「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(388ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing a semiconductor device and semiconductor manufacturing apparatus, where more high-accuracy pattern formation is enabled by improving uniformity in the intra-plane temperature of a large-diameter semiconductor wafer in lithographic processes.例文帳に追加

リソグラフィ工程における大口径半導体ウエハの面内温度均一性を向上させ、より高精度なパターン形成が可能な半導体装置の製造方法及び半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an optical waveguide composite substrate which has no meandering in a core pattern, which excels in heat resistance, and which by thermal hysteresis causes no separation of an optical waveguide from a silicon substrate nor crack of the silicon substrate.例文帳に追加

コアパターンに蛇行が見られず、かつ、耐熱性に優れ、熱履歴によって、光導波路のシリコン基板からの剥離やシリコン基板の割れなどが生じない光導波路複合基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of detecting position which enables the execution of precise position detection, in a pattern matching using an electrode part on a device as a model image, for the device packaged like CSP or WLCSP.例文帳に追加

ＣＳＰ、ＷＬＣＳＰの様にパッケージングされたデバイスに対して、デバイス上の電極部分をモデル画像として使用するパターンマッチングにおいて、正しい位置検出が可能な位置検出方法を提供すること。 - 特許庁

To collectively demagnetize data areas between servo pattern transfer sections with a simple configuration with respect to a medium for the demagnetization mask, a perpendicular medium magnetic transfer/demagnetization method, a vertical recording medium and a magnetic disk device.例文帳に追加

消磁マスク用媒体、垂直媒体磁気転写／消磁方法、垂直記録媒体、及び、磁気ディスク装置に関し、サーボパターン転写部の間のデータ領域に対する消磁を簡単な構成により一括して行う。 - 特許庁

To provide a conductive film pattern having a fine form, excellent in adhesiveness to a base material, form accuracy and reliability, and formed requiring no complicated and costly equipment and steps and a method of forming the same.例文帳に追加

微細な形状を有し、基材との密着性や形状精度、信頼性に優れ、複雑、高価な設備、工程を必要とせずに形成する導電膜パターン及びその導電膜パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a minute flow channel device which is simple and inexpensive, capable of freely changing the flow channel pattern and capable of even integrating the chemical functions as necessary, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

簡便かつ安価であって、流路パターンを容易かつ自由自在に変えることができ、必要に応じて化学的機能の集積化も行うことのできる微小流路デバイスおよびその作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sheet for fine uneven pattern formation that is used in an imprint method, has superior preservation stability before being used, and is for forming a hard coat layer with high scratch resistance.例文帳に追加

インプリント法において使用する微細凹凸パターン形成用シートであって、使用前には保存安定性に優れ、かつ、耐擦傷性が高いハードコート層を形成するための微細凹凸パターン形成用シートを提供すること。 - 特許庁

To provide a mask cleaning method which removes a foreign substance including silicon oxide deposited on a mask film formed on a mask, while keeping a pattern shape of the mask film; and to provide a mask cleaning device and a pellicle.例文帳に追加

マスクに形成されたマスク膜のパターン形状を保ちながら、マスク膜に付着したシリコン酸化物を含む異物を除去することができるマスク洗浄方法、マスク洗浄装置及びペリクルを提供する。 - 特許庁

To provide a method capable of manufacturing a substrate with a conductive pattern formed in a high resolution suppressed in contamination, having a thickness not smaller than a micrometer, suppressed in damage, and low in resistance.例文帳に追加

基板の汚染が少なく、マイクロメートル以上の厚みを有し、損傷が少なく低抵抗な導電性パターンが高解像度に形成された導電性パターン付き基板を製造可能な製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a compound useful as an acid generator for a resist composition, an acid generator composed of the compound, a resist composition containing the acid generator and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a new oxime ester compound functionable as a highly sensitive radical polymerization initiator, and to provide a curable composition using the same, and to provide a negative-type resist including the composition, and to provide a method for forming an image pattern using the resist.例文帳に追加

高感度なラジカル重合開始剤として機能しうる新規オキシムエステル化合物及びそれを用いた硬化性組成物、及びそれを含むネガ型レジスト及びそれを用いた画像パターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for liquid immersion exposure having a large receding contact angle to a liquid for immersion exposure and giving a photoresist film less liable to cause development defects, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

