「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(383ページ目) - Weblio英語例文検索

By an imaging method using the lithography system, a desired pattern printed onto a substrate is decomposed into at least two constituting subpatterns that can be decomposed optically by the lithography system, and the piled-up body of two sacrifice hard masks is applied onto the substrate at the upper portion of a target layer patterned by a desired dense line pattern.例文帳に追加

リソグラフィ・システムを使用するイメージング方法は、基板上に印刷される所望のパターンを、リソグラフィ・システムによって光学的に分解することが可能な少なくとも２つの構成サブパターンに分解すること、所望の密なライン・パターンでパターニングされる標的層の上部において、２つの犠牲ハード・マスクの積重体を基板にコーティングすることを含む。 - 特許庁

To provide a device and method permitting to prepare a standard pattern robust to variation of utterance or permitting adaptation of a speaker, by extracting feature vector time series of not one kind but a plurality of kinds of feature extraction intervals and start positions from an utterance for standard pattern preparation or speaker's study and equivalently increasing the data amount for study.例文帳に追加

標準パターン作成用あるいは話者学習用の発声から、一通りでなく複数種類の特徴抽出間隔・開始位置の特徴ベクトル時系列を抽出して、等価的に学習用のデータ量を増やし、発声の変動に対して頑健な標準パターンの作成あるいは話者適応化を可能にする装置及び方法の提供。 - 特許庁

The method further comprises: a step of forming a resist pattern in the second region by the photolithography process; and a step of processing the insulating layer and the film to be processed using the side wall film in the first region and the resist pattern in the second region as masks and then forming a wiring trench in the film to be processed.例文帳に追加

さらに、前記第２領域においてフォトリソグラフィ工程によりレジストパターンを形成する工程と、前記第１領域における前記側壁膜と前記第２領域における前記レジストパターンとをマスクとして前記絶縁膜および前記被加工膜を加工し、前記被加工膜に配線溝を形成する工程と、を備えている。 - 特許庁

The method includes preparing a transfer and shift mold 15 having a fine irregular pattern 13 and a metallic thin film 17 adhered to only a protruding part 13a and the vicinity thereof, pressing the mold onto a heated plastic substrate 3 to transfer the fine irregular pattern to the plastic substrate, and shifting the metallic thin film 7 to the plastic substrate side.例文帳に追加

微細凹凸パターン１３を備え凸部１３ａ及びその近傍にのみ金属薄膜１７が付着している転写・転移用モールド１５を用意し、モールドを加熱したプラスチック製基板３に押し付けて微細凹凸パターンをプラスチック製基板に転写すると共に、金属薄膜７をプラスチック製基板側に転移させるようにした。 - 特許庁

A resist pattern forming method is provided which includes disposing one or more films 2 on a substrate 1 and forming a resist pattern in the films 2 by lithography including exposure and development, wherein before exposure or development, the films 2 are subjected to supercritical processing by contact with a supercritical processing liquid 5' in which an organic substance 4 has been dissolved.例文帳に追加

基板１上に１層以上の被膜２を設け、該被膜２に、露光、現像を含むリソグラフィ技術によりレジストパターンを形成するパターン方法であって、 露光もしくは現像前に、前記被膜２を有機物４を溶解した超臨界処理液５’に接触させる超臨界処理を行うことを特徴とするレジストパターン形成方法。 - 特許庁

The method for forming a mask includes steps of forming a film which can be sheared on a deformable or elastic organic substance layer, pressing a die having a pattern on its surface to the film to shear a part of the film along the boundary of the pattern, releasing the die from the film, and removing the sheared portion in the film.例文帳に追加

本発明のマスクの形成方法は、変形可能または弾性を有する有機物層上に、剪断可能な膜を形成する工程と、表面にパターンが形成された型を膜に押圧し、パターンの境界部により膜の一部を剪断加工した後、型を膜から離す工程と、膜における剪断加工された部分を除去する工程とを有する。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition excellent in temporal stability after prepared and showing a small variation in pattern line width due to variation in exposure energy, a color filter excellent in hue and resolution and having a good pattern profile, and a method for producing a color filter by which the above color filter can be produced with high productivity (high cost performance).例文帳に追加

