「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(380ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method of a semiconductor device for precisely carrying out formation by recognizing an alignment mark for aligning a pattern to be formed in the upper layer even if a CMP(chemical mechanical polishing) method is used for forming buried wiring.例文帳に追加

ＣＭＰ（化学機械的研磨）法を用いて埋め込み配線を形成する場合であっても、その上層に形成するパターンを位置合わせするためのアライメントマークを認識できるかたちで的確に形成することのできる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laminated body for forming a grafted film which can generate a grafted polymer with high sensibility and form the grafted film, the grafted film using the laminated body for forming the grafted film, its forming method, a graft pattern using the laminated body for forming the grafted film, and its forming method.例文帳に追加

高感度でグラフトポリマーを生成し、グラフト膜を形成しうるグラフト膜形成用積層体、該グラフト膜形成用積層体を用いたグラフト膜、その形成方法、該グラフト膜形成用積層体を用いたグラフトパターン、及びその形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of fabricating a semiconductor device, in which fins of an SRAM region having an extremely fine pattern and an active region of a peripheral circuit region are formed inexpensively and with accurate design, and to provide a photomask used for the method of fabricating the semiconductor device.例文帳に追加

極微細なパターンを有するＳＲＡＭ領域のフィンと周辺回路領域の活性領域とを低コストかつ正確なデザインで形成することのできる半導体装置の製造方法、およびその製造方法に用いられるフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a processing method for a plastic material, which enables the faithful formation of a fine pattern with a high aspect ratio and which can make the thickness of a molded article extremely uniform, the molded article formed by the processing method, and processing equipment.例文帳に追加

微細でハイアスペクト比のパターンを忠実に形成することができ、さらに成形品の厚みを極めて均一にすることが可能なプラスチック材料の加工方法及びその加工方法により形成された成形品並びに加工装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a forming method of a developable test program tool for allowing even an inexperienced engineer to make a test pattern program in a short period in the forming method and the device of the developable test program tool, and a device thereof.例文帳に追加

本発明は展開型試験プログラムツールの生成方法及び装置に関し、経験の浅い技術者でも短期間でテストパターンプログラムを作成することができる展開型試験プログラムツールの生成方法及び装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide an offset print method, where machinable dimensional precision following the creation of a plate in an offset print method, or the like does not become any problems, and pattern precision does not become uneven if print pressure and a blanket thickness vary when transferring ink to a press plate.例文帳に追加

オフセット印刷方法等における版作成にともなう加工可能な寸法精度が問題にならないとともに、刷版へのインキ転写の際、印圧やブランケットの厚さにバラツキがあるとパターン精度にムラも生じないオフセット印刷方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain a device and a method for accurately detecting the surface position of a substrate and a method and a device for aligning even when a pattern having a large step difference is formed by a plurality of layers on the surface of the substrate.例文帳に追加

基板の表面に複数のレイヤによって大きな段差を有するパターンが形成されている場合でも、この基板の面位置を精度良く検出可能である面位置検出方法及び面位置検出装置、並びに露光方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁

The forming method of a metal pattern heats the metal fine particle dispersion pattern obtained by the forming method of a metal fine particle dispersion pattern.例文帳に追加

重合開始部位を骨格中に有するポリイミドを含む基材表面に、該基材表面に直接結合し且つ極性基を有するグラフトポリマーをパターン状に生成させる工程と、 該グラフトポリマーに金属イオン又は金属塩を付与する工程と、該金属イオン又は金属塩中の金属イオンを還元して金属微粒子を析出させ、金属微粒子付着領域を形成する工程と、 を有することを特徴とする金属微粒子分散パターン形成方法、及び該金属微粒子分散パターン方法により得られた金属微粒子分散パターンを加熱することを特徴とする金属パターン形成方法である。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition having proper resolution after development, so superior in dispersion stability in a developing solution as not to generate scums, superior in flexibility of a cured film, and having tenting properies and proper etchant resistance, and a photosensitive resin laminate having a photosensitive resin layer formed of the composition, and to provide a resist pattern forming method that uses the laminate and a conductor pattern producing method.例文帳に追加

