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pattern methodの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 23003件



例文

Thus, the method further comprises the steps of coating the peripheral region, forming a gate electrode 9 of the cell transistor 7 by using a photoresist having a gate pattern of the cell region, and ion implanting the photoresist by using as it is.例文帳に追加

このため、周辺領域を覆うとともにセル領域のゲートパターンを有するフォトレジストを用いてセルトランジスタ7のゲート電極9を形成し、このフォトレジストをそのまま用いてイオン注入できる。 - 特許庁

To make a wiring thickness uniform without adopting specific processing and a manufacturing method in a flexible wiring board forming a wiring pattern corresponding to a terminal of size different in a connection object.例文帳に追加

接続対象の異なる大きさの端子に対応する配線パターンが形成されたフレキシブル配線基板において、特殊な加工や製法を採用することなく配線厚さを均一化すること。 - 特許庁

To provide a conduction inspection sheet, a conduction inspection method and a device using the sheet capable of performing conduction inspection of a fine electrode pattern accurately and easily without using a probe.例文帳に追加

プローブを用いることなく、微細な電極パターンの導通検査を正確かつ容易に行うことを可能とする導通検査シート、それを用いた導通検査方法および装置を提供すること。 - 特許庁

The electron beam exposing stencil mask manufacturing method is for manufacturing the electron beam exposing stencil mask composed of a membrane having a stencil pattern and a grid-like silicon strut part for supporting the membrane.例文帳に追加

本発明に係る電子線露光用ステンシルマスクの作製方法は、ステンシルパタンを有するメンブレンとそれを支持する格子状のシリコン支柱部からなる電子線露光用ステンシルマスクを作製する方法である。 - 特許庁

例文

To provide a photomask for proximity exposure, with which a fine pattern can be formed by proximity exposure, and to provide a method for manufacturing a color filter using the photomask for proximity exposure.例文帳に追加

プロキシミティ露光により、細かいパターンを形成することが可能なプロキシミティ露光用フォトマスク、およびそのプロキシミティ露光用フォトマスクを用いたカラーフィルタの製造方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁


例文

To provide a method of manufacturing a multilayer wiring board which is capable of concurrently forming a plurality of thin film capacitors by selectively anodizing the limited area of a conductor pattern and making products decrease in fraction defective.例文帳に追加

導体パターン上の限られたエリアに選択的に陽極酸化を行って薄膜コンデンサを複数同時に形成でき、不良発生率も低減させた多層配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a wiring circuit board capable of manufacturing a wiring circuit board having less blur and warpage, irrespective of miniaturization of the wiring circuit board and fineness of a conductor pattern.例文帳に追加

配線回路路基板の小型化や導体パターンのファイン化にかかわらず、バリや反りの少ない配線回路基板を製造することのできる、配線回路基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for inserting an empty pitch of a vehicle transfer line with equalized operation by inserting a vehicle with an empty pitch insertion pattern for efficiently managing a line of a trim factory.例文帳に追加

空ピッチ投入パターンによって車両を投入することにより、トリム工場のラインの管理を効率的に行い、作業の平準化を図る、車両移送ラインの空ピッチ投入方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a polarization reversal crystal in which a more preferable reversal region according to an electrode pattern can be formed while suppressing diffusion of an electrode material into the crystal.例文帳に追加

結晶内への電極材料の拡散を抑制しながらも、電極パターンに従ったより良好な反転領域の形成を可能とする、分極反転結晶の製造方法を提供すること。 - 特許庁

例文

To form an excellent circuit pattern on an insulating inorganic substrate by an electrophotography method by coating the surface of conductive powder with resin.例文帳に追加

導電性粉末の表面を樹脂被覆してなり、電子写真法により絶縁性無機質基体上に良好な回路パターンを形成することができるカプセル化粒子、およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a photocurable resin composition capable of circumventing the effect of halation in the formation of an electrode of a plasma display panel, and to provide a pattern forming method using the photocurable resin composition.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの電極を形成する際にハレーションの影響を防止することが可能な光硬化性樹脂組成物、及び該光硬化性樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The photosensitive composition contains a compound having a tricyano carbonium group which generates a specified organic acid by irradiation with actinic rays or radiation, and the pattern forming method is carried out by using the above photosensitive composition.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により特定の有機酸を発生するトリシアノカルボニウム基を持つ化合物を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁

Further in this reforming method, the cutting tool 5 is moved along the guide member 3 or template 4 which is placed along the conventional external wall made of the ALC panels, thereby, a pattern is formed and the reforming is performed.例文帳に追加

またリフォーム方法は、ALCパネルからなる既存の外壁面に沿わせた案内部材3或いはテンプレート4に沿って切削工具5を移動させることで、模様を形成してリフォームする。 - 特許庁

