「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(385ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for producing a glass panel which can produce a glass panel provided with design properties peculiar to glass cullets and further having a rugged pattern on the surface by the minimum production stages, to provide a glass panel, to provide a supporting member for a glass panel, and to provide a method for supporting a glass panel.例文帳に追加

ガラスカレット独特の意匠性を備えるとともに表面に凹凸状の模様を有するガラスパネルを、最小限の製造工程によって製造することができるガラスパネルの製造方法、ガラスパネル、ガラスパネルの支持部材、及びガラスパネルの支持方法を提供する。 - 特許庁

To provide a stable chemically amplifying photoresist composition which does not change its alkali solubility before irradiation with radiation, to provide a photoresist laminate produced by laminating the above photoresist composition on a supporting body, to provide a method for manufacturing a photoresist pattern by the above body, and to provide a method for manufacturing a connecting terminal.例文帳に追加

放射線照射前にアルカリ溶解性が変化することのない安定な化学増幅型ホトレジスト組成物、該ホトレジスト組成物を支持体に積層させたホトレジスト層積層体、及びこれを用いたホトレジストパターンの製造方法、及び接続端子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an exposure device and an exposure method of a master disk for optical recording medium which enables forming a rugged pattern such as a pit and a group with high accuracy and to provide an optical pickup and an optical recording method which enables performing the recording to an optical disk with high recording density.例文帳に追加

ピットやグルーブ等の凹凸パターンを高精度に形成することができる光学記録媒体原盤の露光装置及び露光方法を提供し、また高い記録密度で光ディスクに記録を行うことができる光学ピックアップ、並びに光記録方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate connection structure capable of easing stress on a connection part between a wiring pattern and a terminal electrode and preventing the occurrence of peeling and disconnection, a method for manufacturing the substrate connection structure, a mounting apparatus, a mounting method, an electrooptical device provided with the substrate connection structure, and electronic equipment.例文帳に追加

配線パターンと端子電極との接続部において応力を緩和し、剥離や断線を防止できる基板接続構造体、基板接続構造体の製造方法、実装装置、実装方法を提供すると共に、基板接続構造体を備えた電気光学装置、電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a removing method for hardening paste which extends to unwanted parts of an intaglio in a forming method with an intaglio transfer for a thick film pattern having high precision in thickness, which is capable of removing without giving any damage to an intaglio and any influence on a back process, and also as simply as possible.例文帳に追加

厚さ精度が高い高精細な厚膜パターンを凹版転写法により形成する方法に関し、凹版の不要部分まで広がった硬化性ペーストを凹版を傷つけることなく、後工程に影響することなく、しかもできるだけ簡便に除去する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an ink composition for manufacturing a color filter which can be accurately transferred to a base material to be printed following a projecting and recessed pattern and can prevent white omission when the color filter is manufactured using a letterpress reversed printing method and to provide a method for manufacturing the color filter using the ink.例文帳に追加

凸版反転印刷法によるカラーフィルターを作製する際、凹凸パターン通りに、精度良く、インキ組成物を被印刷基材に転写することができ、かつ、転写時の白抜け防止を可能とするカラーフィルター作製用インキ組成物および該インキを用いたカラーフィルターの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition showing little warpage when the composition is cured and resulting favorable workability upon mounting components, and having excellent folding durability, photosensitive characteristics, electric corrosion resistance, and PCT resistance, and to provide a method for manufacturing a resist pattern and a method for manufacturing a flexible wiring board using the composition.例文帳に追加

硬化した際のそり量が小さく、部品実装時の作業性が良好であり、耐折性、感光特性、耐電食性、耐ＰＣＴ性に優れる感光性樹脂組成物、それを用いたレジストパターンの製造方法及びフレキシブル配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide metal powder for grinding a workpiece with high quality and excellent yield for a short period of time by preventing a change of quality of the metal powder, grinding method and pattern forming method for a low melting point glass layer using the metal powder, and a PPD barrier rib manufactured by the methods.例文帳に追加

金属粉末の品質の変化を防止し、被加工物の研削を高い品質で歩留まり良く短時間で行う金属粉末、これを用いた研削方法及び低融点ガラス層のパターン形成方法、並びに前記方法用いて製造されたＰＰＤの隔壁を提供する。 - 特許庁

To obtain a pattern data forming method which is capable of relieving an increase in the data capacity of drawing data occurring in the generation of OPC patterns in formation of electron beam drawing data of a reticle, an increase in data handling time by accompanying the same, and an increase in the load on production resources and a drawing method for reticle.例文帳に追加

