「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(381ページ目) - Weblio英語例文検索

The method comprises steps of forming a conductive pattern on a substrate surface; subjecting it to migration electrodeposition or electrocrystallizing high-temperature superconducting particulates and/or high- temperature superconducting precursor substance particulates on the superconducting pattern; and forming the superconducting wiring, by heat treating the substrate to sinter the particulates.例文帳に追加

基体表面に導電性パターンを形成する工程、前記導電性パターン上に、高温超伝導微粒子および／または高温超伝導体前駆物質微粒子を泳動電着または電析させる工程、及び前記基体を熱処理して、前記微粒子を焼結させ、超伝導配線を形成する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁

In the method for producing the ceramic green sheet, after a prescribed electrode pattern is formed on an ultraviolet curable peelable adhesive layer on one side of a base film, the ceramic green sheet is molded by ceramic slurry on the adhesive layer on which the electrode pattern is formed.例文帳に追加

ベースフィルムの片側に、紫外線硬化型剥離粘着層を有するキャリアシートの当該紫外線硬化型剥離粘着層上に、所定の電極パターンを形成した後、当該電極パターンの形成された紫外線硬化型剥離粘着層上にセラミックスラリーによりセラミックグリーンシートを成形することを特徴とするセラミックグリーンシートの製造方法。 - 特許庁

To provide a base material with a gold plated fine metal pattern obtained by a plated article manufacturing method which can suppress occurrence of abnormal deposition of metal on a ground resin surface when electroless nickel-palladium-gold plating is applied to the surface of a fine metal pattern supported on a resin base material.例文帳に追加

樹脂基材上に支持された金属微細パターンの表面をメッキ処理の対象とし、そのようなメッキ処理対象面に無電解ニッケル−パラジウム−金メッキを行う際に、下地である樹脂表面に金属の異常析出が起きるのを抑えることができるメッキ処理品の製造方法によって得られる、金メッキ金属微細パターン付き基材を提供する。 - 特許庁

A fine pattern formation method for semiconductor elements facilitates the pattern formation stage by implementing at least part of photoresist trimming by atomic layer vapor deposition together with spacer oxide film vapor deposition, thereby enabling the precision of trimming to be enhanced and photoresist footing, which may occur during the trimming, to be reduced.例文帳に追加

本発明の実施形態に係る半導体パターン形成方法によれば、フォトレジストのトリミングの少なくとも一部を原子層蒸着方法によってスペーサ酸化膜蒸着と共に実施することにより、段階が容易となり、トリミングの精密度を高めることができ、トリミング中に発生し得るフォトレジストフーチング（ｆｏｏｔｉｎｇ）を減らすことができる。 - 特許庁

A manufacturing method of a gray scale mask having a variable density pattern corresponding to change of optical transmissivity has a step of forming a dry plate 430 by applying a photoemulsion onto a transparent substrate and a step of irradiating the dry plate 430 with laser beams which are subjected to a plurality of gradations of intensity modulation corresponding to the variable density pattern.例文帳に追加

本発明に係るグレイスケールマスクの製造方法は、光透過率の変化に対応した濃淡模様を有するグレイスケールマスクの製造方法であって、透明基板上にフォトエマルジョンを塗布して乾板を形成するステップと、濃淡模様に対応して複数階調の強度変調を行ったレーザー光を乾板に照射するステップと、を備える。 - 特許庁

To provide a photoresist composition having high transparency to exposure light, especially light of ≤300 nm wavelength, capable of obtaining a resist pattern of excellent section rectangularity, and having high storage stability; a low-molecular compound and high-molecular compound for obtaining the photoresist composition; and a resist pattern forming method using the photoresist composition.例文帳に追加