液浸露光液との後退接触角が大きく、現像欠陥を生じ難いフォトレジスト膜を与える液浸露光用感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an optical waveguide structure including an optical waveguide having a wide flexibility in pattern shape design, which can form a core part (optical path) having high dimensional accuracy by a simple method, and superior in durability.例文帳に追加

パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができ、また、耐久性に優れる光導波路を備えた光導波路構造体を提供すること。 - 特許庁

In the method of manufacturing the ceramic substrate, a precedent ceramic substrate is fabricated and degrees of change of the precedent ceramic substrate and a precedent electrode pattern up to a process of fabricating the precursor ceramic substrate are recognized.例文帳に追加

本発明に係るセラミック基板の製造方法は、あらかじめ先行セラミック基板を作製し、先行セラミック基板を作製する工程までの先行セラミック基板と先行電極パターンの変形度を把握しておく。 - 特許庁

To provide a method for producing a pleated and dyed fabric by which the dyeing can be applied to an arbitrary face or part of the fabric, and which can rapidly correspond to various kinds of requirements in a pattern and a pleat shape.例文帳に追加

布の任意の面および部分に染色を施すことができるとともに、図柄およびプリーツ形態に対する多様な要望に迅速に対応できる、プリーツ加工された染色布の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a fine structure by which a resin film for transferring a fine uneven pattern is formed on a substrate very thinly and uniformly, and defects can be reduced.例文帳に追加

本発明の課題は、微細な凹凸パターンの転写用の樹脂膜を、基板上に非常に薄く、かつ均一に形成することができ、欠陥の発生を低減した微細構造体の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

In this method, a disease, cell type, tissue and/or stage specific protein and nucleic acid are identified in relation to development pattern and corresponding nucleic acid is analyzed as a candidate of the attack target of DNAzyme or siRNA.例文帳に追加

疾患、細胞タイプ、組織および／またはステージ特異的なタンパク質および核酸を発現パターンに関して同定し、対応する核酸をＤＮＡｚｙｍｅまたはｓｉＲＮＡの攻撃対象候補として解析する。 - 特許庁

A difference in a time base when processing the crossing first and second circular arc groove shapes 7, 8 is reduced by such method, and the fine crossing groove of the periodic pattern is highly accurately and easily generated by the cutting work.例文帳に追加

この方法により、交差する第１および第２の円弧溝形状７，８を加工する際の時間軸の差を小さくして、切削加工により周期的なパターンの微細な交差溝を高精度かつ容易に生成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a piezoelectric vibration chip in which a workpiece can be formed in a desired contour pattern while suppressing sticking onto a photomask even when a positive resist is subjected to contact exposure.例文帳に追加

ポジレジストをコンタクト露光した場合であっても、フォトマスクへのスティッキングを抑制し、加工対象物を所望の外形パターンに形成することができる圧電振動片の製造方法及び圧電振動片を提供する。 - 特許庁

To provide an abnormality diagnosis method and an abnormality diagnosis system using a pattern library, which can detect at high probability abnormality having no precedent in the past or abnormality having less precedent in the past.例文帳に追加

過去に前例のない異常や過去に前例の少ない異常であっても、この異常を高確率で検知することができるパターンライブラリを用いた異常診断方法および異常診断システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a wiring board wherein the wiring board can be manufactured efficiently while preventing a formed conductor pattern from having poor electrical conductivity, and to provide a highly reliable wiring board.例文帳に追加

形成した導体パターンの導通不良を防止することができ、かつ、効率よく配線基板を製造することが可能な配線基板の製造方法および信頼性の高い配線基板を提供すること。 - 特許庁

To provide an electrochromic display device, capable of suppressing movement of a charge held in an electrochromic layer to an adjacent pattern via a display electrode, by only patterning of one electrode, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

一方の電極のパターンニングだけで、エレクトロクロミック層に保持されていた電荷が表示電極を介して隣のパターンに移動することを抑制可能なエレクトロクロミック表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, the pattern-formed group III nitride lift-off layer 31a is selectively removed by an etchant to the insulation film 39, and an insulation film 39b including an opening 39c is formed by a lift-off method.例文帳に追加