組成物作成後の経時安定性に優れ、かつ露光量変動によるパターン線幅変動の割合が小さい染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、色相及び解像力に優れ、パターン形状が良好なカラーフィルタ及び該カラーフィルタを高い生産性（高いコストパフォーマンス）にて作製し得るカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polymerizable composition which has high light-shielding properties in an infrared region and high translucency in a visible light region, and with which a pattern having excellent resolution in alkali development can be formed, and which has excellent temporal stability, as well as photosensitive layer, a permanent pattern, a wafer level lens, a solid state imaging element and a pattering method using the composition.例文帳に追加

赤外領域における遮光性が高く、可視光領域における透光性が高く、かつ、アルカリ現像による解像性に優れたパターンを形成可能であり、更には、経時安定性に優れた重合性組成物、並びに、これを用いた感光層、永久パターン、ウエハレベルレンズ、固体撮像素子、及び、パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The pattern forming method includes a stage of forming an oxygen blocking film 120 on a photosensitive resin film 110, a stage of exposing the photosensitive resin film 110 where the oxygen blocking film 120 is formed to a light pattern, and a stage of developing the exposed photosensitive resin film 110, wherein the oxygen blocking film is 0.01 to <0.1 μm in thickness.例文帳に追加

感光性樹脂膜１１０上に酸素遮断膜１２０を形成する工程と、酸素遮断膜１２０が形成された感光性樹脂膜１１０に対して光パターンを露光する工程と、露光された感光性樹脂膜１１０を現像する工程と、を備え、酸素遮断膜の膜厚が０．０１μｍ以上０．１μｍ未満である。 - 特許庁

The personal authentication method selects desired tactile stimulus elements from among a plurality of types of tactile stimuli (Step S1 to Step S5), arranges the selected tactile stimulus elements in a time series to construct a time series pattern of tactile stimuli arranged in a time series (Step S6), and registers the constructed time series pattern of tactile stimuli in association with the user (Step S7).例文帳に追加

本発明の個人認証方法は、複数種類の触刺激の中から所望の触刺激要素を選択し（ステップＳ１〜ステップＳ５）、選択された触刺激要素を時系列に並べ、時系列に並べられた触刺激の時系列パターンを構成し（ステップＳ６）、この構成された触刺激の時系列パターンをユーザと対応関係を付けて登録する（ステップＳ７）。 - 特許庁

The manufacturing method of the test mask includes steps of forming a pattern of a light shielding film on a glass substrate and of changing the film thickness of the light-shielding film in the pattern, wherein the step of changing the film thickness of the light-shielding film is repeated to produce a test mask.例文帳に追加

テストマスクは、数種類の透過率を有し、かつ各々の種類の透過率において寸法の異なるパターンを有するようにしたものであり、テストマスクの製造方法は、ガラス基板上の遮光膜のパターン形成を行う工程と、パターンの遮光膜の膜厚を変える工程と、を備え、前記遮光膜の膜厚を変える工程を繰り返し、テストマスクを作製する。 - 特許庁

To provide an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition having good conformability to a liquid for liquid immersion during liquid immersion exposure and having good coverage dependence, from which a pattern reduced in the occurrence of watermark defects, bubble defects and development scum defects can be formed, and to provide a method for forming a pattern using the composition.例文帳に追加

本発明の目的は、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であり、ウォーターマーク欠陥、バブル欠陥、現像残渣欠陥の各々が少ないパターンを形成することが可能、且つ、被覆率依存性が良好な感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