露光光、特に３００ｎｍ以下の波長光に対する透明性が高く、かつ断面矩形状の良好なレジストパターンを得ることができ、保存安定性の高いホトレジスト組成物、該ホトレジスト組成物を得るための低分子化合物および高分子化合物、ならびに該ホトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The forming method of a resist pattern is employed, which comprises the processes of forming a resist film 2 containing silicon on a workpiece substrate 1, forming a protective film 3 on the resist film 2 for suppressing release of silicon from the resist film 2, and forming a latent image of a predetermined resist pattern by irradiating the resist film 2 with exposing light 5 via the protective film 3.例文帳に追加

被加工基板１上にシリコンを含むレジスト膜２を形成する工程と、レジスト膜２の上にレジスト膜２からのシリコンの放出を抑制する保護膜３を形成する工程と、保護膜３を介してレジスト膜２に露光光５を照射し所定のレジストパターン潜像を形成する工程とを有するレジストパターン形成方法を用いる。 - 特許庁

The method for producing the solar cell backsheet includes a step of printing a protective varnish in a pattern over a metal foil 18 glued on a face of a plastic film used as a base material and a step of stamping out the pattern after gluing a plastic film over the metal foil 8 after removing the non-printed area of the metal foil by corrosion.例文帳に追加

基材となるプラスチックフィルムの片面に貼り合せた金属箔の上からパターン状に防護ニスを印刷し、非印刷領域の金属箔を腐食によって除去した後に金属箔の上から全面にプラスチックフィルムを貼り合せてからパターンを打ち抜くことを特徴とする請求項１に記載の太陽電池バックシートの製造方法 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film using the composition and a pattern formation method which simultaneously satisfy sensitivity, resolution, pattern shape, line edge roughness and dry etching resistance in lithography adopting, as an exposure light source, especially an electron beam, x-rays or EUV light.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、感度、解像力、パターン形状、ラインエッジラフネス、及びドライエッチング耐性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

The method for measuring the core width of the magnetic read head by reading a magnetic pattern comprising one or more island-like areas which have a desired magnetization direction in a magnetic recording medium, is designed to calculate the core width of the magnetic read head based on the read output read from the magnetic pattern when a part of the magnetic patterns pass through the magnetic read head.例文帳に追加

磁気記録媒体において所望の磁化方向を有する１つ以上の島状領域からなる磁気パターンを読み取ることにより磁気リードヘッドのコア幅を測定する方法であって、磁気パターンの一部が磁気リードヘッドを通過する際に、磁気リードヘッドが磁気パターンから読み出すリード出力をもとに磁気リードヘッドのコア幅を算出する。 - 特許庁

To provide an embossed sheet dispensing with the formation of a hot press mold and a hot press roll, capable of altering an embossed pattern easily, having economical efficiency, retaining fine protruded and recessed patterns without resuming flat surface and capable of arbitrarily regulating the depth of the unevenness of the embossed pattern, to provide a method for manufacturing the same and an embossed sheet manufacturing apparatus.例文帳に追加

熱プレス型、熱プレスロールを作成する必要がなくなるとともに、凹凸パターンの変更を容易に行なうことができ経済的で、細かい凸部や凹部でも平坦に逆戻りすることはなく、凹凸パターンの凹凸の深さを任意に調節できる凹凸シートとその製造方法および、凹凸シート製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device dispensing with the strict setting of a judge threshold value when an inspection image signal detected from an object to be inspected having a circuit pattern formed thereon by charged corpuscular beam or the like is compared with a reference image signal to judge a flaw on the basis of the judge threshold value to inspect the same, and an inspection method using the same.例文帳に追加

回路パターンなどが形成された被検査対象物から荷電粒子線等によって検出される検査画像信号と参照画像信号とを比較して判定しきい値により欠陥を判定して検査する際、厳密な判定しきい値を設定することを不要にしたパターン検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method for forming a mottled pattern by decoloring a dyed cloth and capable of forming a mottled pattern having improved natural and unique texture while suppressing the embrittlement of the fiber of the dyed cloth with the decoloring agent.例文帳に追加

