「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(374ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method and a device for performing accurate phase connection, in a three-dimensional measuring system for measuring a surface shape by observing an image obtained by irradiating a measuring object with sine-wave pattern light.例文帳に追加

正弦波パターン光を計測対象物に照射して得られる画像を観察することによりその表面形状を計測する三次元計測システムにおいて、正確な位相接続を行う。 - 特許庁

To provide a fine-structure transfer apparatus and method for transferring a fine-tructure that can accurately transfer a fine pattern of a stamper to a transfer target body without leaving any air bubble between the stamper and transfer target body.例文帳に追加

スタンパと被転写体との間に気泡が残存せず、スタンパの微細パターンを被転写体に正確に転写することができる微細構造転写方法及び微細構造転写装置を提供する。 - 特許庁

To provide a wood/thermoplastic resin composite foamed molded product with a hollow therein, having light weight, a cross section similar to a pattern of a natural tree, an excellent secondary workability and a recycling property, and to provide a manufacturing method for the same.例文帳に追加

軽量でかつ天然木様の断面と優れた二次加工性およびリサイクル性を有する、中空の木材・熱可塑性樹脂複合発泡成形品およびその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a color filter for easily manufacturing the color filter whose quality is high without having the intrusion of air bubbles and the occurrence of cracks by appropriately setting the cross-sectional inclined angle of each formation pattern.例文帳に追加

各形成パターンの断面傾斜角が適切で、気泡混入やクラックのない高品質なカラーフィルターを容易に製造することができるカラーフィルターの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive film for forming circuits, which is reduced in its manufacturing cost and is improved in its resolution and pattern accuracy and the yield of printed-wiring boards and a method for manufacturing printed- wiring boards.例文帳に追加

製造コストを抑えると共に、解像度、パターン精度及びプリント配線板の製造歩留まりを向上させた回路形成用感光性フィルム及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laminated electronic part whose mass production is easy, in which deviation of a conductor pattern is small and an inductance value and a capacitance value of narrow tolerance can be obtained, and to provide a laminated electronic part module and a manufacturing method of them.例文帳に追加

量産が容易で、導体パターンのずれが小さく、狭公差のインダクタンス値や容量値が得られる積層電子部品と積層電子部品モジュールとこれらの製造方法を提供する。 - 特許庁

PRESS PLATE IMAGE FORMING DEVICE, SCREEN GAIN QUANTITY CORRECTION DATA RELATING DEVICE, RELATING PATTERN DESIGNATING DEVICE, GAIN QUANTITY CORRECTION PROCESSING DEVICE, PRESS PLATE FORMING DEVICE, PRINT SYSTEM, PRESS PLATE IMAGE FORMING METHOD, AND PROGRAM例文帳に追加

刷版画像作成装置、網ゲイン分補正データ関連付け装置、関連付けパターン指定装置、ゲイン分補正処理装置、刷版作成システム、印刷システム、刷版画像作成方法、およびプログラム - 特許庁

To provide a positive type photosensitive composition improved in a LWR, an exposure latitude and an MEEF, and fit to a liquid immersion process, of 45 nm of line width, and to provide a pattern forming method which use the composition.例文帳に追加

ＬＷＲ、露光ラチチュード、ＭＥＥＦが改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスに適合したポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

In the manufacturing step of a color filter by a printing method, the pattern with ink coating unevenness is formed in the transferred glass substrate if ink coating unevenness is present in a blanket face for transferring the ink.例文帳に追加

印刷方式のカラーフィルタ製造工程において、インキ転写用ブランケット面上にインキ塗工ムラがあった場合、転写されたガラス基板もインキ塗工ムラを有するパターンが形成される。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus, a color shift correction method and a program that maintain color shift correction accuracy to execute a color shift correction, even when an entire pattern length region cannot be secured on an image carrier due to the existence of a noise source on the image carrier.例文帳に追加

像担持体上にノイズ源が存在することにより像担持体上にパターン全長の領域が確保できない場合でも色ずれ補正の精度を維持して色ずれ補正を実行すること。 - 特許庁

To provide an in-mold decorative molded product having a light transmissible metal film layer on its surface, having the pattern of a light transmitting part applied to its under surface side and suitable for high-mix, low volume production, and to obtain a manufacturing method of the molded product.例文帳に追加

