「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(379ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain a method of projecting and exposing and a method of manufacturing a device using the same, in which the focus position of a projection optical system is detected with good precision irrespective of change with time, and the pattern on a reticle surface is projected and exposed on a wafer surface with high precision.例文帳に追加

経時的変化にかかわらず投影光学系のフォーカス位置を精度良く検出し、レチクル面上のパターンをウエハ面上に高精度に投影露光することができる投影露光方法及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。 - 特許庁

To provide an exposure method and exposure apparatus, and a method of manufacturing a device and the device, where a pattern having a line width larger than a resolution limit is transferred in desired contrast to secure a desired resolution when a projection optical system clearing in midsection is used.例文帳に追加

本発明は、中抜けのある投影光学系を使用した場合に、限界解像よりも大きな線幅のパターンを所望のコントラストで転写して所望の解像度を確保する露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法及びデバイスを提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of the transparent electrode forming a conductive layer on a transparent support body, the conductive layer is made by forming a pattern in a photogravure method with the use of dispersion liquid containing metal nanowire and conductive polymers.例文帳に追加

透明支持体上に導電層を形成する透明電極の製造方法において、該導電層は、金属ナノワイヤと導電性高分子を含有する分散液を用い、グラビア印刷法によりパターンを形成することを特徴とする透明電極の製造方法。 - 特許庁

To provide a method for producing silver particulates capable of easily producing silver particulates hard to be flocculated, to provide silver particulates produced by the method of producing silver particulates, to provide a conductive pattern having excellent conductivity, and to provide an electronic device and an electronic appliance having excellent performance.例文帳に追加

凝集し難い銀微粒子を容易に製造し得る銀微粒子の製造方法、かかる銀微粒子の製造方法により製造された銀微粒子、導電性に優れる導電性パターン、性能に優れる電子デバイスおよび電子機器を提供すること。 - 特許庁

To provide an inexpensive laminated structure capable of forming a fine pattern conveniently by applying a low cost method of high material use efficiency, e.g. printing method, and including a higher mobility semiconductor layer having a high value added function other than patterning.例文帳に追加

印刷法のような低コストかつ材料使用効率の高い方法が適用でき、簡便に微細なパターンの形成が可能であって、かつ、パターン形成以外に高付加価値機能を有し、より高移動度の半導体層を有する積層構造体を廉価に提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition excellent in terms of resolution, adhesion and adhesive strength while it has a adequately reduced moisture permeability and moisture absorbing property and to provide a photosensitive element using the same and a resist pattern formation method and a method for adhesion of a material to be adhered.例文帳に追加

透湿率、吸湿率を充分に低く抑えつつ、解像性、密着性、接着強度に優れた感光性接着剤組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び被接着部材の接着方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an optical disk recording method which corrects edge shifts separating in accordance with preceding mark lengths by using a recording pulse parameter classified according to a pattern of combination of the mark length and preceding space length, and to provide an optical disk recording device using the optical disk recording method.例文帳に追加

マーク長と先行スペース長の組み合わせのパターンで分類した記録パルスパラメータを用いることにより，先行マーク長に依存して分離するエッジシフトを補正可能な光ディスク記録方法及びそれを用いた光ディスク記録装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive element having excellent durability for noble metal plating and sufficient release characteristics and preventing a photopolymerizable compound from permeating through a protective film, and to provide a method for forming a resist pattern and a method for producing a lead frame or a printed wiring board using the photosensitive element.例文帳に追加

貴金属めっき耐性に優れ、充分な剥離特性を有し、かつ光重合性化合物が保護フィルムから透過しない感光性エレメント及びこれを用いたレジストパターンの形成法、リードフレーム又はプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method using a transfer intaglios, wherein the production cost by a printing method is reduced even if an object to be printed has a large size by preparing a printing plate at a low cost without increasing technical difficulty level in accuracy, and to provide the transfer intaglios.例文帳に追加

精度的な技術難易度を上げることなく、低価格で印刷版を用意することで、大型の印刷対象物であっても印刷法による製造コストを削減できる転写凹版を用いたパターン形成方法および転写凹版を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a black matrix substrate that has a black matrix layer in which multiple attachment pattern is formed, the method being free from application failure when spin-applying a liquefied photosensitive resin composition in which pigment is dispersed.例文帳に追加