本発明は、レチクルの電子ビーム描画データの作成において、ＯＰＣパターンの発生に起因する描画データのデータ容量増加、これに伴うデータハンドリング時間の増加、および生産資源に対する負荷の増加を緩和できるパターンデータ作成方法およびレチクルの描画方法を得る。 - 特許庁

To provide a method for growing a high quality SiC single crystal at a high growth rate, in which an ideal flow of a solution is achieved by finding an ideal ACRT (Accelerated Crucible Rotation Technique) pattern of so called an ACRT, in the production of a SiC single crystal by a solution growth method.例文帳に追加

溶液成長法によるＳｉＣ単結晶の製造において、いわゆる坩堝加速回転法（ＡＣＲＴ：Accelerated Crucible Rotation Technique）の理想的なＡＣＲＴパターンを見いだして、理想的な溶液の流れを実現し、高速成長かつ高品質のＳｉＣ単結晶を成長させる方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, the number of bits of the pattern flag is not increased when the method of improving the compression rate based on the similarity to a previous adjacent block, and the method of improving the compression rate based on the similarity to the first color of the three adjoining blocks are used in combination.例文帳に追加

更に、隣接する前のブロックとの類似性に基づいて圧縮率を向上させる方法と隣接する３つのブロックの第１色との類似性に基づいて圧縮率を向上させる方法とを併用した場合に、パターンフラグのビット数を増やさないようにする。 - 特許庁

To provide a method of forming a high precise pattern of conductive tin oxide having excellent wear resistance on the surface of a substrate by a wet etching method regardless of the size of the non-conductive substrate and without polluting the working environment in a roam.例文帳に追加

本発明の課題は、湿式エッチング法により、非導電性基板の大きさに係わりなく且つ室内の作業環境を汚染することなく、該基板面に耐摩耗性の優れた導電性酸化錫の高精度パタ−ンを形成させる工業的に望ましい方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reduced pressure drying apparatus which does not make to generate a minute defect on the front surface of a coating film by eliminating the ununiformity of the film thickness resulting from a remaining solvent in reduced pressure drying used when a pattern is formed by a photolithography method, and to provide a reduced pressure drying method.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法によってパターンを形成する際に用いる減圧乾燥において、残留溶剤に起因した膜厚の不均一性を解消し、塗膜の表面に微小欠陥を発生させない減圧乾燥装置、減圧乾燥方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern discrimination method and discrimination system attaining small processing load, low cost in discriminating process of an object or a circular object to be discriminated, and low cost and small size of the system in the case of employing a method using an optical image.例文帳に追加

光学画像を用いる方式を採用した場合において、被識別物や被識別円形物の識別処理を行うにあたって処理負荷が小さく低コストであって、装置の低廉化及び小型化を図るパターン識別方法および識別装置を提供することにある。 - 特許庁

The method for forming a wiring pattern 79 in a predetermined region on a substrate P by liquid drop ejection method comprises a step for forming a bank B on the substrate P, a step for imparting lyophilic properties to the substrate P, and a step for imparting liquid repellency to the bank B.例文帳に追加

基板Ｐ上の所定の領域に、液滴吐出法を用いて配線パターン７９を形成する方法であって、基板Ｐ上にバンクＢを突設するバンク形成工程と、基板Ｐに親液性を付与する工程と、バンクＢに撥液性を付与する工程とを有している。 - 特許庁

To provide a simple standard image pattern for managing a platemaking process that facilitates decision of a platemaking condition for direct platemaking, particularly an active state of developer, and to provide a method of evaluating the developer of a lithographic printing plate and a method of controlling quality of the lithographic printing plate that use the same.例文帳に追加

ダイレクト製版用の製版条件、特に現像液の活性状態を容易に判定する簡易な、製版工程を管理するための標準画像パターン及びそれを用いた平版印刷版の現像液評価方法、平版印刷版の品質管理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask which is disposed in an excimer laser exposure device or the like and used for lithographic techniques using an exposure light source at short wavelengths, wherein production of foreign matter such as ammonium sulfate is prevented, to provide an easy and inexpensive method for manufacturing the photomask, and to provide a pattern forming method using the photomask.例文帳に追加

エキシマレーザ露光装置などに設けて、短波長の露光光源を用いたリソグラフィ技術に使用するためのフォトマスクにおいて、硫酸アンモニウムなどの異物の発生を防止したフォトマスクおよび簡易で安価なその製造方法、さらに、そのフォトマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a copper conductor paste composition, a manufacturing method and electronic parts using the copper conductor paste composition dispensing with doping of oxygen and fine adjustment by allowing a baking method to be adopted in an inert atmosphere to form a conductor pattern or a terminal electrode on a ceramic board or a laminated ceramic capacitor.例文帳に追加