本発明は、染色された染色布帛に脱色により班状模様を形成する班状模様形成方法に関し、その目的は、脱色剤による染色布帛の繊維の脆化を抑制しながら、一層自然且つ斬新な風合いを持つ斑状模様を染色布帛に形成することができる斑状模様形成方法を提供する点にある。 - 特許庁

To provide an ink composition that hardly cause poor transcription etc. when used especially for intaglio offset printing method etc., does not remain any component to cause an outgas in an ink pattern after printed and then glazed on a surface of a substrate, and is excellent in balance between printing characteristics and drying property, etc. and transparency or chemical resistance, etc. of the ink pattern.例文帳に追加

特に凹版オフセット印刷法等に使用した際に転写不良等を生じにくい上、基板の表面に印刷して焼き付けた後のインキパターン中にアウトガスのもとになる成分が残留せず、印刷特性や乾燥性等と、前記インキパターンの透明性や耐薬品性等とのバランスに優れたインキ組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an electronic-component housing type printed board which facilitates alignment between a connection pattern and a connection terminal, has high connection reliability, and eliminates the need for separate rewiring and reduces manufacturing costs, by directly connecting the connection pattern on a flexible film with the connection terminal of an electronic component by a connecting member, and to provide a method for manufacturing the board.例文帳に追加

接続部材によってフレキシブルフィルム上の接続パターンと電子部品の接続端子を直接接続させることで、接続パターンと接続端子間の整合を容易にし、接続信頼性が高いし、別途の再配線を不要にして製造コストを節減する電子部品内装型プリント基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The development processing method includes processing liquid supply processes S14-S16 of supplying a processing liquid, where a hydrophobic agent for hydrophobizing the resist pattern is diluted by hydrofluoroether onto the substrate where the rinse liquid is supplied, after the resist pattern is developed; and processing liquid removal steps S18, S19 for removing the processing liquid from an area on the substrate to which the processing liquid has been supplied.例文帳に追加

レジストパターンが現像された後、リンス液が供給された基板上に、レジストパターンを疎水化する疎水化剤がハイドロフルオロエーテルで希釈されてなる処理液を供給する処理液供給工程Ｓ１４〜Ｓ１６と、処理液が供給された基板上から、処理液を除去する処理液除去工程Ｓ１８、Ｓ１９とを有する。 - 特許庁

The method for manufacturing a liquid crystal panel 100 (the liquid crystal display device) includes: a step of laminating a TFT substrate 101 for holding a liquid crystal layer 31 with a CF substrate 102; and a step of forming a barrier pattern 40 of a direct parallax barrier pattern on a surface opposite to a side that holds the liquid crystal layer 31 of the CF substrate 102.例文帳に追加

この液晶パネル（液晶表示装置）１００の製造方法は、液晶層３１を挟持するためのＴＦＴ基板１０１とＣＦ基板１０２とを貼り合わせる工程と、ＣＦ基板１０２の液晶層３１を挟持する側とは反対側の表面上に直接視差バリアパターン４０を形成する工程とを備える。 - 特許庁

The method of processing the cavity of the core substrate includes: a step of forming a first processing region defined by a circuit pattern on one surface of the core substrate; a step of forming a second processing region defined by a circuit pattern on the other surface of the core substrate; and a step of processing a cavity by removing the first processing region completely from one surface of the core substrate.例文帳に追加

本発明に係るコア基板のキャビティ加工方法は、コア基板の一面に回路パターンにより区画される第１加工領域を形成する工程と、コア基板の他面に回路パターンにより区画される第２加工領域を形成する工程と、コア基板の一面から第１加工領域を全て除去してキャビティを加工する工程と、を含む。 - 特許庁

In the method for forming the oriented polyester film, a mold having an uneven pattern which is heated at a temperature between the glass transition temperature and crystallization temperature of the polyester of the polyester film is pushed to at least one side of the polyester film and then peeled off to transfer the uneven pattern of the mold to the polyester, and the polyester film is stretched.例文帳に追加

ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、ポリエステルフィルムのポリエステルのガラス転移温度以上結晶化温度以下の温度に加熱した凹凸パターンを有する型を押し当てその後に型を剥離することで型の凹凸パターンをポリエステルフィルムに転写し、ポリエステルフィルムを延伸することを特徴とする、延伸ポリエステルフィルムの製造方法。 - 特許庁

The pattern forming method includes steps of: forming an etching mask 9 having a predetermined pattern formed on a member 3 to be processed; impregnating the etching mask 9 with a predetermined material 12; and patterning the member 3 to be processed using the etching mask 9 impregnated with the predetermined material 12.例文帳に追加

被加工部材３上に所定のパターンが形成されたエッチングマスク９を形成する工程と、前記エッチングマスク９に所定の物質１２を含浸させる工程と、前記所定の物質１２を含浸した前記エッチングマスク９を用い、前記被加工部材３をパターニングする工程と、を備えたことを特徴とするパターン形成方法が提供される。 - 特許庁

To provide a method and system for updating a recipe, capable of updating an optical condition stored in the recipe in order to detect a defect of a circuit pattern more easily without reducing an inspection time in a visual inspection device inspecting a semiconductor substrate including the circuit pattern formed thereon based on the recipe storing the optical condition.例文帳に追加

回路パターンが形成された半導体基板を光学条件が格納されたレシピに基づいて検査する外観検査装置において、回路パターンの欠陥をより検出し易くするために、検査時間を削ることなく、レシピに格納された光学条件を更新することが可能なレシピ更新方法およびレシピ更新システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a resist composition containing, as a base material, a molecular material capable of reducing LER and LWR in EUV lithography capable of forming an ultrafine pattern, and giving a resist film which ensures low outgassing in EUV exposure and has high etching resistance, and a resist pattern forming method using the same.例文帳に追加

極微細パターンを形成可能なＥＵＶリソグラフィーにおいて、ＬＥＲ及びＬＷＲの低減が可能な分子性材料を基盤材料として含有するレジスト組成物であって、ＥＵＶ露光時でのアウトガスが低く、またエッチング耐性の高いレジスト膜を与えるレジスト組成物、およびこれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method, device and program for generating a test pattern, capable of generating the test pattern efficiently, even when a number of pads are connected with other semiconductor chips in more internal parts than pads connected to external terminals and are not connected to the external terminals, concerning a multichip semiconductor device having a plurality of semiconductor chips built in.例文帳に追加

複数の半導体チップを内蔵するマルチチップ半導体装置において、外部端子に接続されるパッドより内部で他の半導体チッブに接続され外部端子には接続されないパッドが多い場合にも効率的にテストパターン作成を行うことができるテストパターン作成方法、作成装置、及び、作成プログラムを提供する。 - 特許庁

The method includes acts of: associating the ACK with a channel ID of a recipient; building an ACK information data pattern, wherein the length of the ACK message is based on the number of ACK messages to be transmitted; and combining the ACK information data pattern with one or more communication messages by applying an encoding scheme over the combined message.例文帳に追加

方法は、ＡＣＫと受信者のチャネルＩＤとを関係付ける動作と、ＡＣＫ情報データパターンを構築する動作と、ＡＣＫメッセージの長さは送信されるＡＣＫメッセージの数に基づき、組み合わされたメッセージに対してエンコードスキームを用いることによって、ＡＣＫ情報データパターンを１つ以上の通信メッセージと組み合わせる動作とを含む。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness (LER) and good dependence on a density distribution particularly in lithography using electron beams, X-rays or EUV light as an exposure light source, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス（Line edge roughness: LER）、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, capable of forming a resist pattern improved in the elution of a generated acid, line edge roughness, development defects and generation of scums, less liable to profile degradation, and having proper conformability with an immersion liquid in immersion exposure, and to provide a pattern forming method that uses the composition.例文帳に追加