引き続き、パターン形成されたIII族窒化物リフトオフ層３１ａを絶縁膜３９に対してエッチャントを用いて選択的に除去して、リフトオフ法により、開口３９ｃを有する絶縁膜３９ｂを形成する。 - 特許庁

To provide a photomask which can make dimensional characteristics of a resist substantially constant without using a dummy pattern to be transferred onto a semiconductor substrate, and to provide a method for manufacturing a semiconductor using the photomask.例文帳に追加

半導体基板上に転写されるダミーパターンを用いることなく、レジスト寸法特性を略一定とすることが可能なフォトマスク、及びそのフォトマスクを用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

One computer-implemented method includes identifying nuisance defects on a wafer based on inspection data produced by inspection of a reticle, which is used to form a pattern on the wafer prior to inspection of the wafer.例文帳に追加

コンピュータで実施される方法の１つに、ウェハの検査の前にウェハ上でパターンを形成するのに使用されるレチクルの検査によって作られた検査データに基づいてウェハ上のニューサンス欠陥を識別することを含む。 - 特許庁

To provide a method of controllably reflecting electrons from an array of electron reflectors to make electron beam projection lithography possible at low cost because of maskless processing, and a device of a dynamic pattern generation machine for reflective electron beam lithography.例文帳に追加

マスクレスのため低コストで電子ビーム投影リソグラフィを可能にする、電子反射板のアレイから制御可能に電子を反射する方法と、反射電子ビームリソグラフィのためのダイナミックパターン生成機の装置を提供する。 - 特許庁

To provide a resist ink having excellent resist tendencies as well as printability to be used for obtaining optimum fine images desired for various electronic parts by etching, and to provide a method for forming a resist pattern using the ink.例文帳に追加

各種電子部品として所望される最適な微細画像を、エッチングで得るために用いる、レジスト適性はもとより、印刷適性に優れるレジストインキ、及び、該インキを用いたレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lost foam pattern casting method capable of minimizing a head pressure and of keeping a sprue height as low as possible in a structure for discharging a combustion gas by a cavity arranged in a mold.例文帳に追加

鋳型内に設けた空洞によって燃焼ガスを排出させる構造において、ヘッド圧を必要最小限として湯口高さをできるだけ低く抑えることができる消失模型鋳造法を提供する。 - 特許庁

To provide a material for forming a protective film which is capable of improving water repellency while suppressing a deterioration in alkali solubility of the protective film, and to provide a forming method for a resist pattern using the material for forming a protective film.例文帳に追加

保護膜のアルカリ溶解性の低下を抑えながら、撥水性を向上させることが可能な保護膜形成用材料、及びこの保護膜形成用材料を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The system and method include a printer capable of printing in a plurality of colors, the printer having a sensor for generating a signal including information corresponding to the color registration pattern printed on a substrate by the printer.例文帳に追加

このシステム及び方法は、複数の色での印刷を可能にするプリンタを含み、プリンタはプリンタにより基板上に印刷される色位置合わせ模様に対応する情報を有する信号を生成するセンサを有する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a relief pattern using the precursor of polybenzoxazole for suppressing the deterioration of the heat-resistance and mechanical characteristics of final polybenzoxazole resin while achieving high solubility and i line and g line permeability.例文帳に追加

高い溶解度及びｉ線、ｇ線透過率を有しながら最終的なポリベンズオキサゾール樹脂の耐熱性及び機械特性を損わないポリベンズオキサゾールの前駆体を使用したレリーフパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an aligner and a control method of the same capable of improving a throughput without deteriorating the positioning accuracy at the time of positioning of an original pattern with respect to each of a plurality of shot areas on a substrate.例文帳に追加

露光装置及びその制御方法において、基板上の複数のショット領域のそれぞれに対して、原版のパターンを位置合わせする際の位置合わせ精度を落とすことなく、スループットを向上させる。 - 特許庁

To provide a method for positioning edge of a pattern element on a substrate, capable of very accurately, speedily, and reproducibly measuring the edge position in edges constituted, as desired, at the lower level of accuracy of pixels.例文帳に追加

任意に構成されているエッジにて、極めて精密で迅速で再現可能であるエッジポジションの測定を画素の下位の精度で可能とする、基板上のパターン要素のエッジをポジション決定するための方法を提供する。 - 特許庁