現像後解像性が良好で、現像液分散安定性に優れ凝集物を発生せず、硬化膜柔軟性に優れ、テンティング性、良好なエッチング液耐性を有する感光性樹脂組成物、及び該組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask plate having a pattern on which a foreign matter hardly remains on the photomask plate after cleaning the plate, and the photomask plate having improved pattern accuracy, and to provide a method for making a photomask plate by which the above photomask plate can be reliably made by a simple method, repeated cleaning steps for eliminating a foreign matter after cleaning can be reduced, and the cost can be reduced.例文帳に追加

洗浄後のフォトマスク版に異物が残留し難くい形状とされ、パターニング精度を向上させることのできるフォトマスク版と、簡単な方法で、しかも確実に前記フォトマスク版を作成することができ、洗浄後における異物除去のための再度の洗浄工程を削減して生産性を向上させることができ、しかも、コストの削減も可能とするフォトマスク版の作成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a developing device and an exposing/developing method for facilitating pattern formation with high resolution, improving mass-productivity and providing a product of high quality by exposure using a proximity exposure system in the exposing/developing steps of a method for manufacturing a color filter for processing a photosensitive resin composition applied on a substrate into a black matrix or a colored pattern.例文帳に追加

本発明は、基板上に塗布された感光性樹脂組成物をブラックマトリクス、若しくは着色パタ−ンとして形成するカラ−フィルタ製造方法の露光・現像工程において、プロキシミティ露光方式を用いた露光で、高解像度のパターン形成を可能にし、量産性を向上させ、かつ、高品質の製品を提供するための現像装置及び露光・現像方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

This misalignment measuring method is for measuring the misalignment by finding the misalignment measuring method optimum for a misalignment measuring machine when measuring the misalignment of a pattern formed on a body to be aligned, in a preprocess and the pattern to be transferred on the body to be aligned in a post process following the preprocess, by misalignment measuring marks provided on the respective patterns by using the misalignment measuring machine.例文帳に追加

本合わせずれ測定方法は、合わせずれ測定機を使って、前工程で被露光体上に形成されているパターンと、前工程に続く後工程で被露光体上に転写するパターンとの合わせずれをそれぞれのパターンに設けられた合わせずれ測定マークにより測定するに当たり、合わせずれ測定機に最適な合わせずれ測定手法を見い出して、合わせずれを測定する方法である。 - 特許庁

To provide a sensitive composition by which roughness is reduced and outgas is suppressed, a compound used for the sensitive composition, and a pattern forming method using the composition, while the sensitive composition is used for a semiconductor manufacturing process of an IC or the like, manufacture of a liquid crystal, a thermal head or the like, and other fabrication processes, and a pattern forming method using the sensitive composition.例文帳に追加

ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、ラフネスが低減し、アウトガスが抑制された感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a judging method of an allergic disease capable of judging the expansion/contraction pattern of an allergen and/or the expansion/contraction pattern of an allergen epitope, the judging method of the allergic disease capable of detecting the allergen recognition antibody in a specimen by immunoassay using a Cy3 labelled secondary antibody and a judging kit of the allergic disease capable of using these judging methods of the allergic disease.例文帳に追加

アレルゲンの拡大／縮小パターン及び／又はアレルゲンエピトープの拡大／縮小パターンを判定することができるアレルギー疾患の判定方法や、検体中のアレルゲン認識抗体をＣｙ３標識２次抗体を用いるイムノアッセイにより検出することができるアレルギー疾患の判定方法や、これらアレルギー疾患の判定方法に用いることができるアレルギー疾患の判定キットを提供すること - 特許庁