セラミック基板や、積層セラミックコンデンサーに導体パターンあるいは端子電極を形成するのに、不活性雰囲気下での焼成法が採用でき、酸素のドープ、微調節を不要とした銅導体ペースト組成物、その製造方法及びそれを用いてなる電子部品の提供。 - 特許庁

The water-repelling fabric, water-repelling products and their production method is a fabric including at least synthetic fiber multifilament having a water-repellency of ≥3 according to JIS L1092 method after 20 times washing and fine line design pattern is engraved on the surface of the fabric.例文帳に追加

合成繊維のマルチフィラメントを少なくとも含む布帛であって、該布帛は洗濯２０回後のＪＩＳ Ｌ１０９２法の撥水度が３以上であり、かつ、布帛の表面に細線の柄模様が印刻されていることを特徴とする撥水布帛、撥水製品およびその製造方法。 - 特許庁

To provide a circuit sheet with which a circuit pattern composed of metal foil capable of thinning and miniaturizing and a ceramic green sheet are stuck by an adhesive agent or adhesive sheet, a production method for circuit sheet using a film with metal foil, and a production method for multilayer wiring board using the circuit sheet.例文帳に追加

薄膜化、高精細化が可能な金属箔からなる回路パターンとセラミックグリーンシートとが接着剤又は接着シートにより貼着された回路シート、金属箔付きフィルムを用いた回路シートの製造方法、及び、回路シートを用いた多層配線基板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a semiconductor chip mounting method and a semiconductor mounting wiring board in which electrical short between a part directly under a semiconductor and a wiring pattern is prevented even when a high temperature and a high pressure are applied to a semiconductor mounting part in the semiconductor chip mounting method and the semiconductor mounting wiring board.例文帳に追加

半導体チップの実装方法及び半導体搭載用配線基板において、高温、高圧力を半導体実装部に負荷しても、半導体直下と配線パタ−ンが電気的に短絡することのない、半導体チップの実装方法及び半導体搭載用配線基板を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and device of a light guide plate capable of emitting planar light with high appearance quality and high uniformity in case of forming a dot pattern by an ink jet method, a light guide plate, a planar light source device equipped with the same, and a transmission image display device.例文帳に追加

ドットパターンをインクジェット法により形成する場合において、外観品位が高く、均一性の高い面状の光を出射することが可能な導光板の製造方法および製造装置、導光板、これを備えた面光源装置および透過型画像表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing wiring that suppresses an increase in resistance of a Cu wiring pattern due to diffusion of Mn when a Cu-Mn alloy is combined with a bimetal film to make a self-repair of a defect and improve adhesiveness during formation of a Cu wiring structure by a damascene method.例文帳に追加

ダマシン法によるＣｕ配線構造の形成において、Ｃｕ−Ｍｎ合金をバリアメタル膜に組み合わせて欠陥の自己修復および密着性の向上を図る際に、Ｍｎの拡散によるＣｕ配線パターンの抵抗増加を抑制する配線の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method for measuring the resistance of the coating film, which is covered with a cover material, by a fall-of-potential method, an interruptor turned ON/OFF by an M system code pattern is installed on a current-carrying cable and the obtained potential difference is subjected to cross-correlation processing.例文帳に追加

上記課題は、被覆材に被覆された塗膜抵抗を電位降下法で測定する方法において、通電ケーブルにＭ系列符号パターンによりオン／オフするインタラプタを設置し、得られた電位差を相互相関処理することを特徴とする塗膜抵抗の測定方法によって解決される。 - 特許庁

This manufacturing method of a semiconductor device including a pattern forming method forms a second thin film on the side wall of a first thin film, and carries out the high precision etch back of the tip of the second thin film formed on that side wall to align the tip according to a planarizing process so that the tip does not become uneven.例文帳に追加

パターン形成方法を含む半導体装置の製造方法として、第１の薄膜の側壁に第２の薄膜を形成し、その側壁に形成された第２の薄膜の先端部が不均一にならないように、平坦化法により、精度良くエッチバックして揃える。 - 特許庁

To provide a defect inspection method discovering early a VA pattern formation defective substrate by detecting a partial VA deficiency of VA having a line width of 5-10 μm, and improving a line production efficiency, and also to provide a defect inspection device to which the defect inspection method is adapted.例文帳に追加

線幅５μｍ〜１０μｍのＶＡの、部分ＶＡ欠損を検出することで、ＶＡパターン形成不良基板を早期に発見し、ラインの生産効率を向上させることが可能な欠陥検査方法、および、この欠陥検査方法を適応した欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mother plate together with its manufacturing method in which such conventional problems related to a multi-pattern method for a circuit board are settled, as a brazing material used for jointing a ceramics substrate to a metal plate remains even after etching, and as micro cracks occur around a split groove when the circuit board is divided.例文帳に追加