The method of manufacturing the substrate for pattern formation includes forming a coating of ≥1 to <10 nm in film thickness after drying by coating a substrate with a solution containing a surface treating agent having a specific structure.例文帳に追加

基板上に、特定の構造を有する表面処理剤を含む溶液を塗布し、乾燥後膜厚が1nm以上10nm未満である塗膜を形成するパターン形成用基板の製造方法。 - 特許庁

The method includes a process of forming a lower conductive pattern on a semiconductor substrate and after the vapor deposition of a barrier metal film using a metal organic precursor, cleaning the vapor-deposited barrier metal film.例文帳に追加

この方法は半導体基板上に下部導電パターンを形成し、金属有機前駆体を使って、バリア金属膜を蒸着した後、蒸着されたバリア金属膜を浄化する段階を含む。 - 特許庁

To provide a method for producing a hydroxyacid compound having a reduced metal impurity content and capable of providing a good resist pattern by performing ring opening of a lactone ring using an organic alkali.例文帳に追加

ラクトン環の開環を有機アルカリを用いることによって行ない、金属不純物の含有量を少なくするとともに、良好なレジストパターンを得ることができるヒドロキシ酸化合物の製造法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing an extreme-ultraviolet photomask includes a step of forming an upper pattern 45, having an inclined sidewall by patterning an upper film, after forming the upper film on a photomask substrate 10.例文帳に追加

極紫外線フォトマスクの製造方法は、フォトマスク基板10上に上部膜を形成した後、上部膜をパターニングして傾いた側壁を有する上部パターン45を形成する段階を含む。 - 特許庁

To provide an encoding method and apparatus for time series signals capable of compressing the time series signals with a higher efficiency wherein a similar signal waveform pattern repetitively appears.例文帳に追加

同じような信号波形パターンが繰り返し現れるような時系列信号に対して、より効率の高い圧縮を行うことが可能な時系列信号の符号化方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a wiring pattern of graphite film including a graphene structure in which a defect-free graphite film can be formed by reducing aggregation of catalyst layer and controlling diffusivity of carbon.例文帳に追加

触媒層の凝集を抑制し、また炭素の拡散性を制御して、欠陥の無いグラファイト膜を形成することができるグラフェン構造を含むグラファイト膜による配線パターンの形成方法の提供。 - 特許庁

A glass or an Si wafer having an optional pattern comprising a metal and formed thereon is used as the substrate to carry out the CVD method and the carbon nanotubes are selectively prepared only in the patterned part.例文帳に追加

基板として、ガラス又はSiウェハー上に、前記金属からなる任意のパターンを形成したものを用いて上記CVD法を行い、このパターン部のみに選択的に、カーボンナノチューブを作製する。 - 特許庁

To provide an electromagnetic shield film which has a fine metal mesh pattern of high dimensional accuracy and is superior in electromagnetic wave shieldability and light permeability, and to provide a method for manufacturing the electromagnetic shield film inexpensively.例文帳に追加

微細で寸法精度の高い金属メッシュパターンを有し、電磁波シールド性および光透過性に優れた電磁波シールドフィルムおよび該電磁波シールドフィルムを安価に製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a membrane electrode assembly and its manufacturing device providing a coating pattern having a clear contour without changing catalyst characteristics and preventing ignition of catalyst powder in coating.例文帳に追加

触媒特性を変えることなく輪郭が鮮明な塗布パターンを得ると共に、塗工時において触媒粉体が発火しない膜電極接合体の製造方法及びその製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a multilayer wiring board showing high reliability function wherein total wiring pattern layers are connected as specified and a method of manufacturing a highly reliable multilayer wiring board assuring good manufacturing yield.例文帳に追加

全体的な配線パターン層間の接続が所定通りに成され、信頼性の高い機能を呈する多層配線板、および信頼性の高い多層配線板を歩留まりよく得られる製造方法の提供。 - 特許庁

Or a pattern is formed by applying by a printing method the solution that contains conductive fine particles and polymerization molecules, and manufactured by polymerizing or fixing by heating or irradiation of ultraviolet rays or the like.例文帳に追加

また導電性微粒子と重合性分子を含む液を印刷法で塗布することによりパターン形成し、加熱や紫外線照射等により重合、定着させることでも製造できる。 - 特許庁

In this displacement gold plating method, treatment is performed by using a displacement gold plating solution after nitrogen bubbling or a displacement gold plating solution under continuous nitrogen bubbling in applying displacement gold plating to a nickel pattern on a printed wiring board.例文帳に追加