To provide a photopolymerizable resin composition which exhibits good resolution and adhesion after development, excels in dispersion stability in a developer, and avoids production of aggregates, and a photopolymerizable resin laminate having a photopolymerizable resin layer comprising the composition, and to provide a method for forming a resist pattern using the laminate and a method for producing a conductor pattern or the like.例文帳に追加

本発明は、現像後解像性および密着性が良好で、現像液分散安定性に優れ凝集物が発生しない光重合性樹脂組成物、及び該組成物を含有する光重合性樹脂層を有する光重合性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターン等の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures good resolution after development, generates no scum because of excellent dispersion stability in a developer, and has good edge fusion resistance and conformability, and a photosensitive resin laminate having a photosensitive resin layer comprising the composition, and to provide a method for forming a resist pattern using the laminate and a method for producing a conductive pattern.例文帳に追加

現像後解像性が良好で、現像液分散安定性に優れ凝集物を発生せず、良好なエッジフューズ性と追従性を有する感光性樹脂組成物、及び該組成物からなる感光性樹脂層を有する感光性樹脂積層体を提供すること、ならびに、該積層体を用いたレジストパターンの形成方法、及び導体パターンの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition, which can sufficiently suppress turbidity in a resin film after applied or developed, which is curable at a low temperature and which is developable with an alkali aqueous solution, and to provide a method for producing a resist pattern using the positive photosensitive resin composition, a semiconductor device having a resist pattern formed by the above method, and an electronic device including the semiconductor device.例文帳に追加

塗布後及び現像後の樹脂膜の濁りを充分に抑制することが可能であり、かつ低温での硬化が可能で、アルカリ水溶液で現像可能であるポジ型感光性樹脂組成物、並びに、該ポジ型感光性樹脂組成物を用いたレジストパターンの製造方法、かかる方法により形成されたレジストパターンを有する半導体装置、及び該半導体装置を備える電子デバイスを提供すること。 - 特許庁

In the method of manufacturing the semiconductor device having the resistance element 41 comprising a resistance pattern 17b and a metal silicide layer 40 formed on a surface thereof, the method has a step S5 of designing the resistance element 41 so that contact resistance R_c between the resistance pattern 17b and metal silicide layer 40 is included in a design resistance value R_d of the resistance element 41.例文帳に追加

抵抗パターン１７ｂとその表面に形成された金属シリサイド層４０とで構成される抵抗素子４１を備えた半導体装置の製造方法であって、抵抗パターン１７ｂと金属シリサイド層４０との接触抵抗R_cを抵抗素子４１の設計抵抗値R_dに含めて抵抗素子４１を設計するステップＳ５を有することを特徴とする半導体装置の製造方法による。 - 特許庁

To provide a method for accurately performing line-shaped groove processing, such as dicing of a substrate and groove processing of a solar cell, by a simple masking method, since in a conventionally performed pattern cutting by sandblasting, a method using a photosensitive dry film as masking, and a method including printing masking ink by screen printing and performing masking, are costly and time consuming.例文帳に追加

従来から行われてきたサンドブラストによりパターン切削加工に於いて、マスキングとして感光性ドライフィルムを使用する方法やマスキングインクをスクリーン印刷にて印刷してマスキングを行う方法ではコストと時間がかかり、簡単なマスキング方法で基板のダイシングや太陽電池の溝加工等ライン形状の溝加工を精度良く行える方法が望まれている。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes steps of: forming a resist underlay film from the above composition for forming a resist underlay film on a substrate; forming a resist film thereon; forming a resist pattern by exposure and development; etching the underlay film through the resist pattern; and processing the semiconductor substrate through the patterned underlay film.例文帳に追加

基板にレジスト下層膜形成組成物によりレジスト下層膜を形成する工程、その上にレジスト膜を形成する工程、露光と現像によりレジストパタ−ンを形成する工程、レジストパタ−ンにより該下層膜をエッチングする工程、及びパタ−ン化された下層膜により半導体基板を加工する工程を含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

