「pattern method」に関連した英語例文の一覧と使い方(370ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of generating a discharge pattern capable of reducing unevenness by discharge variation by each nozzle and manufacturing a high quality color filter and an organic functional element in which a visual feeling of rough surface is suppressed.例文帳に追加

ノズル毎の吐出バラツキによるムラを低減し、かつ視覚的なざらつき感を抑えた高品質なカラーフィルタ及び有機機能性素子を製造することができる吐出パターン生成方法を提供する。 - 特許庁

A ground 25 close to a control terminal 12 for inputting a signal for controlling the frequency of the oscillator 11 in the frame 21 is connected as the ground pattern of the substrate 10 by a soldering method.例文帳に追加

枠部２１のうち、発振器１１の周波数を制御するための信号を入力する制御端子１２に近い接地箇所２５を、はんだ付け等の方法により基板１０の接地パターンと接続する。 - 特許庁

The method is characterized by polarization-diverging an optical detection path to arrange array-like spatial filters on at least one or more optical paths and to filter diffracted light and scattered light from a normal pattern.例文帳に追加

検出光路を偏光分岐して少なくても一つ以上の光路にてアレイ状の空間フィルタを配置し、正常パターンからの回折光や散乱光をフィルタリングすることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a discharging method of a base board and a base board static eliminator capable of restraining pattern destruction and dielectric breakdown by quickly eliminating static electricity charged on a glass base board at the time of separation from a stage.例文帳に追加

ステージから離間した際にガラス基板に帯電した静電気を素早く除電して、パターン破壊及び絶縁破壊を抑止できる、基板の除電方法、及び、基板除電装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a shape measurement method and a device capable of reading a pattern accurately even if an object to be measured has a glossy surface or a complicated shape, and having a high shape recognition ability.例文帳に追加

光沢面を持つ被測定物や複雑な形状の被測定物であっても正確にパタンを読み取ることができ、形状認識能力の高い形状測定方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semi-transmission type phase shift reticle that can suppress a pseudo defect caused in the oblique boundary line of a chamfered portion partitioning a circuit pattern region from a peripheral region, and to provide an inspection method for the reticle.例文帳に追加

回路パターン領域と周辺部領域とを区画する面取り部の斜め境界線で生じる疑似欠陥を抑制できる半透光方式の位相シフトレチクルとその検査方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a polymer for preventing irregular reflection, usable when forming superfine pattern of 64M, 356M, 1G, 4G, 16G DRAM, and capable of increasing the yield of the product, and further to provide a method for producing the polymer.例文帳に追加

６４Ｍ、２５６Ｍ、１Ｇ、４Ｇ １６Ｇ ＤＲＡＭの超微細バターンの形成時に使用でき、製品の収率を増大させることができる乱反射防止膜用重合体とその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a defect detecting device, a defect detecting method, and a computer program capable of correctly detecting defects such as dirt, flaw, and contamination, even when there is a uniformly continued background pattern.例文帳に追加

一様に連続している背景模様が存在する場合であっても、ゴミ、傷、汚れ等の欠陥を正しく検出することができる欠陥検出装置、欠陥検出方法及びコンピュータプログラムを提供する。 - 特許庁

In the method for formation of wiring structure, a first organic film 603, a silicon oxide film 604, and a second organic film 605 are sequentially deposited on a semiconductor substrate 600, and then, a mask pattern 608 is formed on the second organic film 605.例文帳に追加

半導体基板６００上に、第１の有機膜６０３、シリコン酸化膜６０４、第２の有機膜６０５を順次堆積した後、第２の有機膜６０５の上にマスクパターン６０８を形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor inspection method that applies an electric load, such as a voltage and a temperature, to a circuit pattern to carry out evaluation of reliability, as a technique for inspecting a wafer in a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

半導体製造工程途中のウエハを検査する技術として、回路パターンに電圧および温度等の電気的負荷をかけて信頼性評価を行う半導体検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a squeegee for screen printing and a method for screen printing by which a paste can be well filled into pattern holes even during high speed printing and productivity can be improved.例文帳に追加

高速印刷時においても、パターン孔へのペーストの良好な充填が行え、生産性を向上させることができるスクリーン印刷用スキージおよびスクリーン印刷方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an organic electroluminescence element, which can reduce a process time and a manufacturing cost when forming an organic film layer pattern with LITI.例文帳に追加

ＬＩＴＩを用いて有機膜層パターンを形成する際に、工程時間を短縮させるだけでなく生産原価も節減できる有機電界発光素子の製造方法を提供するを提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition having good surface tackiness, laminating property and handleability, and exhibiting chemical resistance, surface hardness, heat resistance, etc., a photosensitive film, and a method of forming permanent pattern.例文帳に追加

表面のタック性、ラミネート性及び取扱い性が良好で、耐薬品性、表面硬度、耐熱性などを発現する感光性組成物及び感光性フィルム、永久パターンの形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a construction method for a partitioning frame body, which is safe even for the walking of a pedestrian and the traveling of a wheelchair, and which facilitates the infilling of soil for a lawn and gravel, even if an upper part is formed in a grid pattern.例文帳に追加

本発明は、歩行者、車椅子の走行にも安全でかつ上部を格子状とされても芝生の土壌、砂利の充填を容易とする区画枠体の施工方法の提案である。 - 特許庁

By the adjustment method related to a recording strategy, an intensity-modulated laser beam is applied onto an optical information recording medium based on the recording strategy, and a pattern train consisting of marks and spaces is recorded.例文帳に追加

