「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(376ページ目) - Weblio英語例文検索

To achieve a method whereby checking of correction effects can be carried out correctly on the basis of a pattern for checking of the correction even when an error of a transfer amount varies while a transfer roller rotates once.例文帳に追加

搬送ローラが一回転するなかで搬送量の誤差が変動する場合であっても、補正の確認用パターンに基づいて、補正効果の確認を正確に行える方法を実現する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition for a permanent resist excellent in storage stability and high temperature moisture resistance, and a photosensitive film for a permanent resist, a method for forming a resist pattern, and a printed wiring board.例文帳に追加

保存安定性及び高温耐湿性に優れる永久レジスト用感光性樹脂組成物、永久レジスト用感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板を提供すること。 - 特許庁

To provide a machine translation device and a machine translating method for easily and automatically generating a translation pattern from an input sentence, and an example that resembles the input sentence most.例文帳に追加

この発明は、入力文とそれに最も類似した用例とから翻訳パターンを容易にかつ自動的に生成できる機械翻訳装置および機械翻訳方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern correction method capable of correcting an electrode disconnection part, etc. by fine wire of around 10 μm, correcting a plurality of defective parts in short period of time and with little consumption of film.例文帳に追加

１０μｍ前後の細線で電極断線部などを修正することができ、複数の欠陥部を短時間で修正することができ、フィルムの消費量が少ないパターン修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a coin in which a change is made in a base pattern on a surface of a coil by the three-dimensional carv ing, the brightness of the coin is increased, and the decorative value or the amusement value of the coin is improved.例文帳に追加

硬貨表面の地模様に立体型彫りにによる変化を起こし、硬貨の輝きを増し、硬貨の装飾価値あるいは遊戯価値を高めた、硬貨の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for top-face anti-reflection coating whose film formation property, refractive index, temporal stability, and safety are comparable to or better than those of conventional products, and also provide a pattern formation method using the composition.例文帳に追加

従来製品と同等以上の成膜性、屈折率、経時安定性、および安全性を有する、上面反射防止膜形成用組成物、およびそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a terminal plate connecting structure and connecting method to a circuit board in which electrical and mechanical connection state between a terminal connection pattern of the circuit board and the terminal plate can be surely maintained.例文帳に追加

回路基板の端子接続パターンと端子板との電気的・機械的接続状態を確実に維持することができる回路基板への端子板接続構造および接続方法を提供する。 - 特許庁

To provide a system and a method for reproducing the lighting pattern of a firefly which can reproduce the lighting phenomenon of the firefly nearly in a natural state, and a computer-readable recording medium.例文帳に追加

ホタルの発光現象をより自然に近い状態で再現できるようにしたホタルの発光パターン再現システム及びその再現方法、並びにコンピュータ読み取り可能な記録媒体の提供。 - 特許庁

The executing method of the meshlike pattern coating film layer is by sticking a meshlike structural material 5 onto a base material 1 and applying an inorganic coating film layer 7 containing active silica, cement and resin emulsion.例文帳に追加

基材１上に網目状構造材５を固着し、次いで活性シリカ、セメント及び樹脂エマルジョンを含有する無機系塗膜層７を施工する網目模様塗膜層の施工方法とする。 - 特許庁

To provide a compound useful as an acid generator for a resist composition, a compound useful as a precursor for the compound, an acid generator, a resist composition and a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、該化合物の前駆体として有用な化合物及びその製造方法、酸発生剤、レジスト組成物並びにレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for producing an uneven pile fabric capable of coloring into multi-colored pattern and rich in stereoscopic effect and elegance at an inexpensive cost without risk of failure.例文帳に追加

凹凸状のパイル地を製造するに当たって、コストが安く、失敗のリスクがなく、多色柄に着色できて立体感あふれる雅趣に富んだ凹凸状のパイル地の製造方法の提供を目的とする。 - 特許庁

