「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(384ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a nanoimprint pattern forming method capable of controlling the leak of a surplus resin without requiring a complicated control mechanism in a transfer device and forming a dummy groove in a mold which causes a molding defect by a residual resin, and also to provide a base material used in the method.例文帳に追加

転写装置に複雑な制御機構を必要とせず、また、樹脂残留によりモールド欠陥を引き起こす原因となるダミー溝をモールドに形成せずに、余剰樹脂の漏出を制御することができるナノインプリントパターン形成方法およびそれに用いられる基材を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a system for liquid droplet discharging, which can form (draw) a pattern with discharged liquid droplets with high precision and improve the throughput (production efficiency), an electrooptical device, a method for manufacturing the electrooptical device, a method for forming a metal wire, and electronic equipment.例文帳に追加

吐出液滴によるパターンの形成（描画）を高い精度で行うことができるとともに、スループット（生産能率）の向上が図れる液滴吐出装置、液滴吐出システム、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、金属配線形成方法および電子機器を提供すること。 - 特許庁

To provide a coating forming agent which is excellent in controllability of pattern dimensions in a method of forming fine patterns using the coating forming agent and is capable of forming the fine patterns having goof profiles and required characteristics in a semiconductor device and a method of forming the fine patterns using the same.例文帳に追加

被覆形成剤を用いた微細パターンの形成方法において、パターン寸法の制御性に優れるとともに、良好なプロフィルおよび半導体デバイスにおける要求特性を備えた微細パターンを得ることができる被覆形成剤およびこれを用いた微細パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a decorative sheet and a transfer sheet both of which are used in a decoration method utilizing membrane press molding and can efficiently prevent the generation of pattern elongation, whitening or gloss irregularity caused by local elongation and the decoration method using both sheets.例文帳に追加

メンブレンプレス成形を利用した化粧方法に使用するための化粧シート及び転写シートにおいて、局所的な伸びによる柄伸び、白化、艶ムラ等の発生を効果的に防止することのできる化粧シート及び転写シート、及びそれらを使用した化粧方法を提供する。 - 特許庁

To provide a fine patterning method capable of forming a sparse pattern while suppressing deformation and "tilting" by improving various tolerances of etching, and the like, utilizing the curing effect of vacuum UV-rays, and to provide a fabrication process of semiconductor device employing the fine patterning method.例文帳に追加

真空紫外線によるキュア効果を利用してエッチングなどの各種の耐性を改善し、変形や「倒れ」などを抑制できる疎なパターンを形成可能とした微細パターン形成方法及びこの微細パターン形成方法を用いた半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for producing a printing plate which can correspond to the digitalization of CTP etc., without using laser beams and can form a high contrast hydrophilic/water-repellent pattern in a short time and a method for regenerating the printing plate after printing into an original printing plate.例文帳に追加

レーザー光を使用することなく、ＣＴＰ等のディジタル化に対応することができ、かつ、短時間で高コントラストの親水・撥水パターンを形成することが可能な印刷版の製造方法、及び印刷後の印刷版を印刷原版へと再生する印刷版の再生方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inline-type vapor deposition apparatus which can control a film thickness with high accuracy and also requires only few sheets of masks for vapor deposition even when continuously conducting the vapor deposition onto articles each having a different vapor deposition pattern; a vapor deposition method using a mask; and a method for manufacturing an organic-electroluminescence device.例文帳に追加

膜厚を高い精度で制御できるとともに、蒸着パターンが異なる蒸着を連続して行なう場合でも蒸着用マスクの枚数が少なく済むインライン式蒸着装置、マスク蒸着方法、および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern form which can form patterns in a simple step and can form patterns even if the form is not irradiated with energy in the form of the patterns by a method using a photomask, a method using electron beam lithography, etc.例文帳に追加

本発明は、簡便な工程での形成が可能であり、フォトマスクを介する方法や電子線描画を用いる方法等によりエネルギーをパターン状に照射しなくとも、パターン形成が可能なパターン形成体およびその製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

To provide the method of manufacturing a transparent electromagnetic wave shield film which is easy to form a thin wire-like pattern and which can inexpensively be manufactured in large quantities, in the method of manufacturing the transparent electromagnetic wave shield film without forming moire which simultaneously has high EMI shieldability and high transparency.例文帳に追加