多面付けパターンを形成したブラックマトリックス層を有するブラックマトリックス基板の製造方法において、顔料を分散させた液状の感光性樹脂組成物をスピン塗布するときに、塗布不良を生じないブラックマトリックス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for controlling a finishing rolling mill, which prevents strip running from having troubles caused by the decreased rolling speed and controls the temperature of a material to be rolled to accord to the decreased rolling speed, to provide a method of controlling the mill, and to provide a method of creating a control pattern of the mill.例文帳に追加

圧延速度の減速に起因する通板トラブルの発生を抑制し、且つ圧延速度の減速に応じて被圧延材の温度を制御できる仕上連続圧延機の制御装置、制御方法及び制御パターン作成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an imprint mold structure having high releasability, an imprint method that reduces the breakage of a pattern transferred to a resist in releasing the mold from the resist after the transferring step, a magnetic recording medium having improved signal quality, and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

剥離性が高いインプリント用モールド構造体、転写工程後にレジストからモールドを剥離する際、レジストに転写されたパターンの破損を低減するインプリント方法、並びに信号品位を向上させた磁気記録媒体及びその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a printed board capable of attaining an extremely high etching factor which can not be attained in a conventional method, capable of reproducing a metal pattern whose accuracy is the same as designed and having a high aspect ratio and a highly accurate cross-sectional shape; and to provide also a method for manufacturing the printed board.例文帳に追加

従来の方法では不可能であった飛躍的な高エッチングファクターを達成し、かつ精度についても設計通りの金属パターンを再現できる、高アスペクト比かつ高精細なエッチング断面形状のプリント配線板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a new organic electroluminescent element capable of resolving a variety of problems occurring when etching with an etching fluid by using a photoresist, while maintaining the merit of the accuracy of a pattern in a conventional photolithography method.例文帳に追加

従来のフォトリソグラフィー法におけるパターンの精度が優れている点を維持しつつも、フォトレジストを使用してエッチング液によりエッチングする際に生じ得る種々の懸念を極力解消し得る、新たな有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a substrate laminating method that has superior productivity, causes no deformation of channel patterns, even if a fine channel pattern is formed on a substrate, and to provide a manufacturing method of microchips, and microchips with the deformation of a fluid circuit controlled.例文帳に追加

生産性がよく、基板に微細な流路パターンが形成されている場合であっても、該流路パターンの変形を生じない基板の貼り合わせ方法およびマイクロチップの製造方法、ならびに流体回路の変形が抑制されたマイクロチップを提供する。 - 特許庁

To provide a recording device and a recording method with which deterioration of a recording medium can be prevented even when a sync pattern is overwritten directly with respect to a rewritable optical information recording medium into which the method of SPS (start point shift) cannot be introduced due to the restriction of a linking rule or the like.例文帳に追加

リンキングルールの制約等によりＳＰＳの手法を導入できないような書き換え可能な光学情報記録媒体に対し、シンクパターンをダイレクト・オーバライトしても、記録媒体の劣化を防止することができる記録装置及び記録方法を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method of the electromagnetic wave shielding member has a step in which the metal fine particle binding body having a porosity of 20-80% formed by binding the metal fine particles via a binder resin is formed into a mesh pattern using a printing method, and a step in which the resulted product is subjected to plating process.例文帳に追加

透明基材上に、印刷法を用いて、金属微粒子を樹脂バインダーによって結着した空隙率が２０〜８０％の金属微粒子結着体をメッシュパターンに形成し、このものをめっき処理する電磁波シールド部材の製造方法である。 - 特許庁

To provide a method that vacuum-laminates film-shaped adhesives on an inner layer circuit pattern in a state of having extremely excellent surface smoothness, in a method for manufacturing a build-up type multilayer printed wiring board where a conductor circuit and an insulating layer are alternately laminated.例文帳に追加

導体回路層と絶縁層とを交互に積み上げたビルドアップ方式の多層プリント配線板の製造法において、フィルム状接着剤を内層回路パターンに非常に優れた表面平滑性を持った状態で真空積層する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask pattern forming method and a semiconductor device manufacturing method, which are capable of making a semiconductor device undergo the desired processing by thickening the thin part of a mask film that is used for processing such as etching of the semiconductor device.例文帳に追加