To provide a measuring method for relative speed in the transverse direction, in which the relative speed in the transverse direction of a vehicle which precedes its own vehicle is measured with high accuracy on the basis of the reflection intensity pattern of a laser radar.例文帳に追加

レーザレーダの反射強度パターンに基づいて自車両に先行する車両の横方向相対速度を高精度に計測するようにした先行車両の横方向相対速度計測方法を提供する。 - 特許庁

To provide: a novel compound useful as an acid generator for a resist composition; an acid generator using the compound; a resist composition including the acid generator; and a method of forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、当該化合物を用いた酸発生剤、当該酸発生剤を含有するレジスト組成物およびこれを用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an inspection method wherein a non-inspection domain does not exist, capable of performing accurately defect inspection of an inspection object on which a repetitive pattern is formed, such as a liquid crystal panel, a plasma display or a semiconductor wafer.例文帳に追加

液晶パネル、プラズマディスプレイ、半導体ウェハ等などの繰返しパターンが形成されている検査対象物の欠陥検査を精度良く、しかも、非検査領域が存在しない検査方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a gate pattern of semiconductor device which can improve embedding capability of an inter-layer dielectric to be embedded between gate patterns, and improve embedding capability of a landing plug forming material, and to provide a method of forming it.例文帳に追加

ゲートパターン間に埋め込まれる層間絶縁膜の埋め込み性及びランディングプラグ形成物質の埋め込み性を向上させることができる半導体素子のゲートパターン及びその形成方法を提供すること。 - 特許庁

The printed wiring board manufacturing method includes: a photosensitive resin layer forming process, a process for forming a mask for exposure, a resist forming process, a plating process, a resist removal process, a line pattern forming process, and a land forming process.例文帳に追加

本発明のプリント配線基板の製造方法は、感光性樹脂層形成工程、露光用マスク作成工程、レジスト形成工程、めっき工程、レジスト除去工程、ラインパターン形成工程、ランド形成工程を含む。 - 特許庁

To provide a novel compound useful as an acid generator for a resist composition, an acid generator composed of the compound, a resist composition including the acid generator, and a method of forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a color filter by which an exposure defect pattern due to light interference hardly occurs in a region of a gradation mask where a semitransparent region and a transmissive region adjoin each other.例文帳に追加

本発明は、階調マスクの半透明領域および透過領域が隣接している領域で光の干渉による露光不良パターンが生じ難いカラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a charged particle beam transfer mask at a high productivity and a mask manufactured thereby; the mask having a stencil mask structure having a transferring pattern of holes formed in a conductive thin film layer.例文帳に追加

転写すべきパターンを導電性の薄膜層に開口形成したステンシルマスク構造の荷電粒子線用転写マスクを、量産性良く製造できる製造方法とそれにより作製されたマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a forming method for a conductive pattern which can deter and prevent an insulating film and filter paper from shifting in position during conveyance after printing and prevent the insulating film, etc., from having an outward shape defect, a leak defect, etc.例文帳に追加

印刷後の搬送時に絶縁フィルムとろ紙が位置ズレを起こすのを抑制防止し、絶縁フィルム等に外観不良やリーク不良等が生じるのを防止できる導電パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition having high sensitivity, capable of forming a rectangular fine pattern, and ensuring high in-plane uniformity of a film in coating, and to provide a color filter using the composition and a method for manufacturing the color filter.例文帳に追加

高感度で矩形な微細パターン形成が可能でかつ塗布時の膜面内均一性が高い染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterned resin plate which is free from the restrictions of a pattern and is deliverable in a short time on a multiple grade small lot production basis, a method for manufacturing the patterned resin plate and eyeglasses formed of eyeglasses components using the patterned resin sheet.例文帳に追加

柄（模様）の制限がなく短い納期で多品種少量生産の可能な柄入り樹脂板とその製造方法、及びこの柄入り樹脂板を使用した眼鏡部品よりなる眼鏡を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a light-emitting element array chip, and the like, in which high precision is achieved with respect to thickness, protrusion of a transparent resin is suppressed and a micro-lens including a suitable pattern can be formed in a light emitting element.例文帳に追加

厚さに対し高い精度を有し、また透明樹脂のはみ出しを抑制して適切なパターンを有するマイクロレンズを発光素子に形成することができる発光素子アレイチップの製造方法等を提供する。 - 特許庁