表面を透光性の金属膜層として、その下面側に透光部のパターンを付けたものであって、多品種少量生産に適した成形品を得ることを課題とする。 - 特許庁

To provide a printed matter made so that ruggedness information is transmitted to a user from a printed pattern, and to provide a three dimensional (3-D) information transmission system of the same and a 3-D information transmission method of the same.例文帳に追加

利用者に印刷絵柄から凹凸情報を伝達できるようにした印刷物、印刷物の三次元情報伝達システム及びその三次元情報伝達方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a polymer latex of high acrylonitrile content, to provide the polymer latex, to provide a film using it, to provide a multilayered structure, to provide a pattern forming material, and to provide an original plate for a planographic printing plate.例文帳に追加

高アクリロニトリル含有率のポリマーラテックスの製造方法、ならびに該ポリマーラテックス、それを用いたフィルム、多層構造体、パターン形成材料、及び平版印刷版原版を提供する。 - 特許庁

To provide an embossing plate for manufacturing embossed release paper constituted so as to prevent the occurrence of omission in an embossed pattern caused by the falling-off of a surface protecting layer such as a plating film applied to the surface of a plate, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

版の表面に施したメッキ皮膜等の表面保護層が脱落してエンボス柄に抜けが発生することのないエンボス離型紙製造用エンボス版及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide conductive paste for internal electrodes of a laminated ceramic capacitor which realizes good transcription from an intaglio plate to a transcription body, when printing a thin film internal electrode pattern, and to provide a manufacturing method for the laminated ceramic capacitor using the conductive paste.例文帳に追加

薄膜の内部電極用パターンを印刷する上で、特に凹版から転写体への良好な転移を実現し得る、積層セラミックコンデンサの内部電極用導電性ペーストを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device to reduce the time required for verifying DRC (design rule check) while improving reliability in a mask pattern data subjected to optical proximity correction, and to provide a semiconductor device.例文帳に追加

光近接効果補正したマスクパターンデータについて信頼性を向上させつつＤＲＣの確認に要する時間を短縮する半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method capable of efficiently manufacturing a highly-reliable wiring board with a highly-reliable conductor pattern in which occurrence of cracks, disconnections, short circuits or the like is prevented.例文帳に追加

クラック、断線、短絡等の発生が防止された、信頼性の高い導体パターンを備えた信頼性の高い配線基板を効率よく製造することのできる製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a pattern for unevenness used in an unevenness defect inspection device, the patterns are made of the same material as the substrate and formed by the same manufacturing method.例文帳に追加

本発明の課題は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、実欠陥と擬似欠陥とを高精度に弁別できる検査用パターン及び検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a curable composition for nanoimprint which has superior pattern transfer precision, mechanical characteristics (elasticity recovery rate) of a cured film, and hardness of a cured body, a cured body using the same and a manufacturing method thereof.例文帳に追加

パターン転写精度、硬化膜の機械特性（弾性回復率）、および、硬化物の硬度に優れたナノインプリント用硬化性組成物、並びに、これを用いた硬化物およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a character recognition device, a character recognition method, and a character recognition program, capable of recognizing a constituted character which does not exist as a dictionary pattern, and to provide a computer-readable recording medium therefor.例文帳に追加

辞書パターンとして存在しない合成文字を認識することのできる文字認識装置、文字認識方法、文字認識プログラムおよびコンピュータ読取り可能な記録媒体を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for epoch-makingly processing a cloth, with which a dark and light pattern with a hand of friction mark and a cleaning and bleaching feeling is readily formed in excellent reproduction on a cloth.例文帳に追加

生地にスレや洗い晒し感を伴う風合いのある濃淡の柄模様を容易且つ再現性良く形成することが可能な画期的な生地の加工方法並びに生地の加工装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a positive resist composition that is improved by overcoming the problem of development defects, provided with a superior in-plane uniformity of line width, and also superior in LWR performance, and to provide a pattern forming method using it.例文帳に追加

現像欠陥の問題が改善され、優れた線幅の面内均一性が得られ、かつ、ＬＷＲ性能にも優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the printed matter includes: a step in which a printing layer 109 is provided at a base material 107 using a predetermined pattern; and a step in which an opening 111 penetrating through the base material and the printed matter is provided in an opening formation region.例文帳に追加