エッチング等の半導体装置に対する処理時に使用するマスク膜における薄膜部の厚みを増大することにより、半導体装置に所望の処理を施すことが可能なマスクパターン形成方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a product improving reproducibility of a contour shape of an antenna pattern formed with conductive ink when manufacturing a base film for an IC tag inlet in a process of using a printing method and attaining efficient and stable printing by preventing short circuiting.例文帳に追加

印刷方式を利用したプロセスでＩＣタグインレット用ベースフィルムを製造するに際し、導電性インキによるアンテナパターンの輪郭形状の再現性を上げ、短絡を防止して効率的に安定した印刷を行うことができる方法と製品を提供すること。 - 特許庁

To provide a control method of an ESPAR (Electronically Steerable Passive Array Radiator) antenna that can obtain an excellent converged value capable of obtaining an excellent evaluation function value with the smaller number of repetition times than that of a conventional control method when the major beam of an antenna system is directed to a desired wave and the null pattern is directed to an interference wave.例文帳に追加

エスパアンテナの制御方法において、所望波に対して主ビームを向けかつ干渉波に対してヌルを向けるときに、従来例に比較して少ない反復回数で良好な評価関数値を得ることができ良好な収束値を得る。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition having excellent developability and a sufficiently high photosensitive characteristic, and further excellent in a bonding strength and reliability of a cured film, a photosensitive element using the same, a forming method for a resist pattern, and a bonding method for a member to be bonded.例文帳に追加

現像性が良好で、十分に高い感光特性を有し、かつ硬化膜の接着強度及び信頼性に優れた感光性接着剤組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び被接着部材の接着方法を提供する。 - 特許庁

To provide a coating method free from the uncoated part or the ununiformity on the surface of a base material in an outside working site and prevented from the deterioration of the features such as the color or the pattern of the surface of the base material and a photocatalyst-carrying structure formed by using the coating method.例文帳に追加

外の作業現場において基材表面に塗り残し、又は塗りむらがなく、しかも、基材表面の色や模様等の特徴を損なうことない塗布方法及び、該塗布方法を用いた光触媒坦持構造体を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for adhering exposure masks for performing high-grade exposure, and a projection aligner even in a near-field exposure method for improving adhesion properties between a mask for exposure and a substrate, and preparing a finer pattern than the wavelength of exposure light.例文帳に追加

露光用マスクと基板との密着性を向上させ、露光光の波長より小さな微細パターンを作製する近接場露光方法においても、高品位な露光が行える露光マスクの密着方法及び密着装置並びに露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a volume change resin molding, containing a water absorption high molecular resin, that is easy to insert to a mold, easy to mold and fabricate, and enables fine processings, and to provide its manufacturing method, a forming method of a minute pattern and an optical element manufactured by using them.例文帳に追加

型取りや成型加工が容易で、微細加工を可能とする、吸水性高分子樹脂を含む体積変化率の大きい体積変化樹脂成形体およびその製造方法、微細パターンの形成方法、これらを用いて製造された光学素子を提供する。 - 特許庁

To provide a mask data creation method by which what kind of OPC (optical proximity correction) process is performed can be easily read out and removal of an OPC pattern in an inhibited region can be easily checked, and to provide a mask manufacturing apparatus, a mask, a program and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

どの種類のＯＰＣ処理が行われているかを容易に読み取れ、かつ禁止領域でＯＰＣパターンが除去されていることが容易に確認できるマスクデータ作成方法、マスク製造装置、マスク、プログラム及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a paste application method by which problems that a coating pattern is not formed in a desired position and a coating unevenness occurs at the start-up and the stoppage of the coating are solved in the application of high viscous paste such as phosphor paste for a PDP by an electric field jet method.例文帳に追加

電界ジェット法によりＰＤＰの蛍光体ペーストのような高粘度ペーストを塗布する場合に、所望の位置に塗布パターンが形成できないという問題や、塗布の開始と終了時点での塗布ムラをなくすペースト塗布方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a deposition mask which performs the positional accuracy of ±10 μm of a pattern in about 50 cm square size even if the deposition mask is manufactured by a transfer method of transferring a metal mask to a body frame by once adhering the metal mask on a screen fabric adhered to the frame.例文帳に追加