従来の回路基板の多数個取り法の問題、すなわちセラミックス基板と金属板を接合するのに用いたろう材がエッチング後にも残留してしまうこと、回路基板分割時の分割溝周辺の微細な割れを解消した母版とその製造方法が提供される。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which can form a resist having an excellent resolution and adhesion property to a substrate and can realize high density in a printed wiring board, and to provide a photosensitive element using the composition, a method for manufacturing a resist pattern and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

解像性及び基板に対する密着性に優れるレジストが形成可能であり、プリント配線板の高密度化が実現できる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a stamper having high wear resistance and durability and formed with low defect without damaging a fine groove formed by a resist mask method, when the stamper is formed from a glass master disk wherein a fine pattern is formed by the resist mask method using water soluble resin.例文帳に追加

水溶性樹脂を用いたレジストマスク法によって微細パターンを形成されたガラス原盤からスタンパを作成する場合にレジストマスク法によって形成された微細溝を損なうことなく低欠陥でスタンパ化するとともに、高い耐磨耗性および耐久性を持ったスタンパを提供する。 - 特許庁

In a method of processing a material to be processed which is formed on a semiconductor substrate 101 or a material to be processed which comprises a plurality of multilayer films using a desired double patterning method, processing for defining the element isolation width can be performed twice when a pattern is formed.例文帳に追加

半導体基板上に形成された被加工材料、若しくは複数の積層膜から構成される被加工材料を所望のダブルパターンニング法を用いて加工する製造方法において、パターンを形成する際、素子分離幅を規定する加工を２回行うことで解決できる - 特許庁

To provide a method and a device capable of correcting the pattern size and the position accurately by preventing deviation of the shot position even if the shot size is corrected additionally by gain, and to provide a highly accurate photomask by using that method and device.例文帳に追加

ゲインよるショットサイズの追加補正を行なっても、ショット位置にずれが生じず、パターンサイズと位置を精度良く補正できる方法および装置を提供することを目的とし、上記方法および装置を用いることにより、高精度のフォトマスクを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a new method for preparing a cell culture substrate having cells in a highly fine patterned form and used for culturing the cells while maintaining the pattern for a long period, and an apparatus used for the preparing method.例文帳に追加

本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、長期にわたりパターンを維持しながら細胞を培養させるために用いられる細胞培養基板の新たな製造方法、およびその製造方法に用いられる製造装置を提供することを主目的としている。 - 特許庁

A position relation between an external shape and the crystal orientation of a specimen is clarified by comparative measurement using a reference sample having a clear position relation between the external shape and the crystal orientation on the same sample coordinate, by using a back-scattered electron beam diffraction pattern method (EBSP method).例文帳に追加

後方散乱電子線回折パターン法（ＥＢＳＰ法）を用いて、同じ試料座標上で外形形状と結晶方位の位置関係が明確な基準試料を用いて比較測定する事で、被検体の外形形状と結晶方位の位置関係を明確にする。 - 特許庁

To provide a practical method for forming a resist pattern by a PCM (portable comfortable mask) method which can be carried out with electron beams and which uses a specified material as an upper layer material having a high absorption wavelength range to be able to give a mask at the time of exposure of a lower layer and hardly producing a mixing region with the lower layer film.例文帳に追加

電子線で行なうことができ、下層の露光時にマスクとなり得る高い吸収波長帯を有し、下層膜との間にミキシング等を形成しにくい特定の材料を上層材料として用いたＰＣＭ法による実用的なレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing an active element array includes a process of forming pixel electrodes and a process of forming an amorphous transparent conductive film and then patterning the amorphous transparent conductive film into the same pattern as the pixel electrodes by a photolithographic method.例文帳に追加

アクティブ素子アレイの製造方法であって、画素電極を形成する工程と、非晶質透明導電膜を成膜した後、前記非晶質透明導電膜をフォトリソグラフィー法で前記画素電極を同じパターンに形成する工程を有するアクティブ素子アレイの製造方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an insulative wiring board, by which the deposition or the formation of bridges on the outside of a pattern can be suppressed by inactivating an adsorbed chelating agent and at the same time, inhibiting trapping of Au ion and formed Au-nuclei in a substitution or reduction plating method.例文帳に追加