The transferring method for transferring the pattern to the body to be transferred is to transfer the ink layer 24 of a transfer sheet 2 to the body to be transferred 1 by sticking the transfer sheet 2 to the surface of the body to be transferred 1.例文帳に追加

被転写体に模様を転写する転写方法は、被転写体１の表面に転写用シート２を密着させて、転写用シート２のインク層２４を被転写体１に転写する。 - 特許庁

To provide a strain measuring device and a strain measuring method capable of improving the measuring accuracy and reducing an information processing amount while taking account of deformation of a prescribed feature pattern.例文帳に追加

本発明は、所定の特徴パターンの変形を考慮しつつ測定精度の向上と情報処理量の低減とを図ることができるひずみ測定装置およびひずみ測定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a garment causing no deformation in printed pattern or getting mottled in color, and to provide a form-knitted garment.例文帳に追加

本発明は、着用した状態において、プリントした絵柄が変形したり、色彩が斑になったりすることのない衣類の製造方法及び成型編みされた衣類を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method and a device for accurately restoring the shape and pattern of a three-dimensional(3D) scene composed of plural images by performing processing while caring of a 3D model from the beginning of the processing.例文帳に追加

複数画像による三次元シーンにおける形状及び模様の復元において、処理の開始時から三次元モデルを意識した処理を実現し、精度良く復元する方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To improve surface roughness (Ra) of a flat part of a mold made of resin used for a nano imprinting method and to reduce defects of formation of a pattern of a magnetic recording medium so as to enhance the productivity.例文帳に追加

ナノインプリント法に用いられる樹脂製モールドの平坦部の表面粗さ（Ｒａ）を改善し、磁気記録媒体のパターンの形成不良を低減し、生産性を向上させることができるようにする。 - 特許庁

To provide a compound suitable as an acid generator for resist composition, an acid generator made from the compound, a resist composition including the acid generator, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a gray scale reproducing method and a gray scale reproduction image in which a smooth gray scale representation having no rough feeling can be ensured when a gray scale for reproducing an image is reproduced by a dot pattern.例文帳に追加

画像を再現するための階調をドットパタンによって再現する際、ざらつきが気にならず、滑らかな階調表現を可能とする階調再現方法および階調再現画像を提供する。 - 特許庁

To provide a decoration method of a resin molded article which can execute a pattern having concavo-convex having a suitable depth on the front surface of the resin molded article while the entire deformation of the resin molded article is suppressed.例文帳に追加

樹脂成形品の全体的な変形を抑えながら樹脂成形品の表面に適当な深さの凹凸を持つ柄を施すことができる樹脂成形品の加飾方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical pickup apparatus using a hologram optical element in which the hologram optical element enables the apparatus to be miniaturized and slimmed, and which is made low-cost by saving assembly costs, and also to provide a method of forming a hologram pattern.例文帳に追加

装置の小型化及びスリム化を実現し、組立による費用を節減して原価を下げた、ホログラム光学素子を用いた光ピックアップ装置及びホログラムパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which forms an image without degrading accuracy in registration correction even when a pattern and a flaw on a transfer belt are overlapped each other, and to provide its control method.例文帳に追加

転写ベルト上の傷とパターンとが重なった場合であっても、レジストレーション補正の精度を低下させることなく画像形成を行う画像形成装置及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a metal polishing method for discovering a high CMP rate, and for realizing high flattening, dishing amount reduction, and erosion amount reduction, and for executing high reliable metallic film embedding pattern formation.例文帳に追加

高いＣＭＰ速度を発現し、高平坦化、ディッシング量低減及びエロージョン量低減を可能とし、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属研磨方法を提供する。 - 特許庁

This invention relates to the metal mold for the nano-imprint characterized by providing a carbon nano-wall layer on a front surface of a metallic mold for molding a resin, a method of forming a nano-pattern using this metallic mold, and a resin molding which can be obtained.例文帳に追加