高いＥＭＩシールド性と高い透明性とを同時に有する、モアレのない透過性電磁波シールド膜の製造方法であって、細線状パターンの形成が容易であり、しかも安価で大量に製造できる透過性電磁波シールド膜の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive conductive film in which a transparent conductive film excellent in electrical connection nature as the photosensitive conductive film can be easily formed even when the conductive film is formed in a desired shape, to provide a forming method for a conductive film using the photosensitive conductive film, and to provide a forming method for a conductive pattern.例文帳に追加

所望の形状の導電膜を形成する場合であっても、電気接続性に優れた透明導電膜を容易に形成できる感光性導電フィルム、並びに、これを用いた導電膜の形成方法及び導電パターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave shielding material to be supplied in a roll which has less partial variations in performance of an electromagnetic wave shield and has stable performance, even if the lateral width dimension of a wound roll of a mesh pattern has a large width of about 600-1,600 mm in photographic silver-plating method, and also to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

写真銀−メッキ法において、メッシュパターンのロール巻取り横幅寸法が約６００ｍｍ〜１６００ｍｍと幅広であっても、電磁波シールドの性能の部分的なばらつきが少なく性能の安定した、ロールで供給される電磁波シールド材及びその製造方法の提供。 - 特許庁

The wiring pattern forming method includes an insulating wiring step in which an insulating droplet which satisfies a predetermined property value is discharged by an ink-jet method to form an insulating wiring whose cross section is groove-like, and a conductive wiring step for forming a conductive wiring in the cross-sectional groove formed in the insulating wiring step.例文帳に追加

インクジェット法により所定の物性値を満たす絶縁性の液滴を吐出し、断面凹溝状の絶縁性の配線を形成する絶縁配線工程と、絶縁配線工程で形成された断面凹溝状の溝内に導電性の配線を形成する導電配線工程とを含む。 - 特許庁

To provide a method of improving electric performance by reducing a surface resistivity of a conductive composition pattern-formed on a base material and containing a silver particle and a resin binder after formation, and to provide a method of manufacturing an electromagnetic shielding material utilizing the same.例文帳に追加

基材上にパターン状に形成された銀粒子と樹脂バインダを含む導電性組成物層について、形成後にその表面抵抗率を下げて電気的性能を向上させる方法と、この方法を利用して電磁波遮蔽材を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wiring pattern forming method, capable of accurately forming a fine and linear conductive wiring with high accuracy, by forming an insulating wiring of requisite minimum by an ink-jet method and forming the cross-sectional shape of the insulating wiring to be in a form of a groove.例文帳に追加

インクジェット法により必要最小限の絶縁性の配線を形成し、絶縁性配線の断面形状を凹溝状に形成することで、高精度で正確な微細な線状の導電性配線を形成することができる配線パターン形成方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a method of detecting a molecular layer for detecting a layer having a molecular level thickness without damaging an object to be measured by adhesion of liquid and without being affected by a pattern or the like formed on the surface of the object to be measured, and to provide a method of modifying a surface.例文帳に追加

液体を付着させることによって被測定物が損なわれたり、被測定物の表面に形成されたパターンなどに影響を受けたりすることなく分子レベルの厚さの層を検出できる分子層検出方法、及び表面改質方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method for exactly indicating a difference in the developing method and a difference in the resist size due to the non-homogeneity of the developer and applying these information for the optimization of the developing conditions by taking into consideration a change in the concentration when the developer has a flow rate and incorporating the change in the concentration into a development model formula.例文帳に追加

現像液に流速がある場合の濃度変化を考慮し、現像モデル式に組み込むことで、現像方法の違いや、現像液の不均一性によるレジスト寸法の違いを正確に表し、現像条件の最適化に適用し、レジストパターンを形成する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a curable composition for imprints that exhibits good patternability in transferring high-aspect patterns or repeatedly transferring patterns and, particularly, repeatedly transferring high-aspect patterns, to provide a patterning method using the same, and to provide a pattern obtained by the patterning method.例文帳に追加

高アスペクトパターンを転写する際、または繰り返しパターン転写を行う際、更には高アスペクトパターンを繰り返し転写する際に良好なパターン形成を有するインプリント用硬化性組成物、これを用いたパターン形成方法および該パターン形成方法によって得られるパターンの提供。 - 特許庁

When the main control board 310 determines the next authentication method to be used for the next authentication of the main control board 310 from among a plurality of kinds of authentication methods, the main control board 310 determines a selection pattern corresponding to the next authentication method from among a plurality of kinds of selection patterns.例文帳に追加

主制御基板３１０は、複数種類の認証方式の中から主制御基板３１０の次回の認証に用いる次回認証方式を決定すると、該次回認証方式に対応した選択パターンを複数種類の選択パターンの中から決定する。 - 特許庁