基材１０７に所定パターンで印刷層１０９を設ける工程と、基材及び印刷層を貫通する開口部１１１を開口部形成領域に設ける工程とを含む。 - 特許庁

To provide a sampling method for current value of power source of an integrated circuit and the device thereof capable of obtaining all information on current of power source when a test pattern is applied to a tested device.例文帳に追加

被試験デバイスにテストパタンを印加したときに流れる電源電流の全ての情報を余すことなく取得する集積回路の電源電流値のサンプリング装置及び方法の提供。 - 特許庁

To provide an optical disk medium wherein surface smoothing treatment can be performed efficiently and in a short period of time and the deterioration of a recording pattern in the surface smoothing treatment is prevented and to provide a manufacturing method for the optical disk medium.例文帳に追加

短時間で効率よく表面平滑処理が行えると共に、表面平滑処理における記録パターンの劣化を防ぐ光ディスク媒体および光ディスク媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a connecting member capable of preventing occurrence of leakage or the like even in a microcircuitry pattern and capable of inexpensively and easily manufacturing the connecting member excellent in conductivity.例文帳に追加

細線回路パターンであってもリーク等の発生を防止することができ、かつ、導通性に優れる接続部材を安価かつ容易に製造することができる接続部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for carrying out a more accurate transfer by suppressing the heat of curing of an UV curable resin when a fine uneven pattern provided on the circumferential surface of a transfer roll is transferred to a film.例文帳に追加

転写ロールの周面に備えた微細な凹凸パターンをフィルムに転写する際、ＵＶ硬化性樹脂の硬化熱を抑制して、より高精度の転写を行う方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus and a film deposition method which, when a substrate is pressed to a mask, cause little positional deviation between the substrate and the mask in a direction of planes thereof, then, form an image pattern of satisfactory dimensional accuracy.例文帳に追加

基板をマスクに押圧する際、基板とマスクの面方向の位置ずれが少なく、寸法精度の良好な画像パターンを形成することのできる成膜装置及び成膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a printed circuit board in particular having through holes or IVHs (Interstitial Via Holes) and a method of manufacturing the printed circuit board, which can form a fine wiring pattern.例文帳に追加

特にスルーホールやＩＶＨを有するプリント配線板の製造方法及びプリント配線板において、微細な配線パターンを形成可能とするプリント配線板の製造方法及びプリント配線板を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that is excellent in resolution such as a critical dimension with no bridge defects, and DOF, as well as a resist film and a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ブリッジ前寸法等の解像力、ＤＯＦに優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method which can efficiently manufacture a highly reliable wiring board provided with a highly reliable conductive pattern in which cracks, disconnection, a short circuit and the like are prevented from occurring.例文帳に追加

クラック、断線、短絡等の発生が防止された、信頼性の高い導体パターンを備えた信頼性の高い配線基板を効率よく製造することのできる製造方法を提供すること。 - 特許庁

To improve particularly the distribution of plated film thickness and to shorten the lead time to form desired plated film thickness in a plating device for plating in a pattern like form on one surface of a wafer by an electroplating method.例文帳に追加

本発明は、電気メッキ法によってウエハー面上にパターン状にメッキを行うメッキ装置に関し、特にメッキ膜厚分布の改善と、所望のメッキ膜厚形成までの所要時間の改善に関する。 - 特許庁

To provide a method for clearly decorating a fine letter or pattern like one branded with a red-hot iron in the form of a concave groove in black onto the surface of a molded article formed of a thermoplastic resin composition and to provide a decorated molded article.例文帳に追加

熱可塑性樹脂組成物からなる成形体の表面に焼印風の微細な文字、模様を凹溝状に黒く鮮明に加飾する方法及び加飾された成形体を目的とする。 - 特許庁

To provide a method for transfer onto a chair seat which enables transfer of a pattern or a design onto the chair seat and does not impair the chair seat in a process of transfer, while the surface of the chair seat has excellent abrasion resistance.例文帳に追加