This photoresist masking method includes: attaching a compress mask to a substrate, applying photoresist to the masking pattern of the compress mask, baking the photoresist from one side of the substrate, moving the compress mask from the substrate, and forming a desired photoresist pattern on the substrate.例文帳に追加

フォトレジスト・マスキング方法は、コンプレス・マスク（ｃｏｍｐｒｅｓｓ ｍａｓｋ）と基板とを貼り付けることと、前記コンプレス・マスク（ｃｏｍｐｒｅｓｓ ｍａｓｋ）のマスキング・パターンにフォトレジストを塗布することと、基板の片側から前記フォトレジストをベーキングすることと、基板からコンプレス・マスク（ｃｏｍｐｒｅｓｓ ｍａｓｋ）を移し、基板に所望のフォトレジスト・パターンを形成することとを備える。 - 特許庁

A manufacturing method of a grayscale mask having a variable density pattern corresponding to change of optical transmissivity has a step of forming a dry plate by applying a photoemulsion onto a transparent substrate and a step of irradiating the dry plate with laser beams which are subjected to a plurality of gradations of intensity modulation corresponding to the variable density pattern.例文帳に追加

本発明に係るグレイスケールマスクの製造方法は、光透過率の変化に対応した濃淡模様を有するグレイスケールマスクの製造方法であって、透明基板上にフォトエマルジョンを塗布して乾板を形成するステップと、濃淡模様に対応して複数階調の強度変調を行ったレーザー光を乾板に照射するステップと、を備える。 - 特許庁

The silicon film forming method comprises the steps of forming a recess by forming a resist pattern on the base material, coating the recess with a liquid silicon material, conducting optical process and a first heat treatment of the resist pattern and the liquid silicon material coated, and conducting a second heat treatment of the liquid silicon material.例文帳に追加

基体上にレジストパターンを形成し、凹部を形成する工程と、前記凹部に液体シリコン材料を塗布する工程と、前記レジストパターン及び塗布された前記液体シリコン材料に対して、光処理及び第１熱処理を行う工程と、前記液体シリコン材料に対して、第２熱処理を行う工程と、を含む、シリコン膜の形成方法により解決する。 - 特許庁

The manufacturing method includes a groove forming process for forming grooves 4 in a silicon substrate 11 and a cutting process for cutting the grooves 4 as cutting parts in the silicon substrate 11 in a state where the silicon substrate 11 is held by a resin film 12 and a wiring pattern 13 by forming the resin film 12 and the wiring pattern 13 on one face of the silicon substrate 11.例文帳に追加

シリコン基板１１に溝４を形成する溝形成工程と、シリコン基板１１の一方面には樹脂膜１２及び配線パターン１３が形成されてなり、樹脂膜１２及び配線パターン１３によってシリコン基板１１を保持した状態でシリコン基板１１について溝４を割断部として割る割断工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

A method of manufacturing the motor rotor 204 includes the steps of selecting the rubber magnet 200 whose surfaces are flat, forming at least one pattern 206 in one surface of the rubber magnet, directing the surface having the pattern 206 of the rubber magnet toward the outside bending the rubber magnet into the shape corresponding to the inside surface of the magnet yoke, and arranging the rubber magnet in the magnetic yoke.例文帳に追加

モータ回転子２０４の製造に際しては、表面が平滑なゴム磁石２００を選択し、ゴム磁石の一方の表面上に一つまたは複数のパターン２０６を形成した後、ゴム磁石のパターン２０６を有する表面を外側に向けて、ゴム磁石を磁気ヨークの内側面に対応する形状に曲げて、ゴム磁石を磁気ヨーク内に配置する。 - 特許庁

The manufacturing method of the element substrate 100 includes: a process for forming a sacrifice layer having a first pattern on a substrate 10; a process for forming a metal layer at the upper portion of the formation and non-formation regions of the sacrifice layer; and a process for forming a metal layer 34 having a second pattern by removing the sacrifice layer by heating.例文帳に追加

