加

ディスプレイ領域の全域にわたってパターン精度が高いディスプレイ装置を、リードタイムの短いプロセスで効率よく製造するディスプレイ装置の製造方法とその製造装置を提供すること。 - 特許庁

The method for knitting the patterned knitted fabric comprises changing the tension applied to the fed knitting yarn with a tension-changing device 30 during the knitting operation, thus forming the pattern comprising loop length-different portions in the knitted fabric.例文帳に追加

その編成方法は、張力変動装置３０により編成中に編糸Ｙの給糸張力を変動させることによって、ループ長の異なる部分からなる柄を編地に形成するものである。 - 特許庁

To provide a communication mode detection method capable of rapidly detecting which protocol out of a plurality of near field communication protocols includes a communication frame pattern of data to be applied to a receiver.例文帳に追加

受信装置に印加されるデータの通信フレームパターンが複数の近距離通信プロトコルのうちのいずれのプロトコルに属するかを迅速に検出することができる通信モード検出方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resin film pattern by which excessive drying of a coating film due to retention on a pin of a wafer after prebaking, and reduction in an aperture dimension after development, resulting from the excessive drying, is suppressed.例文帳に追加

プリベーク後のウエハのピン上停滞による塗膜の過剰乾燥及びそれによりもたらされる現像後の開口寸法の縮小を抑制できる樹脂膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dredging unit and a dredging method which can smooth a slope which is liable to be formed in a staircase pattern when dredging is performed on the slope, and can reduce the excessive break of the slope during the excavation of the slope.例文帳に追加

法面で浚渫を行う際に階段状となり易い法面を平滑化できるとともに法面掘削時の法面余掘りを低減できる浚渫装置及び浚渫方法を提供する。 - 特許庁

To improve optical characteristics such as the reduction of loss in the case that a thermal expansion coefficient of a core pattern largely exceeds that of a substrate, in a method for manufacturing a quartz-based optical waveguide.例文帳に追加

石英系光導波路の製造方法において、コアパターンの熱膨張係数が基板の熱膨張係数を大きく上回る場合に損失の低減等の光学特性の向上を図ること。 - 特許庁

To provide a method of a child mold or an article having a fine pattern on the surface of a hardened resin which can improve the release and antifouling property of the surface of the hardened resin.例文帳に追加

微細パターンを硬化樹脂の表面に有する子モールドまたは物品の製造方法であって、硬化樹脂の表面の離型性や防汚性を向上できる製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which contributes to suppression of degradation in precision of a resist pattern formed at a logic circuit part, relating to a semiconductor device in which both the logic circuit and a memory circuit are mounted together.例文帳に追加

ロジック回路とメモリ回路を混載した半導体装置において、ロジック回路部に形成されるレジストパターン形状の精度低下抑制に寄与する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus, which can rapidly and continuously print a pattern of thick and extremely fine lines for printing and can provide inexpensively printed matters, in large quantity, and to provide a printing method and a printed matter.例文帳に追加

印刷用の極めて微細で線の厚いパターンを、高速かつ連続に印刷可能として、被印刷物を大量かつ安価に提供可能とする装置、印刷方法及び印刷物を提供する。 - 特許庁

To provide an image reading apparatus and an image determining method, capable of suppressing a deterioration in performance thereof, when determining whether a distinguishing pattern is included in images read from both surfaces of a document.例文帳に追加

原稿の両面から読み取った画像に特徴パターンが含まれているか否かを判定する際にパフォーマンスの低下を抑えることができる画像読取装置及び画像判定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a bit contact which settles an issue of insufficient separation margin on resist pattern exposure as well as local variations in dry-etching process to suppress increase in the number of steps and laboriousness.例文帳に追加

レジストパターン露光時の分離マージン不足の解消と同時にドライエッチング加工の局所ばらつきを解消し、工程数の増大及び煩雑化を抑えたビットコンタクトの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an tint block image generating method generating a tint block image in which a camouflage pattern is duplicated clearly even in a latent image area in which comparatively large dots are arranged in low density.例文帳に追加

比較的大きいドットを低密度で配置する潜像領域においても、カモフラージュパターンが明確に再現される地紋画像を生成することのできる地紋画像生成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a light transmissive dial capable of eliminating a black coating layer to reduce a manufacturing cost, and capable of regenerating a pattern on a surface of an attaching object, and to provide the light transmissive dial.例文帳に追加

黒塗装層を省略して製造コストを低減でき、かつ、取付対象の表面の模様を再現できる光透過性文字板の製造方法、および光透過性文字板を提供する。 - 特許庁

To provide a novel and, interesting game machine by method wherein a plurality of patterns are superposed one over another and when the superposed patterns assume a complete pattern as a predetermined display aspect, a benefit is given to a player.例文帳に追加

複数の図柄が重畳され、重畳された図柄が所定の表示態様としての完成図柄をなす時に遊技者に特典を与えることにより、新規で面白味のある遊技機を提供する。 - 特許庁

To allow coating free of pattern turbulence by aligning discharge timings of a paste-like coating liquid discharged from a plurality of discharge ports, in a coating method and a coating apparatus for applying the coating liquid to a substrate principal surface.例文帳に追加

基板主面にペースト状の塗布液を塗布する塗布方法および塗布装置において、複数の吐出口から吐出される塗布液の吐出タイミングを揃えてパターンの乱れのない塗布を可能とする。 - 特許庁

To provide a method of forming a solder resist capable of forming a high precision solder resist pattern with a proper thickness, without generating bubbles or an uncovered portion of an edge of conductor wiring.例文帳に追加