枠に貼り付けられた紗の上に、一旦メタルマスクを貼り付け、メタルマスクを本枠上へ転写する転写法によって蒸着マスクを製造しても、約５０ｃｍ角大でパターンの位置精度±１０μｍを達成する製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which prevents excessive polishing in the vicinity of an orientation flat (OF) when an interlayer insulation film formed of a silicon oxide film on a metal pattern is flattened and polished by a CMP method, and excels in uniformity of the thickness of the insulation film.例文帳に追加

金属パターン上のシリコン酸化膜などからなる層間絶縁膜をＣＭＰ法で平坦化研磨するとき、オリエンテーションフラット（ＯＦ）近傍において過剰研磨がなく、絶縁膜の膜厚均一性がよい半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a printing plate by which a stable fine image pattern can be reproduced by improving the adhesive property of a light shielding ink to a photosensitive printing plate material and to provide a screen printing plate and a gravure printing plate each produced using the method.例文帳に追加

遮光性インクの感光性版材へのインク付着性を向上させることにより、安定且つ精細な画像パターンの再現を可能とする印刷版の製造方法並びにそれを用いて製造されたスクリーン印刷版及びグラビア印刷版を提供する。 - 特許庁

To provide a printing method and a printing equipment, in which the setting of a snapping-off condition can be quickly and easily executed due to the change of a printing pattern, the development of a poor printing or the like by a method wherein the good or bad of snapping-off properties is quantitatively measured.例文帳に追加

版離れ性の良否を定量的に測定することによって、印刷パターンの変更や印刷不良発生等で版離れ条件を設定する際には、その設定を速やかに容易に行うことのできる印刷方法および印刷装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for stably manufacturing a color filter with a wide margin, which has a flat and uniform colored layer free from color mixing and a white omission defect and has no rough surface of a partition pattern, in the color filter wherein each pixel is printed by an ink jet method.例文帳に追加

インキジェット方式により各画素が印刷されるカラーフィルタにおいて、混色や白抜け欠陥のなく平坦で均一な着色層を有し、かつ隔壁パターンの表面荒れのないカラーフィルタを、マージン広く安定して製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for determining process alignment when a phase shift region is formed in the manufacture of a phase shift mask to be used for the manufacture of a semiconductor device, and to provide a method for determining photoresist pattern alignment when a phase shift region is formed in the manufacture of a phase shift mask.例文帳に追加

半導体装置の製造で用いられる位相シフトマスクの製造における位相シフト領域の形成時の処理アライメントの決定方法、位相シフトマスクの製造における位相シフト領域の形成時のフォトレジストパターンアライメントの決定方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of performing positional accuracy±10 μm of a pattern in a square of about 50 cm even when a metal mask is once adhered on a screen fabric adhered to a frame and the deposition metal mask is manufactured by a transfer method of transferring the metal mask to a body frame.例文帳に追加

枠に貼り付けられた紗の上に、一旦メタルマスクを貼り付け、メタルマスクを本枠上へ転写する転写法によって蒸着マスクを製造しても、約５０ｃｍ角大でパターンの位置精度±１０μｍを達成する製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an image processing method and an image processor capable of making a pattern caused by a repetitive period of a threshold matrix size inconspicuous even when the threshold matrix size is small in the case of employing the error spread method to express a pseudo medium tone.例文帳に追加

誤差拡散法を用いて擬似中間調を表現するに際し、閾値マトリクスサイズが小さくても、閾値マトリクスサイズの繰り返し周期によって生じる模様を目立たなくすることが可能な画像処理方法および画像処理装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a photosensitive element having high sensitivity, even in direct plotting exposure with a less degradation change of sensitivity, even when leaving the photosensitive element coated with a protective film over a long period and to provide a method for forming a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

保護フィルムで被覆した感光性エレメントを長期間放置しておくことによる感度の低下変化が少なく、直接描画露光でも高感度である感光性エレメント、レジストパターンの形成方法、及び、プリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the film-forming method in which a mask 130 having an arbitrary pattern is arranged on a base board 10, and in which the thin film 40 is formed by adhering fluorocarbon onto the base board 10 by a plasma chemical vapor deposition method, the mask 130 formed by a weak magnetic material is used.例文帳に追加