プリント配線板のニッケルパターンに置換金めっきする際に、窒素バブリングした置換金めっき液もしくは連続で窒素バブリングしている置換金めっき液で処理する置換金めっき方法。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern by the electron beam exposure whereby the graphic deformation due to the proximity effect can be avoided, without needing the dimensional correction of an exposure graphic accompanying complicated simulation calculations.例文帳に追加

煩雑なシミュレーション計算を伴う露光図形の寸法補正を必要とせずに近接効果による図形の歪みを防ぐことができる電子ビーム露光によるパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR USE IN STEP OF EXPOSURE USING AT LEAST TWO EXPOSURE LIGHT SOURCES SELECTED FROM G-LINE, I-LINE, KrF EXCIMER LASER AND ELECTRON BEAM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

g線、i線、KrFエキシマレーザーおよび電子線から選ばれる少なくとも2種の露光光源を用いて露光する工程に用いられるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

To enable a method to highly accurately pattern a pixel electrode and moreover, to prevent a residue from remaining in the case of forming the pixel electrode of a liq. crystal device by using an aluminum(Al) alloy being a reflective material.例文帳に追加

反射材料であるアルミニウム(Al)合金を用いて液晶装置の画素電極を形成する場合に、その画素電極を高精度にパターニングでき、しかも残渣が残ることを防止できるようにする。 - 特許庁

The surface treatment method comprises bringing a resist pattern formed from a resin containing a specific lactone structure and a compound having two or more nucleophilic functional groups per molecule into a solid phase-gas phase reaction.例文帳に追加

特定のラクトン構造を含有する樹脂によって形成されたレジストパターンと、一分子中に二個以上の求核性官能基を有する化合物とを固相−気相反応させる表面処理方法。 - 特許庁

To provide a method for forming a hybrid mask for optically transferring a lithographic pattern corresponding to an integrated circuit from the mask to the top of a semiconductor substrate by using an optical exposure tool.例文帳に追加

光学的露光ツールの使用によって、集積回路に対応するリソグラフィック・パターンをマスクから半導体基板上に光学的に転写するためのハイブリッド・マスクを形成する方法を提供すること。 - 特許庁

Disclosed is the method for manufacturing the display member in which an electrode paste coating film is exposed two or more times when the coating film of electrode paste is exposed through a photomask 5 to form an electrode pattern.例文帳に追加

電極ペーストの塗布膜にフォトマスクを介して露光して電極パターンを形成するに際し、該電極ペースト塗布膜を2回以上露光することを特徴とするディスプレイ部材の製造方法。 - 特許庁

The method includes using a single mask to pattern a plurality of cavity areas to be etched on a substrate in different etching steps, and then selectively choosing the cavity areas for etching.例文帳に追加

この方法は、単一マスクを用いて、異なるエッチング工程で基板にエッチングされる2以上のくぼみ領域をパターニングし、エッチングのためのくぼみ領域を選択的に選択する工程を含む。 - 特許庁

A wiring pattern is formed by the electroless copper plating method on a polyimide layer 3 forming an insulation film of semiconductor elements 1, and solder balls 11 are formed as external connection terminals for wiring patterns.例文帳に追加

半導体素子1の絶縁皮膜であるポリイミド層3上に、無電解銅めっき法により配線パターンを形成し、配線パターンに対して外部接続端子としてはんだボール11を形成する。 - 特許庁

To provide a method for repairing a color filter with which a defect in coloring of a color filter comprising a coloring layer formed on a wettable pattern is easily repaired.例文帳に追加

本発明は、濡れ性パターン上に着色層が形成されてなるカラーフィルタの着色欠陥を容易に修正することができるカラーフィルタの修正方法を提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a dummy creature system, an action forming method for dummy creature and a medium to be provided by a software application, with which a dummy creature itself newly generates a motion pattern by itself.例文帳に追加

疑似生物自らが動作パタンを新たに生成するソフトウェアアプリケーションや擬似生物にて実現される疑似生物装置及び疑似生物の行動形成方法及び記憶媒体の提供。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition which ensures small surface roughness and line edge roughness during etching and has excellent resolution and a wide focal-depth range, and to provide a method for forming a resist pattern.例文帳に追加

エッチング時の表面荒れ、ラインエッジラフネスが少なく、解像性に優れ、焦点深度幅が広い、化学増幅型のポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an aberration measurement method for maintaining orthogonality in an polynomial obtained, when Zernike expansion is carried out in an optical element, in which high-frequency components are superimposed on interference pattern.例文帳に追加

干渉縞に高周波成分が重畳されてしまう光学素子についてツェルニケ展開を行ったときにも、得られる多項式の直交性を保つことのできる収差測定方法を提供する - 特許庁

To provide a visual information transmitting method capable of visually transmitting information to a person who is handicapped in color vision as well without largely changing appearance of a pattern for a person who is healthy in color vision.例文帳に追加