本発明にかかる素子基板１００の製造方法は、基板１０上に第１のパターンの犠牲層を形成する工程と、前記犠牲層の形成領域および非形成領域の上方に金属層を形成する工程と、加熱することにより、前記犠牲層を除去して、第２のパターンの金属層３４を形成する工程と、を含む。 - 特許庁

The manufacturing method of the curved member (lens 4) includes: a die manufacturing process of forming a rugged pattern on a substrate to manufacture the die; a transfer process of transferring the rugged pattern of the die to a resin film (thermoplastic resin film 22); and an attachment process of sticking the resin film to a curved surface 41 of an object to be worked (lens body 40).例文帳に追加

曲面状部材（レンズ４）の製造方法は、基板に凹凸パターンを形成して型を製造する型製造工程と、前記型の凹凸パターンを樹脂膜（熱可塑性樹脂膜２２）に転写させる転写工程と、前記樹脂膜を加工対象物（レンズ本体４０）の曲面４１に貼り付ける貼着工程と、を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

In the method for forming an superfine pattern by using an irregular reflection preventing film containing an acid generator, an organic irregular reflection preventing film with addition of an excess amount of an acid generator is used so that a pattern having a vertical profile can be obtained even when a photoresist resin having rather high absorbance for the light from the light source is used.例文帳に追加

本発明は、酸発生剤を含む乱反射防止膜を利用した超微細パターンの形成方法に関し、過量の酸発生剤を添加した有機乱反射防止膜を用いることにより、光源に対する吸光度が多少高めのフォトレジスト樹脂を用いるとしても垂直のパターンを得ることができるパターンの形成方法に関する。 - 特許庁

This method of forming the microstructure includes a process to form a light shielding mask pattern 11 for shielding light with a prescribed wavelength on the surface of a substrate 7 containing a material which emits light when light having prescribed energy is irradiated to it, and a process to apply a photo-polymerizable photo-polymerization material 9 to the top face of the substrate 7 on which the light shielding mask pattern 11 is formed.例文帳に追加

所定のエネルギを有する光が照射されることにより発光する材料を含む基板７の表面に、所定の波長の光を遮光する遮光マスクパターン１１を形成する工程と、遮光マスクパターン１１が形成された基板７の上面に、光重合性を有する光重合材料９を塗布する工程とを備える。 - 特許庁

This manufacturing method for the electrooptical device includes a forming process for forming a pattern including wires, TFTs, etc., on the TFT array substrate, a process for flattening the top surface of a laminated body on the substrate including the pattern, and a process for forming the projections by processing the flattened top surface by photolithography and etching.例文帳に追加

このような電気光学装置の製造方法は、ＴＦＴアレイ基板上に、配線やＴＦＴ等を含むパターンを形成する形成工程と、このパターンを含む基板上の積層体の上面を平坦化する工程と、この平坦化された上面に対してフォトリソグラフィ及びエッチングを行うことにより、凸部を形成する工程とを含む。 - 特許庁

A cavity processing method of a core substrate comprises: a step of forming a first processing region defined by a circuit pattern on one surface of the core substrate; a step of forming a second processing region defined by the circuit pattern on the other surface of the core substrate; and a step of processing a cavity by removing the first processing region completely from the one surface of the core substrate.例文帳に追加

本発明に係るコア基板のキャビティ加工方法は、コア基板の一面に回路パターンにより区画される第１加工領域を形成する工程と、コア基板の他面に回路パターンにより区画される第２加工領域を形成する工程と、コア基板の一面から第１加工領域を全て除去してキャビティを加工する工程と、を含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an electric solid device by which even when an aperture pattern is formed by dry-etching an overlay conductive film on an insulating film, an insulating film with an appropriate film thickness can be left in a region overlapping the aperture pattern, and to provide an electric solid device and a liquid crystal device having the electric solid device as an element substrate.例文帳に追加