In the method for producing the ceramic green sheet, after a prescribed electrode pattern is formed on the heat-peelable adhesive layer of the carrier sheet having the adhesive layer containing a side chain type crystalline resin on one side of a base film, the ceramic green sheet is molded by ceramic slurry on the adhesive layer on which the electrode pattern is formed.例文帳に追加

ベースフィルムの片側に、側鎖型結晶性樹脂を含む加熱剥離粘着層を有するキャリアシートの当該加熱剥離粘着層上に、所定の電極パターンを形成した後、当該電極パターンの形成された加熱剥離粘着層上にセラミックスラリーによりセラミックグリーンシートを成形することを特徴とするセラミックグリーンシートの製造方法。 - 特許庁

Especially, such a method forms the secondary active regions (14a and 14b) through a step to crystallize the secondary single-crystal semiconductor material from a pattern composed of the secondary polycrystal and/or amorphous semiconductor materials as well as an interface region between the pattern and the preselected primary active regions (1a and 1b).例文帳に追加

そのような方法は、特に、多結晶および／またはアモルファス形態の第２の半導体材料から成るパターンおよび前記パターンと予め選択された第１の活性領域（１ａ，１ｂ）との間の界面領域から単結晶形態で第２の半導体材料を結晶化させるステップにより第２の活性領域（１４ａ，１４ｂ）を形成することから成る。 - 特許庁

A method for locally forming or modifying a pattern of specific magnetization modification in an at least potentially ferromagnetic surface includes a step for forming a prescribed pattern of discrete magnetization regions on the magnetic surface preferably by exposing the magnetic surface to the bombardment of activated subatom corpuscles directed toward the magnetic surface in the form of electron beams.例文帳に追加

少なくとも潜在的に強磁性の表面内において、局所的に特定の磁気変異のパターンを生成または変異する方法が、前記磁気面をそれに向けて制御される、好適には電子放射の形態の活性化亜原子粒子の衝突に晒すことにより、前記磁気面上に離散的磁化領域の所定のパターンを生成するステップを含む。 - 特許庁

The liquid crystal display device is manufactured by forming at least one or more of patterns, out of those necessary for manufacturing the liquid crystal display device such as a wiring layer or a conductive layer to form electrodes, or a mask layer to form a predetermined pattern, by a method capable of selectively forming a pattern.例文帳に追加

配線層若しくは電極を形成する導電層や、所定のパターンを形成するためのマスク層など液晶表示装置を作製するために必要なパターンのうち、少なくとも一つ若しくはそれ以上を、選択的にパターンを形成可能な方法により形成して、液晶表示装置を製造することを特徴とするものである。 - 特許庁

An exemplary embodiment of a feedback control method for controlling high frequency banding includes a step for creating a test pattern, a step for detecting the test pattern by the optical sensor and a step for measuring the high frequency banding and adjusting imaging parameters based on the measured high frequency banding in order to reduce the extent of high frequency banding.例文帳に追加

高周波バンディング制御用のフィードバック制御方法の例示的な実施形態は、テストパターンを作成するステップと、光学センサーによりテストパターンを検知するステップと、高周波バンディングの程度を減少させるべく、高周波バンディングを測定し、測定された高周波バンディングに基づいて画像化パラメータを調整するステップを含む。 - 特許庁

The method for manufacturing the instrument dial includes an asperity pattern formation process for forming a hairline pattern 54 on a second area 50 by crimping a sheetlike member on an upper mold 11 on which an asperity part (a protruded streak part 112 and a recessed streak part 113) is formed to press the asperity part of the upper mold 11 against part of the sheetlike member.例文帳に追加

計器表示板の製造方法は、凹凸部（凸条部１１２および凹条部１１３）が形成された上金型１１にシート状部材を圧着させることにより、シート状部材の一部に上金型１１の凹凸部を押し付けて第２の領域５０にヘアライン模様５４を形成する凹凸模様成形工程を有する。 - 特許庁