Once the raw data is represented numerically, mathematical processing like a correlative function, a pattern recognition method, or a similar numerical method is applied to determine how a specific vector conforms to the content of a refined or other vector in the referenced database.例文帳に追加

一旦生データが数値的に表されれば、特有のベクトルが「純化された」若しくは参照のデータベースにおける他のベクトルとどのように内容が一致するのかを決定するために、相関性機能、パターン認識方法、又は他の類似した数値的方法のような数学的処理が実行されることができる。 - 特許庁

To provide a magnesium alloy plate polishing method in which any polish burn is hardly formed on a surface of a magnesium alloy plate, and any stripe pattern is less conspicuous when the surface of the magnesium alloy plate is subjected to the wet polishing to be smooth, and a magnesium alloy plate produced by the polishing method.例文帳に追加

マグネシウム合金板の表面を平滑に湿式研磨した場合に、その表面に研磨焼けが生じにくく、縞模様が目立たないようにすることができるマグネシウム合金板の研磨方法およびその研磨方法によって作製されたマグネシウム合金板を提供する。 - 特許庁

Subsequently, a data storing unit 14 selects a storing method decided for each identified field from a storing pattern storage unit 13, and sequentially stores the data about the field in a data storage region corresponding to the ID of the field on the basis of the selected storing method.例文帳に追加

続いて、データ格納部１４が、識別されたフィールドごとに定めた格納方法を格納パターン記憶部１３から選択して、その選択した格納方法に基づき順次そのフィールドのＩＤに対応するデータ格納領域にそのフィールドに関するデータを格納する。 - 特許庁

To provide a highly accurate drift correction method with which a photomask is scarcely damaged, by solving problems associated with the conventional photomask correction method using a one-point-drift correction such as occurrence of a scan damage on a place other than a place with a defect on the photomask, inability to open any pin hole in the case of a fine pattern, and so on.例文帳に追加

ワンポイントドリフト補正を用いた従来のフォトマスク修正方法の抱えるフォトマスク上の欠陥以外の箇所にスキャンダメージが生じる、微細パターンの場合にピンホールを開けることができないといった問題を解決し、ダメージの少ない、精度のよいドリフト補正方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching treatment method which can form a wiring pattern having a high aspect ratio in its cross section, so as to have few irregularities and spots within a substrate plane and have adequate uniformity, when etching a large-sized substrate to be etched such as a printed circuit board with a spray method, and to provide an etching treatment apparatus.例文帳に追加

スプレー法によるプリント基板等の大型被エッチング基板のエッチングにおいて、断面のアスペクト比の高い配線パターンを基板面内でのばらつきや斑が少なく均一性良く形成することができるエッチング処理方法およびエッチング処理装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a method for embossing in which an engraved roll and a backing roll are light in weight and an uneven pattern can be easily worked, which can be applied to various types of paper qualities and exhibits an excellent design effect of products and a production cost, and an embossed paper prepared by the method.例文帳に追加

彫刻ロール及び受けロールが軽量で凹凸模様の加工性が容易であると共に、多くの紙質に適用が可能であり、かつ製品の意匠性や生産コストに優れるエンボス加工方法、およびその方法で得られたエンボス加工紙を提供すること。 - 特許庁

To provide a plastic color filter manufacturing method capable of using many kinds of plastic materials as base materials in the case of manufacturing a color filter by a pigment dispersion method, reducing processing time and forming a colored pattern on a long film base material at high efficiency.例文帳に追加

顔料分散法によりカラーフィルターを製造するにあたり、多くの種類のプラスチックを基材として用いることが可能であり、かつ、処理時間が短く、長尺フィルム基材に対し高い効率で着色パターンを形成することが可能な、プラスチックカラーフィルターの製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the printing method, a printed pattern of a design or character is provided by an inkjet printing method using cationic active energy ray curing ink using pigment as a coloring material on the base material at least having a surface layer comprising a fibrous component and having permeability.例文帳に追加

少なくとも表面層が繊維状成分によって構成され、浸透性を有する基材に対して、顔料を着色材とするカチオン型活性エネルギー線硬化性インクを用いてインクジェット印刷法により意匠、文字等の印刷柄を設けることを特徴とする印刷方法。 - 特許庁

The method exposes the photo-resist layer to a pattern image, develops the photo-resist being exposed by using a developer, eliminates a part of the photo-resist not being exposed, and specifies a mask that includes the mask feature with a narrower width than the width of features being processed by another method.例文帳に追加