絶縁膜上で上側導電膜にドライエッチングを行って開口パターンを形成する場合でも、開口パターンと重なる領域に適正な膜厚の絶縁膜を残すことのできる電気的固体装置の製造方法、電気的固体装置、および該電気的固体装置を素子基板として備えた液晶装置を提供すること。 - 特許庁

The method for applying the jointing material 12 used in fitting of a mounting part to a T-surface pattern 11 or a T-structured part is characterized in that the pasted jointing material 12 is applied to the pattern 11 or the T-structured part in the dispersed form of two or more spots.例文帳に追加

表面形状がＴ字型のパターン１１あるいはＴ字型構造部に、実装部品を実装する際に使用される接合材料１２の塗布方法において、前記パターン１１あるいはＴ字型構造部に２点あるいはそれ以上に分散した形でペースト状の接合材料１２を塗布することを特徴とする接合材料の塗布方法。 - 特許庁

The method for forming the protective layer on the photomask comprises a process of overlapping the photomask having a pattern formation layer with a laminated film having the protective layer and a temporary substrate so as to bring the pattern formation layer into contact with the protective layer, a process of heat-pressurizing the body overlapped by the above described process under the reduced pressure and a process of stripping the temporary substrate.例文帳に追加

パターン形成層を有するフォトマスクと、保護層と仮支持体を有する積層フィルムを、パターン形成層と保護層が接するように重ね合わせる工程、前記工程により重ね合わせたものを減圧下加熱圧着する工程および仮支持体を剥離する工程を有する、フォトマスクに保護層を形成する方法。 - 特許庁

The method for recording data to the optical recording medium includes: a step for generating a box type recording pattern comprising a first pulse which has a duration determined according to a length of a recording mark and has a first power level and a second pulse which has a second power level different from that of the first power level; and a step for recording data according to the recording pattern.例文帳に追加

記録するマークの長さによって決定される長さを有し、第１パワーレベルを有する第１パルス、及び第１パワーレベルより低いパワーレベルを有する第２パルスで構成されたボックス型記録パターンを生成するステップと、記録パターンによってデータを記録するステップと、を含む光記録媒体にデータを記録する方法である。 - 特許庁

To provide a method for releasing a flexible film from a reinforcing plate without incurring position deviation or disconnection of a circuit pattern, break of a bonding pad with an electronic component, damage of the electronic component, and the like in a circuit board member wherein the high-accuracy circuit pattern is formed by sticking the flexible film through an organic layer to the reinforcing plate and maintaining dimension accuracy.例文帳に追加

可撓性フイルムを有機物層を介して補強板に貼り合わせ、寸法精度を維持することで、高精度な回路パターンを形成した回路基板用部材を、回路パターンの位置ずれや断線、電子部品との接合パッド部の破断や電子部品の破損を起こすことなく、可撓性フイルムを補強板から剥離する方法を提供する。 - 特許庁

In the method for forming the printed wiring board, a pattern is drawn on a substrate with a dispersion liquid containing fine particles of a metal oxide or a metal hydroxide and then at least a part of the fine particles of metal oxide or metal hydroxide is reduced to a metal by energy irradiation, thereby a conductive pattern is formed.例文帳に追加

金属酸化物又は金属水酸化物の微粒子を含有する分散液を、基板上にパターン状に描画した後に、エネルギー照射により前記金属酸化物又は金属水酸化物の微粒子の少なくとも一部を金属に還元して導電パターンを形成することを特徴とするプリント配線基板の形成方法。 - 特許庁

To provide a method for removing a pellicle frame, a device and a removing tool for the method, for removing a pellicle frame attached to a glass substrate with an adhesive for protecting a pattern, so as to reliably prevent the adhesive from remaining on the glass substrate upon removing the pellicle frame.例文帳に追加