樹脂成型用金型表面にカーボンナノウォール層を有することを特徴とするナノインプリント用金型、この金型を用いたナノパターンの形成方法、及び得られる樹脂成型物。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a soft mold and an apparatus of manufacturing the soft mold, in which the soft mold can be made extremely thin without causing the deformation of the soft mold in manufacturing the soft mold for forming a pattern.例文帳に追加

パターンを形成するためのソフトモールド形成の際、ソフトモールドの変形が発生せず、また、非常に薄い厚さでも形成できるソフトモールドの形成方法及びソフトモールドの形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for joining two substrates each other using a joining film patterned in a fine pattern at low cost, and a joined body including a joining film joined by the same.例文帳に追加

２つの基材同士を、低コストで微細な形状にパターニングされた接合膜で接合する接合方法、かかる接合方法で接合された接合膜を備える接合体を提供すること。 - 特許庁

The method for selecting a fungus body of mushrooms discriminates the difference among the mushroom varieties by employing the expression amount of at least one mushroom gene and/or the expression pattern of the mushroom gene as a measure.例文帳に追加

少なくとも1種のキノコ遺伝子の発現量及び／又はその発現パターンを指標としてキノコの品種内差を識別することを特徴とするキノコの菌体選別方法に関する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a ceramic substrate having a complicated shape such as a half-etch structure having a three-dimensional pattern inside one sheet by using a photosensitive ceramic green sheet.例文帳に追加

本発明は、感光性セラミックスグリーンシートを用いた、１枚のシート内に３次元のパターンを有するハーフエッチ構造などの複雑な形状を有するセラミックス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes an exposure step of exposing a resist layer to linearly polarized light by using a phase shift mask 304 as a mask so as to form a circuit pattern of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、位相シフトマスク３０４をマスクとして、半導体装置の回路パタンを形成するためにレジスト層を直線偏光光で露光する露光工程を含む。 - 特許庁

In this manufacturing method for the semiconductor integrated circuit device, an insulation film is formed on a semiconductor wafer and a mask pattern including a function element, or wiring is formed on the formed insulation film.例文帳に追加

本発明の半導体集積回路装置の製造方法は、半導体ウエハ上に絶縁膜を成膜し、成膜した絶縁膜の上に機能素子又は配線を含むマスクパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a water-resistant decorative panel which has water resistance and which can be inexpensively manufactured even if the panel is manufactured to order by printing a pattern meeting a customer's request, and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

顧客の希望に応じた絵柄を印刷する一品製作においても安価に製造することができると共に、耐水性を有する耐水性化粧パネルおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask in which the degree of improvement of the line degeneracy of a pattern for exposure or the amount of the line degeneracy can be graphed for every wafer and to provide a method for evaluating the photomask and a semiconductor wafer.例文帳に追加

ウェハ毎で容易に露光パターンのライン縮退改善の程度、あるいはライン縮退量を定量的に把握することのできるフォトマスク及びその評価方法及び半導体ウェハを提供する。 - 特許庁

To provide a composition for a resist underlay film having excellent etching selectivity and preferable antireflection ability against short wavelengths and to provide a resist underlay film and a method for forming a pattern on a substrate both using the above composition.例文帳に追加

優れたエッチング選択性を有し、かつ、短波長に対する反射防止能が良好なレジスト下層膜用組成物、及びこれを用いたレジスト下層膜及び基板のパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a base material for forming an underlayer film having a low exposure light reflectance and also excellent in resistance to etching with oxygen plasma or the like, and also to provide a multilayer resist pattern forming method using the base material.例文帳に追加

露光光の反射率が低く、酸素プラズマ等に対するエッチング耐性にも優れる下層膜を形成するための下地材、及び該下地材を用いた多層レジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The manufacturing method is to pattern a thin film pyroelectric 23 into a desired shape for constituting an infrared photodetector through a laminate etching mask made of an organic resist material and an inorganic resist material.例文帳に追加