また、この方法は、フォトレジスト層をパターン像に露出させ、現像剤を用いて露出させたフォトレジスト層を現像し、現像していないフォトレジスト部分を除去して、アルミニウム層に隣接して、別の方法で生成されるよりも狭い幅を有するマスク・フィーチャを含むマスクを規定することを含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a transparent conductive film with improved yields without losing appearance quality by accurately forming a fine line having a line width of 50 μm or smaller without any defects, such as variations in line width and disconnection, when printing a shield pattern by a screen print method.例文帳に追加

スクリーン印刷法によりシールドパターンを印刷する際に、線幅５０μｍ以下の微細なラインを正確に、線幅のばらつきや断線といった欠陥なく形成し、外観品質を損なうことなく、且つ歩留まりよく透明導電性フィルムを製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reflector for an illumination device, its manufacturing method, an illumination device using this, and its manufacturing method, wherein adhesiveness with the substrate is enhanced, while deterioration of a light emitting element caused by irradiated light and a short circuit to a wiring pattern formed on the substrate can be prevented.例文帳に追加

基板との密着性を向上させた上で、発光素子の照射光による劣化、及び基板に形成された配線パターンとの短絡を防止できる照明装置用反射板とその製造方法、及びこれを用いた照明装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device and a method for forming a pattern image, a substrate on which an image is formed and a method for forming the image on the substrate capable of realizing the shortening of processing time and the reduction of production cost without using a photomask in lithographic technique or etching technique.例文帳に追加

リソグラフィー技術或いはエッチング技術において、フォトマスクを使用せずにプロセス時間の短縮化や生産コストの低減を図ることが可能なパターン画像形成装置及びその方法並びに画像形成された基板及びその基板への画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for automatically calculating the status detection interval to detect the status of the waveform from the signal waveform to be retrieved in the function of the serial pattern retrieval in digital oscilloseope, and a digital oscilloscope using the method for automatically calculating the status detection interval.例文帳に追加

デジタルオシロスコープにおけるシリアルパターン検索の機能において、検索対象の信号波形から波形のステータスを検出するステータス検出間隔を自動算出する方法、及び、このステータス検出間隔を自動算出する方法を具備するデジタルオシロスコープを提供する。 - 特許庁

This invention concretely provides the method for forming the semiconductor structure including a plurality of fin FET devices, and provides a method for using a mask getting across it together with a chemical oxide removing (COR) process when a rectangular pattern is formed to demarcate a relatively fine fin.例文帳に追加

具体的には本発明は、複数のフィンＦＥＴデバイスを含む半導体構造を形成する方法であって、長方形のパターンを形成して相対的に細いフィンを画定する際に、これを横切るマスクを、化学的酸化物除去（ＣＯＲ）プロセスとともに使用する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a three-dimensional photomask which can be easily formed with spacing with high accuracy in forming a contactless state between a mask pattern and a substrate to be exposed and the three-dimensional mask formed by the method.例文帳に追加

マスクパターンと被露光基板との間に非接触状態を形成する際に、マスクパターンを傷つけることなく、当該間隙を容易かつ高精度に形成することができる３次元フォトマスクの形成方法および当該形成方法により形成された３次元フォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a VDT(video display terminal) harm alleviating device/ method capable of reducing a VDT harm due to a regular space pattern and a VDT harm due to the flicker caused by an interlace system and a device/ method for quantifying danger of a VDT harm and a recording medium.例文帳に追加

規則的空間パタンによるＶＤＴ障害やインターレース方式に起因したフリッカーによるＶＤＴ障害を緩和することができるＶＤＴ障害緩和装置／方法、およびＶＤＴ障害危険性定量化装置／方法、ならびに記録媒体を提供すること。 - 特許庁

To provide a color filter substrate of high display quality in which color mixing defective pixels generated at the time of forming a colored layer on an inorganic substance containing film (wettability pattern film) by an ink jet method or the like are corrected by a simple method, a liquid crystal display apparatus provided with the color filter substrate and their manufacturing methods.例文帳に追加

インクジェット方式等により無機物含有膜（濡れ性パターン膜）上に着色層を形成する際に発生する混色不良絵素が簡便な方法で修正された高表示品位のカラーフィルタ基板、それを備えた液晶表示装置、及び、それらの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for changing a color of a plastic by which the color at the vicinity of the surface of a member consisting essentially of the plastic is changed into a desired pattern, and to provide an ornament having excellent beautiful appearance and obtained by the method for changing the color.例文帳に追加