本発明は、ガラス基板上にパターン保護のために接着剤により取り付けられたペリクル枠を剥離するペリクル枠剥離方法及びその装置並びに剥離治具に関し、ペリクル枠の剥離に際して接着剤のガラス基板上への残存を確実に回避させることを目的とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the color filter is characterized in that a pattern of a colored layer is formed by a screen print method while using an ink composition for forming the colored layer containing pigment in the range of 24 to 95 wt.% by solid ratio.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、固形分比で２４重量％〜９５重量％の範囲内で顔料を含有する着色層形成用インク組成物を用い、スクリーン印刷法により着色層パターンを形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a new screen printing plate, with which the screen printing plate having a mask layer excellent in fixture to screen and plate wearability can be manufactured at all times irrespective of the kinds of fibers or the like making the screen thereof by forming a pattern by utilizing an inkjet printing method.例文帳に追加

インクジェット印刷法を利用したパターン形成によって、スクリーンのもとになる繊維等の種類に関係なく、常に、前記スクリーンに対する定着性や耐刷性に優れたマスク層を有するスクリーン印刷版を製造することができる、新規なスクリーン印刷版の製造方法を提供する。 - 特許庁

A barrier rib pattern is formed by a sandblasting method on a paste layer containing at least two types of inorganic powder with different softening points and particle size, and at the same time, one of the inorganic powders is rutile type titanium and then calcinated in the manufacturing method for the inorganic barrier rib layer.例文帳に追加

軟化点および粒子サイズが互いに相違する少なくとも２種類の無機粉末であって、かつ該無機粉末の何れかがルチル型酸化チタンである無機粉末を含有するペースト層に、サンドブラスト法により隔壁パターンを形成した後、焼成するＰＤＰ用無機隔壁層の製造方法。 - 特許庁

To provide a test pattern image for correcting a color shift when applied to an image forming method using toner so controlled as to maintain a color developing or non-color-developing state upon provision with color development information by light; a color shift correction method; and an image forming apparatus.例文帳に追加

光による発色情報の付与により発色または非発色の状態を維持するように制御されるトナーを用いた画像形成方法に適用した場合に、色ずれを補正することができる、テストパターン画像、色ずれ補正方法、及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask that can decrease changes in a polarization state of exposure light induced by the mask itself and transfer a preferable fine image onto a wafer in photolithography with a 45 nm half pitch node or further advanced techniques, and to provide a method for easily manufacturing the mask and a pattern forming method using the photomask.例文帳に追加

ハーフピッチ４５ｎｍノード以降のフォトリソグラフィにおいて、マスク自身により誘引される露光光の偏光状態の変化を緩和し、良好な微細画像をウェハ上に形成するためのフォトマスク、および簡易なその製造方法、さらに、そのフォトマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of preventing generation of ruggedness on the surface including the skirt of an organic film pattern having mountain structure, in a liquid crystal display device, to provide a method for producing a thin layer transistor substrate using the composition, and to provide a method for producing a common electrode substrate.例文帳に追加

液晶表示装置において、山構造を有する有機膜パターンの裾部を含む表面における凹凸の発生を防止できるような、感光性樹脂組成物と、これを用いた薄膜トランジスタ基板の製造方法、及び共通電極基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A paper material 3 and a paper material 5 having a colored pattern layer 8 applied thereto are laminated at the same time so as to hold a heated and method low density polyethylene resin 4 by an extrusion lamination method to obtain a decorative material 6 which is, in turn, laminated to a substrate 1 by an adhesive 2.例文帳に追加

押し出しラミネート方法により加熱溶融した低密度ポリエチレン樹脂４を挟み込むようにして紙質材３と色、柄模様の層８を施した紙質材５とを同時に貼り合わせて化粧材６とし、このシートを接着剤２により基材１に貼り合わせる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid crystal device with which an alignment layer excellent in film thickness uniformity is formed and generation of tilt irregularity is suppressed even when a printing method such as flexographic printing is used, by forming an alignment layer having a non-rectangular planar pattern.例文帳に追加