任意のパターンを有するマスク１３０を基板１０上に配置し、プラズマ化学気相成長法により基板１０上にフルオロカーボンを付着させて、薄膜４０を形成する成膜方法において、弱磁性体により形成されたマスク１３０を用いる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in photosensitivity, resolution, adhesion, mechanical strength and flexibility, and useful to increase the density and resolution of a printed circuit, a photosensitive element using the composition, a method for producing a resist pattern and a method for producing a printed circuit board.例文帳に追加

光感度、解像度、密着性、機械強度及び柔軟性が優れ、プリント配線の高密度化及び高解像化に有用である感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which has high sensitivity for direct drawing exposure and which has favorable resolution, adhesion and peeling property, and to provide a photosensitive element, a resist pattern forming method, and a method for manufacturing a printed wiring board which uses the photosensitive resin composition.例文帳に追加

直接描画露光においても高感度であり、解像度、密着性及び剥離特性がいずれも良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Respective layers constituting the color filter with layered photospacers are disposed with equal pitch according to a scanning slit exposure method, or are disposed at random or are disposed with equal pitch according to an exposure method using a photomask provided with a pattern corresponding to layers arranged at random.例文帳に追加

積層フォトスペーサー付きカラーフィルタを構成する各層をスキャン型スリット露光方式により等ピッチに配設、又は、ランダムに配列される層に対応したパターンが設けられたフォトマスクを用いた露光方式によりランダムに配設、或いは等ピッチに配設する。 - 特許庁

This manufacturing method is carried out through such a manner where insulating films 34 to 38 are successively formed on a fourth wiring layer 33 (insulating films 34, 36, and 38 are formed of silicon nitride, and insulating films 35 and 37 are formed of silicon oxide), and a groove pattern 40 is transferred onto the insulating film 38 through a photolithography method.例文帳に追加

第４配線層の配線３３上に絶縁膜３４〜３８を順次形成し（絶縁膜３４，３６，３８はシリコン窒化膜からなる。絶縁膜３５，３７はシリコン酸化膜からなる）、絶縁膜３８に溝パターン４０をフォトリソグラフィを用いて転写する。 - 特許庁

Generally, there were two methods; the former was to put the undercoating with ingredients containing the pigment and print the white patterns by mica (a negative method with the dark ground color and the pattern in white contrasted with the ground), and the latter was to create the undercoating with mica and print with the ingredients (a positive method with white ground color and colored patterns). 例文帳に追加

一般的には、顔料を混ぜた具で地塗りをして、雲母で白色の紋様を摺る方法（地色が暗く、紋様を白く浮かせるネガティブ法）と、雲母で地塗りして、具で摺る具摺り（地色が白く、紋様に色がつくポジティブ法）も行われた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a method for manufacturing a high quality ink jet head having no risk of shape collapse of an ink flow passage pattern even when using a solvent having strong dissolution force in forming a coated resin layer being an ink flow passage wall, and to provide the ink jet head manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加

インク流路壁となる被覆樹脂層を形成する際に、溶解力の強い溶媒を用いてもインク流路パターンの形崩れのおそれがない、高品位のインクジェットヘッドの製造方法、該製造方法で製造されたインクジェットヘッドを提供する。 - 特許庁

To provide a blanket piling prevention method drastically reducing the occurrence and growth of blanket piling as a cause of the printing quality deterioration and, moreover, being free from the pattern dependency in a web offset press, and to provide a printer provided with a function of performing the prevention method.例文帳に追加

オフセット輪転印刷機において、印刷品質劣化の一因であるブランケットパイリングの発生や成長を大幅に削減し、しかもパターン依存性をもたない防止方法及び該方法を実施する機能を具備した印刷機を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a printed circuit board capable of reducing lead time, being formed in the shape that an outer circuit pattern is embedded in an insulating layer unlike a substrate formed by the existing method, and manufacturing a thinner printed circuit board; and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

リードタイムを減らすことができ、既存方法で形成された基板とは異って、外層回路パターンが絶縁層に埋め込まれた形状で形成でき、薄板の印刷回路基板を製造することができる印刷回路基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