主としてプラスチックで構成された部材の表面付近の色彩を所望のパターンで変更することが可能なプラスチックの色彩変更方法を提供すること、また、前記色彩変更方法により得られる美的外観に優れた装飾品を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device using an organic polymer material having good burying characteristics capable of uniformly burying irrespective of roughness or denseness of a hole pattern, a burying material used for the method for manufacturing the semiconductor device and the semiconductor device.例文帳に追加

ホールパターンの疎密さかかわらず均一に埋め込みを行うことができる良い埋め込み特性を有し、かつエッチング速度が大きい有機系高分子材料を用いた半導体装置の製造方法、半導体装置の製造方法に使用する埋め込み材料および半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a novel device and a new method for optical recording, and a new device and a new method for optical recording/reproducing, which record/reproduce a hologram by using a reference light having its phase modulated according to the display position of a reference light pattern in a spatial optical modulator in a colinear system.例文帳に追加

コリニア方式において、空間光変調器における参照光パターンの表示位置に応じて位相が変調された参照光を利用してホログラムの記録や再生を行う、新規な光記録装置、光記録方法、光記録再生装置、及び光記録再生方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an embossed decorative sheet in which an embossed uneven pattern can be formed on the surface of a sheet precisely in god reproducibility while the sheet is prevented from being caught by a press roll in high speed embossing processing and an apparatus for the method.例文帳に追加

高速度でエンボス加工処理を行ってもシート状原反が加圧ロールに取られることなく、シート状原反の表面にエンボス凹凸模様を高い精度と良好な再現性をもって形成できるエンボス化粧シートの製造方法及びその製造装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide an exposure method, and exposure apparatus, a method of manufacturing a device, and a device, where a pattern having a line width larger than resolution limit is transferred in desired contrast to secure desired resolution when a projection optical system clearing in midsection and a phase shift mask are used.例文帳に追加

本発明は、中抜けのある投影光学系と位相シフトマスクを使用した場合に、限界解像よりも大きな線幅のパターンを所望のコントラストで転写して所望の解像度を確保する露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法及びデバイスを提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern by a liquid immersion method by which follow-up property of a liquid for liquid immersion exposure along a lens for liquid immersion exposure can be improved without decreasing water-repelling property, and transparency to light at a wavelength of 193 nm or 157 nm can be improved.例文帳に追加

撥水性を損なうことなく、液浸露光用液体の液浸露光用のレンズへの追随性を向上させ、また１９３ｎｍや１５７ｎｍの波長の光に対する透明性なども改善することができる液浸法によるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing device and a substrate processing method that use a low-surface-tension solvent such as IPA to dry a substrate surface getting wet with a processing liquid, the substrate processing device and the substrate processing method preventing trouble such as the occurrence of a watermark on the substrate and destruction of a pattern on the substrate surface.例文帳に追加

処理液で濡れた基板表面をＩＰＡなどの低表面張力溶剤を用いて乾燥させる基板処理装置および基板処理方法において、基板表面にウォーターマークが発生したり、基板表面上のパターンが倒壊するなどの不具合を防止する。 - 特許庁

To provide a mounting state inspection method for an electronic component, the method inspecting the mounting state of an electronic component by specifying the mounting position of the electronic component even when it is difficult to recognize the mounting position of the electronic component through conventional pattern matching; and to provide a mounting state inspection device and a substrate.例文帳に追加

従来のパターンマッチングでは電子部品の実装位置の認識が難しい場合であっても、実装位置の特定を可能にして、電子部品の実装状態を検査することが可能な電子部品の実装状態検査方法、実装状態検査装置、及び基板を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which finely divides peeled chips (to reduce the size of resist chips after peeling) and which is excellent in plating resistance and excellent in sensitivity, resolution and adhesion, a photosensitive element using the same, a method for producing a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

はく離片を細分化（はく離後のレジスト片のサイズを小さく）させることができ、且つ耐めっき性に優れ、感度、解像度及び密着性に優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a master plate for a deep-etch plate type offset printing which is excellent in reproducibility and enables attainment of a minute and highly precise image and a manufacturing method thereof and also to provide a forming method of a film circuit having high reproducibility and enabling attainment of a minute and highly precise circuit pattern.例文帳に追加

再現性がよく、微細で精度の高い画像が得られる平凹版型のオフセット印刷用マスター版およびその製造方法を提供するとともに、このマスター版を用いて、再現性の高い、微細で高精度の回路パターンが得られる膜回路の形成方法を提供する。 - 特許庁