椅子台座にパターンや模様を転写可能であり、且つ転写過程中に椅子台座が傷付けられなく、椅子台座の表面は耐磨耗性が良い椅子台座への転写方法を提供する。 - 特許庁

A reflective film 19 is formed on the entire surface of a first insulating film 16a by, for example, spattering or vapor deposition, and a barrier metal film 23 having a predetermined pattern is formed on the reflective film 19 by a lift-off method.例文帳に追加

スパッタや蒸着などによって、第１絶縁膜１６ａの全面に反射膜１９を形成し、リフトオフ法によって反射膜１９上に所定のパターンのバリアメタル膜２３を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of forming processed patterns of which, the depth is different from each other, and to provide a processed pattern having a U-shaped cross section of which, the depth and the width smoothly changes.例文帳に追加

少ない工程数で、深さの異なる加工パターンを一括形成する製造方法と、深さと幅とが滑らかに変化するＵ字型の断面形状を有する加工パターンとを提供する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus and a method for using image data obtained by an image scanner or the like for reading an image including a narrow periodic pattern such as hatching and capable of suppressing the generation of moire in the case of displaying or printing the image data.例文帳に追加

画像中にハッチング等の細かい周期的パターンを有するものをイメージスキャナ等で読み込んで得られる画像データを用い、表示や印刷をする際に、モワレを生じるのを抑制する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for the development of a substrate wherein it is possible to prevent very fine deposits from remaining on the substrate after a processing operation, especially on an open frame for the substrate or on a pattern formation region.例文帳に追加

現像処理後の基板、特に基板のオープンフレームやパターン形成領域に微小な付着物が残留するのを防止できる基板現像装置および基板現像方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of displaying an electronic watermark pattern in which the risk that information is made hard to be read is reduced and it becomes unnecessary to prepare any special image for embedding information, and to provide an information holder.例文帳に追加

情報が読み取りにくくされる危険性を減らし、また情報を埋め込むための特別な画像を用意する必要がなくなる電子透かしパターンの表示方法及び情報保持具を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming mask data by which the mask data with a corrected optical proximity effect are formed by obtaining a process conversion difference, through a series of processes with an entire pattern required for correcting in a short period of time.例文帳に追加

短時間で補正の必要な全てのパターンについて一連のプロセスを通したプロセス変換差を求め、光近接効果を補正したマスクデータを作成できるマスクデータ生成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for forming a wiring pattern, which is closely attached to a plastic molded body and of which a contact surface with the plastic molded body is smooth, on the plastic molded body, and provide the plastic molded body.例文帳に追加

プラスチック成形体に対して、プラスチック成形体に密着し且つプラスチック成形体との接触面が平滑な配線パターンを形成する製造方法およびプラスチック成形体を得る。 - 特許庁

To provide a mask and a mask blank and an exposure device and a method by which the presence of a beam is prevented from increasing complementary exposures while increasing the strength of a pattern forming portion.例文帳に追加

パターン形成部の強度を補強しつつ、梁部の存在による相補露光回数の増大を抑制することができるマスクおよびマスクブランクス、並びに露光装置および露光方法を提供する。 - 特許庁

To secure uniformity in ITO dry etching in a method of fabricating a liquid crystal display device, wherein an electrically conductive transparent film is pattern-formed on an interlayer insulating film comprised of at least an electrically insulating organic film.例文帳に追加

少なくとも有機絶縁膜を有する層間絶縁膜上に透明導電膜をパターン形成する液晶表示装置の製造方法において、ＩＴＯドライエッチング時の均一性を確保する。 - 特許庁

To provide a master disk for optical disks that can simply be manufactured at a low cost and having uniformized pattern sizes, to provide a stamper for optical disks, optical disks, and a manufacturing method of the master disk for optical disks as above.例文帳に追加

低コストにて簡易に作製することでき、パターンサイズが均一化された光ディスク用原盤、光ディスク用スタンパ、光ディスク、およびそのような光ディスク用原盤の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this method of plotting pattern, a path B is formed by forming plotted units A alternately in the Y-direction by alternately plotting the plotted units on a first stripe (first column) as shown in Fig.(1).例文帳に追加

図２（１）示すように、１番目のストライプ（第１列）について、描画単位１つおきに描画を行い、Ｙ方向へ１つおきに交互に描画された描画単位Ａを形成して、パスＢを形成する。 - 特許庁