本発明は、吸着したキレート剤を不活性化するとともに、置換及び還元めっき法のＡｕイオン及び生成したＡｕ核を捕捉しないようにし、パターン外の析出やブリッジ発生がない、絶縁性配線基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition, capable of securing flame retardancy without having to use a halogen-based flame retardant and superior in resolution, resistance to electrolytic corrosion, and storage stability, and a photosensitive film that uses the composition, and to provide a method of forming resist pattern, a printed wiring board, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ハロゲン系難燃剤を用いずに難燃性を確保することができ、更に、解像性、耐電食性及び保存安定性に優れた感光性樹脂組成物、並びにそれを用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、プリント配線板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which connecting reliability is high, and any void generation failure or connection failure is not generated, and an adhesive to be used for this, in an alloy formation connecting method by thermal eutectic between a metallic projection on the electrode pad of a semiconductor element and the wiring pattern of a wiring board.例文帳に追加

半導体素子の電極パッド上の金属突起と配線基板の配線パターンとの熱共晶による合金形成接続法において、接続信頼性が高く、ボイド発生不良や接続不良が発生しない半導体装置の製造方法とそれ用の接着剤を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified photoresist composition for a thick film suitable for forming a thick film having high sensitivity, ensuring good developed profile and suitable for use as a connection terminal forming material, and provide a thick film photoresist layered product, a method for producing a resist pattern usng the same and a method for producing a connection terminal.例文帳に追加

高感度で、現像プロファイルが良好である上に、接続端子形成用材料として好適な厚膜形成に適する厚膜用化学増幅型ホトレジスト組成物、厚膜ホトレジスト積層体、これを用いたレジストパターンの製造方法及び接続端子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To prevent defective plating due to an electrode set in the surface to be plated of a semiconductor substrate and, at the same time, to prevent insufficient continuity between the electrode and a current film, in a method for manufacturing semiconductor device including a step of forming a wiring pattern on the semiconductor substrate by a plating method.例文帳に追加

半導体基板上にメッキ法によって配線パターンを施す工程を含む半導体装置の製造方法において、半導体基板の被メッキ面に突き立てた電極によるメッキ不良を防止するとともに、電極とカレントフィルムとの間の導通不良を防止する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing composite tubular body, by which a prescribed conductor pattern can be formed easily and surely on at least either of the inner peripheral surface or the outer peripheral surface of a tubular film body with accuracy, and to provide a composite tubular body manufactured by the method.例文帳に追加

フィルム管状体の内周表面および外周表面の少なくとも一方に、所定の導体パターンを簡易かつ確実に、精度良く形成することのできる、複合管状体の製造方法、および、その方法により製造された複合管状体を提供すること。 - 特許庁

To provide a production method of a shadow mask for a color cathode-ray tube that can make such holes, through with narrow electron beams can pass, that cannot be made with photo-etching method, that can carry production without contaminating the environment and further that can easily change pattern of holes for passing the electron beams.例文帳に追加

フォトエッチング法では明けることのできないような小径の電子ビーム通過孔も明けることができ、また環境を汚染することなく低コストで製造することができ、さらには容易に電子ビーム通過孔のパターンを変更できるカラーブラウン管用シャドウマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having good sensitivity, resolution, adhesion and tent reliability, and excellent in scum dispersibility and suppression of occurrence of sludge in a developer, and also to provide a photosensitive element using the same, a resist pattern forming method, and a method for manufacturing a printed wiring board.例文帳に追加

感度、解像度、密着性及びテント信頼性が良好であり、現像液におけるスカム分散性及びスラッジの発生低減に優れる感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

To provide a substrate connection structure which relaxes stress in a connection part between a wiring pattern and a terminal electrode and is capable of preventing peeling and disconnection, a method for manufacturing the substrate connection structure, a mounting device, a mounting method, and an electro-optical device and an electronic device provided with the substrate connection structure.例文帳に追加

配線パターンと端子電極との接続部において応力を緩和し、剥離や断線を防止できる基板接続構造体、基板接続構造体の製造方法、実装装置、実装方法を提供すると共に、基板接続構造体を備えた電気光学装置、電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a resin mold stamper by which the number of discrete track media and bit pattern media manufactured on the basis of a nickel metal mold can be increased more drastically than heretofore so as to attain significant cost reduction, to provide the resin mold stamper, to provide a method for manufacturing a magnetic recording medium, and to provide the magnetic recording medium.例文帳に追加

ニッケル金型を元にして製造されるディスクリートトラックメディアやビットパターンメディアの枚数を、従来より飛躍的に増大させ、これによって大幅なコスト削減が可能な樹脂型スタンパ製造方法、樹脂型スタンパ、磁気記録媒体製造方法および磁気記録媒体を提供する - 特許庁