「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(373ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a pattern forming device for display panel in which manufacturing process is simplified and utilization efficiency of the material can be improved while raising the manufacturing accuracy, and a manufacturing method of the display panel.例文帳に追加

工程を単純化するとともに、加工精度を高めつつ材料の利用効率を向上することのできるディスプレイパネル用パターン形成装置およびディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method further includes the step of etching the non-printed portions of the material by chemical etching, and removing the printed pattern from the surface of the material to yield an antenna array including a non-etched portion of the substrate surface.例文帳に追加

化学エッチングによって材料の非印刷部分をエッチングするステップと、印刷パターンを材料の表面から除去して基板表面の非エッチング部分を含むアンテナアレイを生成するステップとを含む。 - 特許庁

To provide a wiring circuit board which can attain sufficient adhesion between an insulation layer and a conductor pattern, and can be prevented from the degradation of high-frequency characteristics, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

絶縁層と導体パターンとの間の十分な密着力を得ることができるとともに、高周波特性の劣化を防止することができる配線回路基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an error diffusion processing method for a display device which can reduce picture quality disturbance such as periodic pattern noise appearing when error diffusion processing is performed in spite of higher luminance of a panel.例文帳に追加

パネルの高輝度化が進んでも誤差拡散処理を行った際に現れる周期的なパターンノイズ等の画質妨害を低減することができる表示装置の誤差拡散処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an oxide microstructure, facilitating precise formation of an oxide microstructure having a pattern with a fine width and a columnar shape with a high aspect ratio.例文帳に追加

幅が微細なパターンで、かつ、アスペクト比の高い柱状の形状を有する微細酸化物構造体を精密に形成することができる微細酸化物構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for separating noise and a pattern included in a SEM image with high precision by using design data and a photographed image of a semiconductor device in semiconductor inspection.例文帳に追加

半導体検査において、設計データと撮影した半導体デバイスの画像を利用して、ＳＥＭ画像に含まれたノイズとパターンを精度よく分離する方法及び装置を提供することにある。 - 特許庁

Thereafter, a groove 12 is formed by etching the silicon nitride film 3 and silicon oxide film 4 using a resist pattern 11 as a mask, and an SiOC film 13 is embedded only in the groove 12 with the CMP method.例文帳に追加

その後、レジストパターン１１をマスクとしてシリコン窒化膜３およびシリコン酸化膜４をエッチングして溝１２を形成し、溝１２内のみにＳｉＯＣ膜１３をＣＭＰ法を用いて埋込む。 - 特許庁

To provide a method of forming a conductive fine pattern of superior electrical conductivity at a low cost with high accuracy, without using an electroless plating process.例文帳に追加

優れた導電性を備えた微細なパターンを高い精度でもって、しかも無電解めっきの工程を経ることなく、低コストで形成することのできる導電性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

The method further includes a step of plasma processing the semiconductor wafer 1 after the mask pattern is formed to remove the boundary region of the semiconductor wafer 1 by plasma etching, and a step of dividing each semiconductor element 1c.例文帳に追加

そしてマスクパターン形成後の半導体ウェハ１をプラズマ処理することにより半導体ウェハ１の境界線領域をプラズマエッチングにより除去して半導体素子１ｃ毎に分割する。 - 特許庁

To provide a plural beam adaptable antenna and a communication method using the same, with which the directivity pattern matching each of radio terminal stations can be formed before starting communication.例文帳に追加

本発明は通信を開始する前に各無線端末局に合わせた指向性パターンを形成可能な複数ビーム制御適応アンテナ装置及びそれを用いた通信方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To solve the problem of a conventional magnification processing method performed by insertion or thinning of pixels, in which if insertion or thinning coordinates are determined randomly without a limit, deviation of a dither pattern unstabilizes dot formation in forming of an image.例文帳に追加

画素の挿入・間引きによる変倍処理方法では、挿入・間引き座標を制限なしにランダムに決定するとディザパターンのズレによって、画像形成時のドット形成が不安定になってしまう。 - 特許庁

To provide heat seal paper for filtering liquids, having clear and constant pattern and good freeness and obtained by wet combination of two paper layers, and to provide a method for producing the heat seal paper.例文帳に追加