配向膜の平面形状を非矩形状とすることにより、フレキソ印刷法等の印刷手法を用いた場合であっても、膜厚均一性に優れた配向膜を形成し、ティルトムラの発生を少なくすることができる液晶装置の製造方法及び液晶装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition of which the flame retardancy can be maintained without using a halogen-based flame retardant, and moreover, which has excellent resolution, electrolytic corrosion resistance and storage stability, and to provide a photosensitive film using the composition, a method for forming a resist pattern, a printed wiring board and its manufacturing method.例文帳に追加

ハロゲン系難燃剤を用いずに難燃性を確保することができ、更に、解像性、耐電食性及び保存安定性に優れた感光性樹脂組成物、並びにそれを用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法、プリント配線板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a blank for a reflective photomask and a manufacturing method thereof, and a reflective photomask and a manufacturing method thereof, in and by which the blank and the photomask are clean against an outgas component present in a resin-made mask case and a clean room environment, cause no contamination of the inside of an exposure device and allow a fine pattern to be formed.例文帳に追加

樹脂製マスクケースやクリーンルーム環境中に存在するアウトガス成分に対して清浄で露光装置内部を汚染することのなく、微細なパターン形成ができる、反射型フォトマスク用ブランク及びその製造方法並びに反射型フォトマスク及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the color filter is characterized in that a colored layer pattern is formed by a screen printing method by using an ink composition for forming the colored layer containing pigment in a range of 24 to 95 wt.% by a solid content ratio.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、固形分比で２４重量％〜９５重量％の範囲内で顔料を含有する着色層形成用インク組成物を用い、スクリーン印刷法により着色層パターンを形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a halftone-type EUV mask produced by selecting the material of a halftone film that has no only wide selectivity (flexibility) of reflectivity and high cleaning liquid-resistance, but also high processing accuracy of etching, a halftone-type EUV mask blank, a production method of the halftone-type EUV mask and a pattern transfer method.例文帳に追加

反射率の選択性の広さ（自由度）と洗浄液耐性の高さを持つと同時に、エッチングの加工精度が高くなるハーフトーン膜の材料を選定したハーフトーン型ＥＵＶマスク、ハーフトーン型ＥＵＶマスクブランク、ハーフトーン型ＥＵＶマスクの製造方法及びパターン転写方法を提供すること。 - 特許庁

The method for producing the thin film of the nitride on the sapphire substrate comprises the steps of: hydrotreating the sapphire substrate at a high temperature: irradiating it with an electron beam; depositing the nitride to form the thin film on the substrate treated with the electron beam by a metal organic chemical vapor deposition method; and forming a pattern of the thin film of the nitride.例文帳に追加

サファイア基板上への窒化物薄膜の製造方法において、高温水素処理を行ったサファイア基板に電子線を照射し、この電子線処理基板に有機金属化学堆積法によって窒化物薄膜を堆積し、窒化物薄膜を描画する。 - 特許庁

To provide a plating film with which the distinction of truth or falsehood, the prevention of forgery or the like, the control of a product, etc., can be performed by forming a pattern which can not be identified with eyes at the inside, to provide a plated member, to provide a method for producing the same, and to provide a method for identifying a plating film.例文帳に追加

内部に目視にて識別することができないパターンを形成することにより、真贋の判別、偽造等の防止、製品の管理等を行うことができるメッキ膜とメッキ部材及びその製造方法並びにメッキ膜の識別方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In a resist pattern forming method being employed in a fabrication method of semiconductor device, first optical images 13a-13d having width W0 shorter than the wavelength of light are projected onto the resist surface by irradiating the resist surface formed on a substrate with light through a mask.例文帳に追加

半導体装置の製造方法において用いるレジストパターン形成方法であって、マスクを介して、基板上に形成されたレジスト表面に光を照射することにより、レジスト表面に光の波長以下の幅Ｗ０を有する第１の光学像１３ａ〜１３ｄを投影する。 - 特許庁