In a method of manufacturing a semiconductor device, such a region of a substrate on which patterns 30, 40 of a semiconductor integrated circuit are formed as the rate of absorption of light irradiated for annealing is equal to or lower than a fixed value is defined as a sparse pattern region 100, and a thin film 60 for improving the rate of light absorption is formed locally on the sparse pattern region 100.例文帳に追加

半導体装置の製造方法であって、半導体集積回路のパターン３０，４０が形成された基板に対し、アニールのために照射される光に対する吸収率が一定以下の領域を疎パターン領域１００と定義し、疎パターン領域１００上に光吸収率を高めるための薄膜６０を局所的に形成する。 - 特許庁

In the method for checking, by combining line illuminating means 11 to 14 from four directions in the photographing range 5 in the work 1 and illuminating the work 1 so that the intensity of the light input to the one-dimensional CCD 3 of the light diffused in the pattern to be checked on the work 1 becomes uniform, the proper image of the stereoscopic pattern to be checked is made obtainable.例文帳に追加

ワーク１上の撮像範囲５に対して４方向からのライン照明手段１１〜１４を組み合わせて照明することによりワーク１上の検査対象パターンで拡散した光が１次元ＣＣＤ３に入力する光の強度が均一になるようにし、立体的な検査対象パターンの適正な画像が得られるようにした。 - 特許庁

To provide a method capable of preventing the occurrence of resist pattern collapse caused in accordance with miniaturization of the size of a pattern upon development processing of a resist film after exposure, which is formed on the surface of a substrate and having no risk of bringing bad affection to an after process, while eliminating the deterioration of liquid heaping property of a developer on the resist film in a development process.例文帳に追加

基板の表面に形成された露光後のレジスト膜を現像処理するときに、パターン寸法の微細化に伴って起こるレジストパターン倒壊の発生を防止することができ、後工程に悪影響を及ぼす心配が無く、現像プロセスにおいてレジスト膜上への現像液の液盛り性が悪くなることもない方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a light-emitting device, which can not only improve use efficiency of an evaporation material but also increase accuracy in forming an evaporated pattern by using an evaporation donor substrate by which a material layer to be transfer layer is prevented from being excessively evaporated and a desired evaporated pattern can be formed.例文帳に追加

転写層となる材料層が余分に蒸着されるのを防ぐと共に所望の蒸着パターンを形成することができる蒸着用基板を用いることにより、蒸着材料の利用効率を高めるだけでなく、蒸着パターンを形成する上での精度を高めることができる発光装置の作製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a master for magnetic transfer having such a rugged pattern that a shape of a magnetization part transferred to a magnetic recording medium has a desired shape when a magnetization pattern is formed on the magnetic recording medium using the master for magnetic transfer and to provide a manufacturing method of a master disk for manufacturing the master for magnetic transfer.例文帳に追加

本発明は、磁気転写用マスタを用いて磁気記録媒体に磁化パターンを形成した際に、磁気記録媒体に転写された磁化部の形状が所望の形状となるような凹凸パターンを有する磁気転写用マスタ及びそのような気転写用マスタを製造するための原盤の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition for an electron beam, an X-ray or EUV light simultaneously satisfying requirements for high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, and good line-edge roughness in solving problems associated with performance improving techniques in micro processing of a semiconductor element using the electron beam, the X-ray or the EUV light, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネスを同時に満足する電子線、Ｘ線又はＥＵＶ光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the method, a conductive circuit is readily formed at low cost by drawing a circuit pattern on an insulating substrate by using an organic material containing a metal particle, especially a metal particle which is subjected to anti-oxidation treatment in a surface, and by baking the circuit pattern by heating and treating at a temperature of 5% loss weight temperature ±10°C of the organic material.例文帳に追加

金属粒子、特に、表面に抗酸化処理を行った金属粒子、を含有する有機材料を用いて絶縁基板上に回路パターンを描画し、該回路パターンを有機材料の５％減量温度±１０℃の温度で加熱処理して焼成し、簡便かつ安価に導電回路を形成することを特徴とする導電回路の形成方法。 - 特許庁