２層抄き合わせフィルターペーパーであって、鮮明かつ規則的なパターンと良好なろ水性とを併せ有する液体ろ過用ヒートシール紙及びその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

A sheet shape measuring method images recognizable pattern caused by material fiber or the like on a sheet using a photoelectric conversion element 1, and the sheet shape is measured from the contrast of the obtained images.例文帳に追加

原材料の繊維等による模様が認識可能なシート上の模様を光電変換素子を用いて撮像し、得られる画像のコントラストから、シートの形状を測定するシート形状測定方法。 - 特許庁

To automatically form an interference pattern of an electron beam having an optimal clear condition without depending on a human operation, and to perform a phase measurement at a stable condition by an electron beam holography method.例文帳に追加

人的操作に依存することなく自動的に最適な条件の明瞭な電子線の干渉縞を形成し、安定した条件で例えば電子線ホログラフィー法による位相計測を行う。 - 特許庁

In the microlens forming method, after microlens patterns 16 and microlenses 17 formed on a substrate 10 are covered with a coating 18 of a coating forming agent for pattern microfabrication, heating is carried out if needed.例文帳に追加

このマイクロレンズ形成方法は、基板１０上に形成されるマイクロレンズパターン１６やマイクロレンズ１７上をパターン微細化用被覆形成剤の被膜１８で被覆した後、必要に応じて加熱する。 - 特許庁

To provide a method for forming a mask by which the dimensional unevenness of etching rate of a chromium film due to fogging and the area of a resist can be suppressed independently of the pattern layout of LSI.例文帳に追加

Fogging及びレジスト面積に起因したクロム膜のエッチングレートの寸法バラツキを、ＬＳＩのパターンレイアウトに依存せずに抑制することができるマスクの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which patterns an organic semiconductor layer made of polyacene or polyacene derivative without executing a lithographic process for forming a resist pattern.例文帳に追加

本発明は、レジストパターンを形成するためのリソグラフィー工程を行わずに、ポリアセンまたはポリアセン誘導体からなる有機半導体層をパターニングする半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a grid polarizer manufacturing method with which a large-sized grid polarizer having the grid shaped pattern of submicron order can be economically manufactured by precise fine processing and vapor deposition.例文帳に追加

サブミクロンオーダーの格子形状を有するグリッド偏光子を、精密微細加工及び蒸着により大面積で経済的に製造することができるグリッド偏光子の製造方法を提供する。 - 特許庁

POLYIMIDE PRECURSOR COPOLYMER, VARNISH CONTAINING THE SAME, POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, POLYIMIDE COPOLYMER, SEMICONDUCTOR ELEMENT PROTECTIVE FILM CONTAINING THE SAME AND METHOD FOR PRODUCING FINE PATTERN OF POLYIMIDE COPOLYMER CONTAINING FILM例文帳に追加

ポリイミド前駆体共重合体、それを含むワニスおよびポジ型感光性樹脂組成物、ポリイミド共重合体、それを含む半導体素子の保護膜、ポリイミド共重合体含有膜の微細パターンの製造方法 - 特許庁

The method of manufacturing a printed wiring board is used to immerse a substrate having a copper pattern in an activator containing hydrazine or its derivative and nickel ions, and to apply nonelectrolytic metal plating thereafter.例文帳に追加

銅パターンを有する基板を、ヒドラジンまたはその誘導体およびニッケルイオンを含有する活性化剤に浸漬した後、無電解金属めっき処理を行うことを特徴とするプリント配線板の製造方法。 - 特許庁

A titanium plate expressing a letter or a pattern or the like thereon by an anodic oxidation method is set on the outside of a grave constituent member such as a grave stone, an inscription on a grave or the like by making use of an adhesive or a mechanical setting means.例文帳に追加

墓石、墓誌等の墓構成部材の外面に、陽極酸化法により文字または模様等が表示されたチタン板を、接着剤または機械的設置手段により設置する。 - 特許庁

In the method, the shape of the surface to be inspected is measured on the basis of an interference pattern between reflected light from the surface to be inspected and reflected light from a reference surface, using an optical system having the reference surface.例文帳に追加