本発明の課題は、気泡や導体配線のエッジ部の非被覆が発生せず、適正な厚みで高精細のソルダーレジストパターンを形成できる、ソルダーレジストの形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a mold for optical imprint which can be observed with an SEM (Scanning Electron Microscope), can be inspected with high throughput, and can form high-definition pattern, and to provide an optical imprint method using the same.例文帳に追加

ＳＥＭ観察が可能であり高スループットで検査を行うことができ、かつ、高精細なパターン形成が可能な光インプリント用のモールドと、これを用いた光インプリント方法を提供する。 - 特許庁

To provide a silver halide photographic sensitive material giving high image quality and high image density, having high safety to safelight, and capable of reproducing a faithful image pattern; and to provide an image forming method.例文帳に追加

高画質で、高い画像濃度が得られ、かつセーフライトに対する安全性が高く、忠実な画像パターンの再現が可能なハロゲン化銀写真感光材料および画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical waveguide structure with an optical waveguide in which the freedom of designing a pattern form is large and a core part (optical path) having a high dimensional accuracy is formed by a simple method.例文帳に追加

パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができる光導波路を備えた光導波路構造体を提供すること。 - 特許庁

To provide an engraving device, capable of easily controlling the diameter size of a dot to be engraved in a surface of an engraving object while preventing breakage of the engraving object, a cassette member, and a method for forming an engraving pattern.例文帳に追加

被打刻物の破損を防止しつつ、被打刻物の表面に刻印されるドット径の大きさの制御が容易に行える打刻装置、カセット部材及び打刻パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition capable of forming a satisfactory profile by not only ordinary exposure but liquid immersion exposure and having wide exposure latitude, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

通常露光のみならず液浸露光によっても、良好なプロファイルを形成でき、広い露光ラチチュードを有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Prescribed data represented by the determined selection pattern are selected from among a data group, and authentication data corresponding to the present authentication method are generated based on the prescribed data to be transmitted to a peripheral unit.例文帳に追加

該決定した選択パターンが示す所定データをデータ群の中から選択し、該所定データに基づいて今回認証方式に対応した認証データを生成して周辺部に送信する。 - 特許庁

To provide an image display medium and an image formation method with a hologram image which can be authenticated by visual information and at the same time having hologram images with high forgery prevention effect where individual information is made into a pattern.例文帳に追加

目視情報による認証が可能で、かつ、偽造防止効果の高い、個別情報がパターニングされたホログラム画像を有する画像表示媒体および画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a method for polishing a substrate, capable of continuously effectively polishing a copper and a copper alloy film and a barrier layer and forming a metal film embedding pattern with high reliability.例文帳に追加

銅または銅合金膜の研磨とバリア層の研磨を連続して効率的に行うことができ、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする基板の研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device for improving the precision of failure analysis by detaledly discussing validity and effectiveness of a test pattern in practical chips, and to provide its failure analysis method.例文帳に追加

実際のチップにおいてテストパターンの妥当性と有効性を詳細に検討でき、不良解析の精度を向上させることができる半導体装置およびその不良解析方法を実現する。 - 特許庁

In order to expose a plurality of patterns having various CD values by an electron beam exposure method using a VSB system, a CD design value of one pattern selected from the plurality of patterns is determined.例文帳に追加

様々なＣＤを有する複数のパターンをＶＳＢ方式の電子ビーム露光方法により露光するために、前記複数のパターンから選択される一つのパターンのＣＤ設計値を決定する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor element, which can selectively decrease the critical dimension (CD) of a peripheral region while maintaining the CD of a cell region uniform when forming a gate pattern.例文帳に追加

ゲートパターンを形成するとき、セル領域のＣＤは一定に維持しつつ、周辺領域のＣＤのみ選択的に縮小することができる半導体素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for forming a gate of a semiconductor device which effectively prevents a bowing from being formed on a sidewall of a gate pattern by protecting sidewalls on layers excluding a film being etched using a buffer film.例文帳に追加

半導体素子のゲート形成方法であって、エッチング対象膜以外の層の側壁をバッファ膜で保護することで、ゲートパターンの側壁にボーイングが形成されるのを有効に防ぐようにする。 - 特許庁

To provide a method for protecting the surface of a building material in place of a coating film which allows the pattern/unevenness of the building material to stand out in relief or to pass through and protects the surface from inundation, stains, and damage.例文帳に追加

建材の持つ模様・凹凸を略そのまま浮き彫り／又は透過する共に、その表面を浸水・汚れ・損傷から保護する、塗膜の代わる建材の表面保護方法を提供する。 - 特許庁

To provide a creation method of drawing data for drawing a figure pattern on a sample by using a charged particle beam in which the volume of the drawing data can be reduced.例文帳に追加

荷電粒子ビームを用いて試料に図形パターンを描画するための描画データの作成方法であって、描画データのデータ量を低減することが可能な描画データの作成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a position detecting apparatus and its method having high accuracy by compensating for a pattern position detected from information of dislocation caused by an aberration in an optical system or an error in manufacturing.例文帳に追加

光学系の収差、製造誤差等に起因する位置ずれ情報に基づいて検出されたパターン位置を補正し、高精度にパターン位置を検出できる装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

An exposed section of the inorganic insulated layer 21 is removed by using a resist layer 23 as a mask to expose the plated substrate film 20, and a film for a metallic thin film pattern is formed on the exposed part by a plating method.例文帳に追加

そして、レジスト層２３をマスクに無機絶縁層２１の露出部位を除去して鍍金下地膜２０を露出させ、該露出部分上に、鍍金法によって金属薄膜パターンを成膜する。 - 特許庁