This wiring board manufacturing method comprises a first process of providing through-holes 1c to a sintered board 1 and wiring pattern grooves 1a and 1b to both the surfaces of the sintered board 1, a second process of filling the through-holes 1c and the wiring pattern grooves 1a and 1b with conductive paste M, and a third process of curing the conductive paste M.例文帳に追加

焼結した基板１にスルーホール１ｃと、前記基板１の両面に配線パターン用の溝１ａ、１ｂを形成する工程と、前記スルーホール１ｃと配線パターン用の溝１ｂ、１ｃに導電ペーストＭを充填する工程と、前記導電ペーストＭを硬化させる工程とを有する配線基板の製造方法、によって解決される - 特許庁

The coating method comprises distributing and applying a finish coating material containing one or more granules selected from natural stones, colored aggregates and plant powders of a predetermined average grain size onto an undercoat containing granules of another predetermined average grain size and imparting a pattern to the surface of the finish coating material with a pattern roller before complete hardening of the finish coating material.例文帳に追加

特定の平均粒子径を有する粉粒体を含有する下塗材の上に、特定粒子径の自然石、着色骨材、植物性粉体から選ばれる１種以上の粉粒体を含有する仕上塗材を配り塗りし、該仕上塗材が完全に硬化する前に、パターンローラーで該仕上塗材表面にパターンを付与する。 - 特許庁

The method for manufacturing the developing roller includes a step of forming a prescribed irregular pattern on a first plate surface of a metal plate by press working, and a step of forming the metal plate like a cylinder by press working so that the first plate surface on which the irregular pattern has been formed may be an external surface and a pair of opposed end sides of the metal plate may approach.例文帳に追加

金属板の第１板面にプレス加工によって所定の凹凸パターンを形成するステップと、前記凹凸パターンが形成された前記第１板面が外面となるように、かつ、前記金属板の対向する一対の端辺が近接するように、前記金属板をプレス加工によって円筒状に形成するステップとを含む。 - 特許庁

To provide a pattern recognizing method and a device for realizing highly precise pattern recognition by fetching the surface of a document as a concentration image, and generating a binary image suitable for the recognition of characters, symbols, and marks even when the document image is constituted of various color frame lines, pre-print characters, backgrounds, entry characters, symbols and marks.例文帳に追加

本発明は、文書の表面を濃淡画像として取り込み、様々な色の枠線、プレ印刷文字、背景、記入文字、記号、マークで構成されている文書画像であっても、文字、記号、マークの認識に適した２値画像を生成し、精度の高いパターン認識を実現するパターン認識方法及びパターン認識装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which improves performance in microfabrication of a semiconductor element using an electron beam, X-ray or EUV light and simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness, high contrast, prevention of conversion to a negative resist composition, and surface roughness, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

電子線、Ｘ線、あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス、高コントラスト、ネガ化防止、表面ラフネスを同時に満足するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an array substrate comprising the steps of simultaneously patterning a three-layer metal film (Mo/Al/Mo) and multilayer nonmetallic film (SiNx/aSi:H/n+-type a-Si:H), by using one mask pattern capable of forming a stepwise cut of a film covering the multilayer film pattern and sufficiently preventing a fault due to the cut.例文帳に追加

一つのマスクパターンを用いて、三層金属膜（Mo／Al／Mo）及び多層非金属膜（ＳｉＮｘ／ａ-Ｓｉ:Ｈ／ｎ^+ａ-Ｓｉ:Ｈ）を一括してパターニングする工程を含むアレイ基板の製造方法において、多層膜パターンを覆う膜についての段切れの形成、及びこれに起因する不良の発生を充分に防止することができるものを提供する。 - 特許庁