参照面を有する光学系を用いて、被検面からの反射光と参照面からの反射光との干渉パターンに基づいて被検面の形状を測定する方法である。 - 特許庁

To provide a device and a method for projecting an image rectifying it to crrect hues and being not influenced by a pattern even when a projection plane is colored and patterned.例文帳に追加

投射面が有彩色であったり模様が付いているような場合においても、正しい色相に補正すると共に模様の影響を受けない画像投射装置及び画像投射方法を提供する。 - 特許庁

When the voice input is not the request of "command input" and is the display request of "performance" and "game method" or the like (S236:NO), data of requested items are displayed at the pattern display device 15 (S237).例文帳に追加

音声入力が「コマンド入力」の要求でなく、「性能」や「遊技方法」等の表示要求であれば（Ｓ２３６：ＮＯ）、要求された項目のデータを図柄表示装置１５に表示させる（Ｓ２３７）。 - 特許庁

To provide an electric wave incoming direction estimation method which enables the estimation of a correct electric wave incoming direction and forming a transmission pattern and the most efficient, an appropriate number of electric wave incoming paths.例文帳に追加

正確な電波到来方向を推定すると共に最も効率の高い適切な電波到来パス数および送信パターンを形成することができる電波到来方向推定方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a method for exposure data generation that increases the processing speed of the processing which generates exposure data obtained by removing overlap from hierarchically designed mask pattern data and that reduces a work area.例文帳に追加

階層化設計されたマスクパターンデータからオーバーラップを除去した露光データを作成する処理の高速化と作業領域の低減を図ることができる露光データ作成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a laminated ceramic semiconductor in which the sheet attack does not occur when forming an electrode pattern layer in the surface of a green sheet, with low rate of short-circuiting defect of an electronic component.例文帳に追加

グリーンシートの表面に電極パターン層を形成する際に、シートアタックが発生せず、電子部品のショート不良率が少ない積層型セラミック電子部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an optical processing method and its device capable of forming a precise processing pattern even if a fixed position of a print mask material is dislocated on a table.例文帳に追加

高精細な加工を可能とするとともに、テーブル上の印刷マスク材の装着位置がずれた場合でも精度よく加工パターンを形成することができる光加工方法及びその装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing system and an image processing method for specifying and storing an input image matched with a predetermined pattern, and for simplifying the decision processing.例文帳に追加

所定のパターンに合致する入力画像を特定して保存しておくことができ、また、その際の判定処理の簡略化も図ることができる画像処理システム及び画像処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which can prevent developer used to form a resist pattern from penetrating into the base without causing nonconformity in the other.例文帳に追加

レジストパターンを形成する際に使用する現像液が下地に侵入するのを、他に不具合を生じることなく防止することができる半導体装置の製造方法を得ることを目的とする。 - 特許庁

To provide an optical recording apparatus capable of acquiring predetermined resolution even when a line width of an exposure pattern is close to a wavelength of exposed light, and reducing time necessary for exposing, and to provide its method.例文帳に追加

露光パターンの線幅が露光光の波長に近い場合であっても所定の解像度が得られかつ露光に要する時間が低減する、光学的な記録装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a detection method of a defect caused by chemical solution capable of detecting foreign matter in the chemical solution causing such a fine defect undetectable by a conventional defect inspection device of a resist pattern.例文帳に追加

従来のレジストパターンの欠陥検査装置では検出不可能となるほど微細な欠陥の起因となる薬液中の異物の検出が可能な、薬液起因の欠陥検出方法を提供すること。 - 特許庁

This water quality monitoring method and its monitor are characterized in that test water is introduced into a water tank and the water quality of the test water is determined based on the behavior pattern of the plurality of water creatures suspended in the water tank.例文帳に追加

水槽内に検水を導入して、該水槽内に浮遊させた複数の水生生物の行動パターンにより検水の水質を判断することを特徴とする水質監視方法および装置。 - 特許庁

To provide an inspection method capable of grasping clearly an abnormality such as a failure wherein, when the surface of a cut workpiece has a circular pattern such as a spiral groove, the spiral groove is not removed.例文帳に追加