発生酸の溶出、ラインエッジラフネス、現像欠陥、スカムの発生が改良され、プロファイルの劣化も少なく、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A lithographic method includes: a step of calculating laser metric based on a spectrum of a laser radiation emitted to the lithographic apparatus from a laser and representation of an aerial image of the pattern projected on the substrate by the lithographic apparatus; a step of either changing operation of the laser or adjusting the lithographic apparatus by using the laser metric; and a step of projecting the pattern on the substrate.例文帳に追加

レーザからリソグラフィ装置へ放出されたレーザ放射のスペクトルとリソグラフィ装置によって基板上に投影されるパターンの空間像の表現とに基づいてレーザメトリックを計算するステップと、レーザメトリックを用いてレーザの動作を変更するか又はリソグラフィ装置を調整するステップと、基板上にパターンを投影するステップとを含むリソグラフィ方法。 - 特許庁

A method for forming a resist pattern includes steps of: forming a resist layer containing a polymer of α-chloromethacrylate and α-methylstyrene on a substrate; performing rendering or exposure of a predetermined pattern by irradiating the resist layer with an energy beam; and developing the rendered or exposed resist layer with a developer containing n-amyl acetate at ≤5°C.例文帳に追加

基板上に、α−クロロメタクリレートとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層にエネルギービームを照射することにより、所定のパターンの描画又は露光を行う工程と、酢酸−ｎ−アミルを含む５℃以下の現像剤によって、前記描画又は露光されたレジスト層を現像する工程と、を含む。 - 特許庁

To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition that can simultaneously satisfy the requirements for high sensitivity, high resolution, desirable pattern configuration, desirable line edge roughness and desirable iso/dense bias in especially lithography using an electron beam, X-rays or EUV light as an exposure radiation source, and to provide a method of forming a pattern using the composition.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a resist material such as a chemically amplified resist material for providing an excellent pattern profile even at a substrate interface, in addition to a higher resolution in photolithography for micro-fabrication, and particularly in photolithography adopting, as an exposure source, KrF laser, ArF laser, F_2 laser, ultra-short ultraviolet light, electron beam, X-rays, or the like; and a pattern forming method utilizing the resist material.例文帳に追加

微細加工のためのフォトリソグラフィー、特にＫｒＦレーザー、ＡｒＦレーザー、Ｆ_２レーザー、極短紫外線、電子線、Ｘ線などを露光源として用いたリソグラフィーにおいて、高解像性と共に、基板界面においても良好なパターン形状を与える化学増幅レジスト材料等のレジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A method of manufacturing the surface emitting laser element includes: laminating a transparent dielectric layer 111a with an optical thickness of λ/4 on an upper surface of a laminated body; forming, on an upper layer thereof, a first resist pattern 120a defining an outer shape of a mesa structure and a resist pattern 120b protecting a region corresponding to a low reflection rate part included in an emitting region; and etching the dielectric layer 111a.例文帳に追加

積層体の上面に、光学的厚さがλ／４の誘電体層１１１ａを積層し、その上面に、メサ構造体の外形を規定するレジストパターン１２０ａ及び出射領域における反射率が低い部分に対応する領域を保護するレジストパターン１２０ｂを形成・硬化させた後、誘電体層１１１ａをエッチングする。 - 特許庁

The method of manufacturing the wiring board includes the steps of laser machining a board 10 having a wiring pattern 12, cutting the part of the wiring pattern 12, and, then, performing second laser machining to the board 10 using the same laser oscillator 30 as the first laser machining, and removing the residue adhered to the board 10 by the first laser machining.例文帳に追加

配線基板の製造方法は、配線パターン１２を有する基板１０に第１のレーザー加工を行って、配線パターン１２の一部を切断すること、及び、その後、第１のレーザー加工と同じレーザー発振器３０を利用して基板１０に第２のレーザー加工を行い、第１のレーザー加工によって基板１０に付着した残渣を除去することを含む。 - 特許庁

In the manufacturing method of a transparent conductive film provided with a conductive pattern on a transparent film base material, the conductive pattern containing the conductive fiber is formed by applying an emulsion containing at least hydrophilic solvent and hydrophobic solvent and conductive fiber on the transparent film base material.例文帳に追加