This contamination check method is for checking the contaminants on a recording medium, by having the surface of the recording medium irradiated with light and making photoelectric conversion on the returning light to obtain the signals, by adhering a light transmissive pattern on the surface of the recording medium, and it evaluates the signals obtained from the light returning from the surface of this pattern.例文帳に追加

記録媒体の表面に光照射して記録媒体から戻る光を光電変換して信号を生成する、記録媒体の汚れを検査する汚れ検査方法であって、光が透過する光透過性パターンを記録媒体の表面に付着せしめ、光透過性パターンが付着した表面から戻る光から生成される信号を評価する。 - 特許庁

A method for manufacturing the circuit board comprises the steps of forming the conductive pattern 2 on a ceramic board 1 with conductive paste containing Bi(bismuth) of 0.1 to 1.0%, then coating the board 1 with a crystallized glass 3 containing CaO(calcium oxide) so as to cover except an electrode 2a of the pattern 2, and thereafter baking the board 1 at 800 to 850°C.例文帳に追加

Ｂｉ（ビスマス）が０．０％から１．０％含有された導電ペーストでセラミック基板１上に導電パターン２を形成し、次にこの導電パターン２の電極部２ａ以外を覆うようにセラミック基板１上にＣａＯ（酸化カルシウム）を含有する結晶化ガラス３を塗布し、その後、このセラミック基板１を８００℃から８５０℃で焼成する。 - 特許庁

The LED inspection method sets lights-out color, expressing a lights-out state as black in each lighting pattern of a plurality of LEDs 15 mounted on a printed circuit board 16, or the like, and performs not only inspection of display color of each LED 15 in each lighting pattern but also inspection of lighting/lights-out states of each LED 15 by a single imaging.例文帳に追加

プリント基板１６等に実装された複数のＬＥＤ１５の各点灯パターンにおける消灯状態を表わす消灯色を黒色として設定して、各点灯パターンにおける各ＬＥＤ１５の表示色の検査のみならず、各ＬＥＤ１５の点灯状態・消灯状態の検査も一度の撮像により行えるようにする。 - 特許庁

The method comprises; determining a function for calculating an approximate distance between the layouts of two geometric forms; preparing a plurality of patterns for rearranging the geometric forms; selecting an optimal pattern for rearranging the geometric form by using the function for calculating the approximate distance; and rearranging each geometric form to each rearranging destination calculated by the function based on the selected optimal pattern.例文帳に追加

本発明は、２つの図形の配置がどれくらい近似しているかを計算する関数を定義し、図形の配置を変更するパターンを複数用意し、変更したい対象に最適な変更パターンを関数計算により選択し、選択した変更パターンに基づいて関数計算により得られた各図形の変更先に配置を変更する。 - 特許庁

The three-dimensional shape measuring apparatus 10 comprises: a line sensor 16 for reading the measurement object, onto which the optical pattern is projected as an image; and an image analysis section for calculating three-dimensional shape information of the measurement object, by analyzing the optical pattern in the image read by the line sensor 16, on the basis of a spatial fringe analysis method.例文帳に追加

ここで、三次元形状測定装置１０は、光パタンが投影された計測対象を画像として読み取るためのラインセンサ１６と、ラインセンサ１６により読み取られた画像における光パタンを空間縞解析法に基づいて解析して、計測対象の三次元形状の情報を算出する画像解析部とを備えている。 - 特許庁

In a frame positioning method, a printing pattern of the frame in a printing position is picked up by a video camera, so that an actual image is displayed on a monitor screen; a prestored symbol image indicating a printing position is displayed on the monitor screen; and a position of the frame is finely adjusted so that a printing pattern image can correspond to the symbol image on the monitor screen.例文帳に追加

方法は、印刷時位置にある版枠の印刷パターンをビデオカメラで撮影して生画像をモニター画面に表示すると共に、予め記憶させてある被印刷位置を示すシンボル映像をモニター画面に表示し、モニター画面上でシンボル映像に印刷パターン映像が一致するように版枠の位置を微動調整する。 - 特許庁