切削加工品の表面に螺旋状の溝などの円形パターンがあっても、かかる螺旋状の溝が除去されていない不良などの異常を鮮明に把握できる検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a design sheet having a metallic-luster-finished window frame pattern that is a metallic-luster-finished in design, excellent in electric wave permeability, and improved in the visibility of a transparent window part, and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

意匠が金属光沢調で電波透過性に優れ、なおかつ透明窓部の視認性を向上させた金属光沢調窓枠柄を有する意匠シートおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a surface treating method, by which a figure, the pattern of which changes in response to a seeing angle, or the like can be drawn on the surface of aluminum or of its alloy with a simple and low cost means.例文帳に追加

簡単かつ安価な手段で、アルミニウム又はその合金の表面に、見る角度によってパターンの変化する模様等を描くことのできる表面処理方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern that has superior adhesion to a lower layer, and at the same time profile with an ideal rectangular section without peeling even if resist having strong hydrophobic properties is used.例文帳に追加

疎水性の強いレジスト用いても、下層に対する高い密着性を示すとともに、断面矩形の良好なプロファイルを有するレジストパターンを剥がれることなく形成可能な方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device capable of preventing a defect in image quality under a super-pixel gray pattern by making respective green pixel cells receive data under the same charge conditions, and a method of driving the same.例文帳に追加

各緑色画素セルが同一の充電条件下でデータを受けることで、スーパーピクセルグレーパターン下での画質不良を防止できる液晶表示装置及びその駆動方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sputtering target which can give an Ag alloy film pattern endowed with low resistance, higher heat resistance, and higher adhesion without detriment to reflectivity, to provide an Ag alloy film, and to provide a method for producing the film.例文帳に追加

反射率を損なうことなく、低抵抗で、より高い耐熱性及び密着性を有するＡｇ合金膜パターンを得ることができるスパッタリングターゲット、Ａｇ合金膜及びその製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a printed-wiring board and it's manufacturing method that achieves reliable electric connection between wiring layers and reliable pattern formation, and improves the manufacturing yield and productivity.例文帳に追加

配線層同士の電気的接続の高信頼性化およびパターン形成の高信頼性化を図り製造歩留まり、生産性などを向上できるプリント配線板およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

A method of forming the pattern includes a step of forming a resist film 102 on a substrate 101 and a step of exposing the surface of the formed resist film 102 with an aqueous solution 103 containing an acid compound having a hydrophilic group, such as, for example, an acetic acid.例文帳に追加

基板１０１の上にレジスト膜１０２を形成し、形成されたレジスト膜１０２の表面を、親水基を有する酸性化合物例えば酢酸を含む水溶液１０３にさらす。 - 特許庁

To provide an inductance element, a laminated electronic part and a laminated electronic part module and a method of manufacturing these for which mass-production is easy, in which deviation of a conductor pattern is small and the characteristic value of a narrow tolerance can be obtained.例文帳に追加

量産が容易で、導体パタ−ンのずれが小さく、狭公差の特性値が得られるインダクタンス素子と積層電子部品と積層電子部品モジュ−ルとこれらの製造方法を提供する。 - 特許庁

In this method, a set of the limits applicable to a core is defined (S10) and a test core loading pattern design to be used for the loading of the core is determined on the basis of the limits (S20).例文帳に追加

該方法において、炉心に適用可能な限界のセットが定義され（Ｓ１０）、限界に基づいて、炉心をローディングするために使用されるべき試験用炉心ローディングパターンデザインが判定される（Ｓ２０）。 - 特許庁

To improve electric and mechanical reliabilities with respect to a manufacturing method of an electronic device having a structure wherein a conductive pattern and a bump are connected, and with respecto to the electronic device.例文帳に追加

本発明は導電パターンとバンプとを接続する構造を有する電子装置の製造方法及び電子装置に関し、電気的及び機械的信頼性の向上を図ることを課題とする。 - 特許庁

To provide an aligner, a manufacturing apparatus of semiconductor devices, a phase shift, and its design method, all of which are capable of suppressing a variation in the line width of a miniaturized pattern by correcting the distribution of light intensity between phase shifters.例文帳に追加

位相シフタ間の光強度分布を補正して、微細パターンの線幅の変動を抑制できる露光装置、半導体装置の製造装置、位相シフトマスクおよび設計方法を提供する。 - 特許庁