透明フィルム基材上に導電性パターンを有する透明導電性フィルムの製造方法であって、少なくとも親水性溶媒と疎水性溶媒及び導電性繊維を含むエマルションを塗布することにより、前記導電性繊維を含有する導電性パターンを形成することを特徴とする透明導電性フィルムの製造方法。 - 特許庁

The radiation irradiation method includes the step of irradiating a first part 102-1 of a subject 43 with first radiation 111-1 radiated in a radial pattern from a first point, and the step of irradiating a second part 102-2 of the subject 43 with second radiation 111-2 radiated in a radial pattern from a second point matched with the first point.例文帳に追加

第１点から放射状に放射される第１放射線１１１−１を被検体４３のうちの第１部分１０２−１に照射するステップと、その第１点に一致する第２点から放射状に放射される第２放射線１１１−２を被検体４３のうちの第２部分１０２−２に照射するステップとを備えている。 - 特許庁

To provide a method for determining a correction pattern capable of correcting periodic unevenness of a rotary polygon mirror with high accuracy and reducing man-hours for selecting an optimum correction value, in determining a periodic unevenness correction pattern of an apparatus for scanning a recording body by deflecting a light beam with the rotary polygon mirror, and to provide a light beam scanner.例文帳に追加

光ビームを回転多面鏡によって偏向して記録体上を走査する装置の周期的むら補正パターンを決定する場合、回転多面鏡の周期的むらを高精度に補正できかつ最適な補正値選択のための工数を減らすことができる補正パターンの決定方法及び光ビーム走査装置を提供する。 - 特許庁

In this manufacturing method for the thermal transfer sheet 1 wherein a transfer layer 12 having a prescribed pattern formed on a surface is laminated on a base material sheet 10, the pattern of the transfer layer 12 is formed by copying many hairline grooves 12a-12a onto the transfer layer 12 from an original plate 30 having the many hairline grooves 12a-12a formed on its surface.例文帳に追加

所定のパターンが表面に形成された転写層１２が基材シート１０上に積層された熱転写シート１の製造方法であって、転写層１２のパターンを、ヘアライン状の多数の溝１２ａ…１２ａが表面に形成された原版３０からその多数の溝を転写層１２に複製することにより形成する。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern includes, in the process of forming a resist pattern by a charged particle beam, a step of fabricating a conductor made of a conductive composition, consisting mainly of a conductive polymer, having a sulfonic acid group and/or a carboxyl group on a resist, and a step of removing the conductor, after irradiating it with a charged particle beam.例文帳に追加

荷電粒子線によるレジストパターン形成時にレジスト上にスルホン酸基および／またはカルボキシル基を有する導電性ポリマーを主成分とする導電性組成物からなる導電体を形成する工程と、荷電粒子線照射後に当該導電体を除去する工程を含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。 - 特許庁

In the method by which fine wiring is formed through a lift-off process, a deposited-film removing process is performed one or more times in the course of forming a thin film composed of a wiring material on a substrate 1 for widening the planar area of the opening 3 of a resist pattern 2 by partially or wholly removing a film 7 deposited on a resist pattern 2.例文帳に追加

リフトオフプロセスにより、微細配線を形成する方法において、基板１上に配線材料からなる薄膜を形成する成膜工程の途中に、レジストパターン２上の堆積膜７の一部又は全部を除去してレジストパターン２の開口部３の平面面積を広くする堆積膜除去工程を一回以上実施する。 - 特許庁

The resist pattern forming method exposes a photoresist film to form a resist pattern by irradiating the photoresist film with radiation, while a liquid (immersion liquid) is interposed that has higher index of refraction than air.例文帳に追加

空気より屈折率の高い液体（液浸液）を介在させた状態でフォトレジスト膜に対して放射線を照射することにより、そのフォトレジスト膜を露光させてレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法であって、保護膜を、下記条件（１）を満たす保護膜剥離液を用いて、前記フォトレジスト膜の表面から剥離させる工程（ｄ）を備えたレジストパターン形成方法。 - 特許庁