赤外線受光部を構成する薄膜焦電体２３が有機系レジスト材料と無機系レジスト材料の積層エッチングマスクを介して所望形状にパターニング形成できる製造方法である。 - 特許庁

To provide a semiconductor, having high throughput property and its manufacturing method which inserts a minimum required dummy pattern for improving high planarity, after CMP process.例文帳に追加

本発明の目的は、必要最小限のダミーパターンの挿入によってＣＭＰ工程後の平坦性が向上でき、又、高いスループット性を有する半導体装置とその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a composite titanium oxide thin film element unit obtained by easily and inexpensively forming a composite titanium oxide film in fine pattern form on the prescribed area of a substrate, and to provide the method for producing the unit.例文帳に追加

安価で容易に基板上の所定の領域に微細なパターンで複合チタン酸化物膜を形成した複合チタン酸化物薄膜素子ユニットとその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer inspection apparatus and an image detection method for detecting and recognizing a desired pattern on a wafer without any marks, and to provide a semiconductor device formed through the utilization.例文帳に追加

ウェハ上の所望のパターンをノイズ無しに検出または認識することのできる半導体ウェハ検査装置及び画像検出方法及びその利用を経て形成された半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a device and a method for data conversion which converts image data to data for luminous intensity simulation by fetching an optically observed image of a photomask pattern into a computer and performing image processing.例文帳に追加

フォトマスクパターンの光学的観察像をコンピュータに取り込み、画像処理を施すことによって、光強度シミュレーションのためのデータに変換する、データ変換装置及びデータ変換方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a printed wiring board by which even a substrate having a micro copper pattern with high density of L/S=50/50 μm or less can be selectively plated by nonelectrolytic metal.例文帳に追加

Ｌ／Ｓ＝５０／５０μｍ以下の高密度な微細銅パターンを有する基板であっても、選択的に無電解金属めっき処理を行うことのできるプリント配線板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the method and apparatus for compacting support particulates media around ceramic shell molds and around fugitive patterns, the mold or pattern is placed in a container and the container is filled with support particulates media.例文帳に追加

セラミックシェル鋳型周囲および消失模型周囲の支持粒子媒体を詰固める方法および装置において、この鋳型または模型はコンテナに配置され、このコンテナは支持粒子媒体で充填される。 - 特許庁

To provide a photoacid generator, a copolymer including the photoacid generator, a chemically amplified resist composition including the copolymer, and a pattern-forming method using the chemically amplified resist composition.例文帳に追加

光酸発生剤、この光酸発生剤を含む共重合体、この共重合体を含む化学増幅型レジスト組成物およびこの化学増幅型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrode for electrochemical machining capable of exactly and easily forming a predetermined machining pattern and stably maintaining the machining of high accuracy for a long period of time; and a manufacturing method therefor.例文帳に追加

所定の加工パターンを正確にかつ容易に形成することができ、高精度の加工を長期にわたって安定して維持することのできる電解加工用電極とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask layout forming method for an electron beam exposure for reducing generated slivers when a fracture process is implemented so as to transfer a layout including a diagonal line pattern on a photomask.例文帳に追加

斜線パターンを含むレイアウトをフォトマスク上に転写するためにフラクチャー過程を行うとき、スライバーの発生を減少できる電子ビーム露光のためのマスクレイアウト形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a communication method for easily realizing radio communication by forming an antenna directional pattern by an array antenna between a base station and mobile equipment.例文帳に追加

本発明の課題は、基地局と移動機との間においてアレイアンテナによりアンテナ指向性パターンを形成してなされる無線通信が容易に実現できるような通信方法を提供することである。 - 特許庁

The method comprises the step of obtaining secondary electron images of sites on a sample surface by irradiating the sample surface with charged particle beams, and the step of detecting a pattern having bad electric properties based on the images.例文帳に追加

試料表面に荷電粒子ビームを照射して試料表面の各部位の二次電子画像を得る工程と、その画像に基づいて電気特性の不良なパターンを検出する工程を含む。 - 特許庁