色覚健常者にとってのパターンの見え方を大きく変えることなく、色覚障害者にも視覚的に情報を伝達することが可能な視覚情報伝達方法を提供する。 - 特許庁

To provide a part for a game machine having no pattern misalignment with the uneven portion formed by inkjet type printing and having a decoration portion including a printed porion with stable quality and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

インクジェット方式の印刷により形成された凹凸部分との印刷ずれがなく、安定した品質の印刷部を含む加飾部を備える遊技機用部品及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To accurately determine a Wiebe function parameter for expressing a heat generation pattern in a cylinder of an internal combustion engine regarding a determination method and a determination device for a Wiebe function parameter.例文帳に追加

この発明は、Wiebe関数パラメータの決定方法および決定装置に関し、内燃機関の気筒内の熱発生パターンを表すためのWiebe関数のパラメータを精度良く決定することを目的とする。 - 特許庁

To provide a source code converting device and a source code converting method capable of converting an original source code into a source code of a proper pattern among the largest variety of conversion patterns.例文帳に追加

本発明は、元のソースコードを、可能な限り多彩な変換パターンの中から、適切なパターンのソースコードに変換することが可能なソースコード変換装置及びソースコード変換方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method that allows, in manufacturing members related to next generation displays, formation of a very fine thin film pattern at low cost on a substrate inferior to glass in heat resistance by an inverted printing process.例文帳に追加

次世代ディスプレイ関連部材の製造において、ガラスより耐熱性の劣る基板上に、反転印刷方法を介して、低コストで高精細な薄膜パターンを形成することを可能にする方法である。 - 特許庁

In the method for accurately measuring the angle of the rotation (w) about a shaft (a), at least a part of a plurality of pattern elements (5-13), arranged about a center (4) are arranged as a row in the rotation direction.例文帳に追加

軸(a)の周りの回転角(w)を正確に計測する方法において、中心(4)の周りに配置された複数パターン要素(5〜13)の少なくとも一部が、回転方向の列として配置される。 - 特許庁

To provide a regeneration method of an elimination plate for reverse offset printing forming an image pattern having a low resolution part and a high resolution part mixed therein, and an elimination plate for the reverse offset printing.例文帳に追加

低解像度部と高解像度部が混在した画像パターンを形成することが可能な反転オフセット印刷用除去版の再生方法および反転オフセット印刷用除去版を提供する。 - 特許庁

To utilize the high grade touches of a Jacquard weave and a doup weave and simultaneously utilize the characteristics of an ink-jet recording method to provide the weave having a pattern giving a high grade appearance and a three-dimensional appearance.例文帳に追加

ジャガード織物やカラミ織物のもつ高級感をいかしながらインクジェット染色の特性を利用して、高級感がありかつ立体感がある柄模様を有する織物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printing plate by which changes in an etching critical dimension (CD) is minimized to form a fine pattern by flattening the plate with an organic film and then etching into a desired width.例文帳に追加

有機膜を用いて平坦化した後に望む幅でエッチングすることによって、エッチングCDの変化を最小化し微細パターンを形成することができる印刷板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The stimulus-sensitive composition which contains a compound (A) of a specific structure which generates an acid or a radical under an external stimulus and the pattern forming method uses the same composition, and the compound (A) of the specific structure are presented.例文帳に追加

外部からの刺激により酸又はラジカルを発生する特定構造の化合物(A)を含有する感刺激性組成物及びそれを用いたパターン形成方法、及び特定構造の化合物(A)。 - 特許庁

The method of manufacturing the touch sensor pattern and signal conductor provide a substrate with high transmittancy which has at least a first conductive plating film and a second conductive plating film formed on a surface.例文帳に追加

このタッチセンサパターン及び信号導線の製造方法は、表面上に少なくとも第1導電性めっき膜と第2導電性めっき膜が形成された高透光率の基板を提供する。 - 特許庁

To provide a printed wiring board which is uniform in thickness, equipped with conductor patterns that can be easily given interlayer continuity, and provided with a pattern forming plating whose thickness is not required to be regulated and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

導体パターンの層間導通性を簡易に付与することができ,かつパターン形成用のメッキ厚みの制御が不要で均一な厚みのプリント配線板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

In the method of exposure using the stencil mask stated above, the mask pattern is accurately imprinted on the object to be exposed in such a way as to cancel the mask distortion based on the measurement result of the mask-distortion measurement marks 4.例文帳に追加

上記のステンシルマスクを用いた露光方法では、マスク歪計測用マーク4の計測結果に基づいて、マスク歪を相殺するようにして被露光体に正確にマスクパターンを転写する。 - 特許庁




  
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