The optical pattern etching method includes steps of: forming a photosensitive hydrofluoric acid etching material on a semiconductor or quartz glass substrate; exposing the substrate along a pattern; heating the substrate; subjecting the substrate to development by using an alkali developing solution; and subjecting the substrate to hydrofluoric acid etching by using a solution having ≥30% to ≤50% concentration of hydrofluoric acid.例文帳に追加

光パターンエッチング方法は、半導体または石英ガラスからなる基板上に感光性フッ酸エッチング材料を形成する工程と、基板をパターン露光する工程と、基板を加熱する工程と、基板にアルカリ現像液を用いて現像を施す工程と、基板にフッ酸濃度30％以上50％以下の溶液を用いてフッ酸エッチングを行う工程とを備える。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a recording material having gloss even in either of a picture part and a non-picture part by conquering a defect of lowering of pattern clearness based on staining of printing elements or fixing inferiority generated by not quick absorbing of a solvent in an ink receptive layer when the pattern is formed by using color ink.例文帳に追加

顔料インクを用いてパターンを形成したときにインクの溶媒が速やかにインク受容層に吸収されないために生じる画線の滲みや定着不良に基づくパターンの鮮明性が低下するという欠点を克服し、かつ画像部及び非画像部のいずれにおいても光沢を有する記録材料の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a process for patternwise exposing a negative resist for an ink jet process of the pattern forming method, a pattern is formed by irradiation with an energy beam in an environmental atmosphere in which the contact angle between a negative resist surface which becomes developer-insoluble by an energy beam and ink becomes larger than the contact angle between an unirradiated developer-soluble surface part and the ink.例文帳に追加

インクジェット法のための、ネガ型レジストのパターン露光法において、エネルギー線により現像液不溶性となるネガ型レジスト表面のインクに対する接触角が、未照射部の現像液可溶性表面部のインクに対する接触角よりも大きくなる環境雰囲気中でエネルギー線を照射しパターンを形成するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method of forming wiring includes: jetting a colloidal metal solution onto a receptive layer base material having a porous receptive type layer formed on the surface thereof by an inkjet system based on image data of a conductive pattern and drawing; and then executing migration-proof treatment for applying a migration-proof solution to form a wiring having the conductive pattern.例文帳に追加

多孔質型受容層が表面に形成された受容層付基材上に、導電性パターンの画像データに基づいて、金属コロイド溶液をインクジェット方式により吐出して描画した後、マイグレーション防止溶液を塗布するマイグレーション防止処理を行って前記導電性パターンを持つ配線を形成することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a method for producing a laminate which is produced by forming a pattern layer on the surface of a substrate layer made of a rubber-reinforced resin composition and covering the pattern layer with a transparent resin layer, excellent in appearance, easy of production, and also excellent in adhesion between layers and/or in solvent resistance of the anchor coat layer.例文帳に追加

ゴム強化樹脂組成物からなる基材層の表面に図柄層を形成し、該図柄層を透明樹脂層で被覆してなる積層体の製造方法であって、外観に優れ、製造が容易な積層体、さらには各層間の密着性及び／又はアンカーコート層の耐溶剤性にも優れた積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wiring circuit board in which excellent connection reliability between a connection terminal formed as one part of a conductor wiring pattern and an external terminal can be ensured, even if the conductor wiring pattern is formed by plating at fine pitch, and to provide a method of manufacturing the wiring circuit board and a connection structure between the wiring circuit board and an electronic component.例文帳に追加

導体配線パターンをめっきによりファインピッチで形成しても、その導体配線パターンの一部として形成される接続端子と、外部端子との良好な接続信頼性を確保することのできる、配線回路基板、および、その配線回路基板の製造方法、ならびに、配線回路基板と電子部品との接続構造を提供する。 - 特許庁