光学的情報記録媒体上に記録ストラテジに基づいて強度変調したレーザ光を照射し、マークとスペースによるパターン列を記録する際の記録ストラテジに関する調整方法である。 - 特許庁

To provide an exposure method, or the like, for easily forming an exposure pattern with a line width in a sub-micron size using a photoresist for g-line and i-line by using a solid laser or a gas laser which is inexpensive and stable as an exposure light source.例文帳に追加

安価で安定性のある個体レーザやガスレーザを露光光源として使用し、ｇ線用、ｉ線用のフォトレジストを使用して、簡便にサブミクロンサイズの線幅の露光パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a size measuring mark which can detect a fault at the initial stage of a process by combining the step difference of a lower layer and the pattern roughness, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device and a semiconductor device.例文帳に追加

下層の段差とパターン疎密を組み合わせることにより、プロセス初期段階での異常検出が可能な寸法測定マーク、半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

According to constitution of the method, the patterning is performed for every thin film of plural quantities, by which the thin films can be thickened irrespective of a ratio of a width to a depth (an aspect ratio) of a final throughhole pattern.例文帳に追加

本発明の構成によれば、複数の薄膜毎にパターン形成を行うため、最終的な貫通孔パターンの幅と深さの比（アスペクト比）によらず、薄膜の厚膜化を行うことが出来る。 - 特許庁

To provide a decorative board with an uneven pattern on the surface thereon which can suppress regeneration of the unevenness of the surface, which is excellent in productivity, and which can be used for a flooring material and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

表面の凹凸の復元が抑えられるとともに、生産性に優れ、また、床材としても適用可能な、表面に凹凸模様を有する化粧板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new polymeric compound useful as a base component of a resist composition, and to provide a resist composition containing the polymeric compound, and a method for forming a resist pattern using the resist composition.例文帳に追加

レジスト組成物の基材成分として有用な新規な高分子化合物、該高分子化合物を含有するレジスト組成物、および該レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

According to the embodiment of a method for manufacturing electronic components, firstly, an object to be processed including a conductive material film on a substrate 1 is processed so as to form a wiring pattern including sparse and dense wires.例文帳に追加

実施形態によれば、電子部品の製造方法は、まず、密の配線と疎の配線とを含む配線パターンとなるように、基板１上の導電性材料膜を含む加工対象を加工する。 - 特許庁

The method further sections object images by a predetermined size, centering the extracted between-the-eyes candidates, and selects a true candidate point from the between-the-eyes candidate points, according to pattern determination processing.例文帳に追加

さらに、抽出された眉間候補点の位置を中心として、所定の大きさで対象画像を切り出し、パターン判別処理に応じて、眉間候補点のうちから真の候補点を選択する。 - 特許庁

A dividing wall 60 is provided by coating a liquid droplet to at least a part of a boundary between a pattern forming region and the other region with the use of a liquid droplet discharging method.例文帳に追加

パターン形成領域と他の領域との境界の少なくとも一部に、液滴吐出方式を用いて液状体を液滴として塗布することで隔壁６０を設けることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter for a reflection display by which a large screen, fine pixels, excellent smoothness and high latitude for pattern arrangement are obtained and the thickness of the color filter can be controlled.例文帳に追加

大画面であり、画素が細かく、平滑性に優れた、パターン配置の自由度が高く、カラーフィルタの厚さの制御が可能になる反射ディスプレイ用カラーフィルタを製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a novel resist composition, a resist pattern forming method using the resist composition, a novel compound useful as a component for the positive resist composition, particularly as an acid generator, and an acid generator.例文帳に追加

新規なレジスト組成物、該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、該ポジ型レジスト組成物用の成分、特に酸発生剤として有用な新規な化合物および酸発生剤を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device capable of always displaying a desired pattern, without programming a voltage signal for display, a manufacturing method for the liquid crystal display device, and electronic equipment.例文帳に追加

表示のための電圧信号をプログラムすることなく所望のパターンを常時表示させることが可能な液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法、および電子機器を提供すること。 - 特許庁

To provide a laser beam machining device and a machining method therefor for forming a nano structure having a predetermined ultra-fine pattern on a workpiece, and evaluating the machined shape of the nano structure in a short period of time.例文帳に追加

加工対象物に所定の超微細パターンを有するナノ構造物を作製し、ナノ構造物の加工形状の評価を短時間で行うレーザ加工装置及びレーザ加工方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing metal ultrafine particles capable of exhibiting high electrical conductivity without being heated even when the pattern of a thick film is formed, and to provide a composition containing metal ultrafine particles.例文帳に追加

厚膜のパターンを形成した際にも、加熱する事なく高い導電性を発現させる事が可能な金属超微粒子の製造方法、および金属超微粒子含有組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a thermal transfer sheet wherein a metallic luster layer pattern formed in a required shape is easily and at a low cost formed on the whole surface or at an optional position while its manufacturing method is provided.例文帳に追加

全面または任意の位置に、所望の形状にパターン形成された金属光沢層領域を簡便かつ安価に形成した熱転写シート、およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for creating an environment pattern classification chart which make it easy to create an ecotope chart, a program therefor, and a recording medium where the program is recorded.例文帳に追加

エコトープ図の作成を容易に行うための環境類型区分図作成装置、環境類型区分図作成方法並びにそのプログラム及びそのプログラムを記録した記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a wafer, that can easily align the OF part of a thin-plate semiconductor wafer and the display reference point of a photo mask, and can bake a highly accurate photoresist pattern.例文帳に追加

薄板状半導体ウエハのＯＦ部とフォトマスクの表示基準点との位置合わせ作業が容易にでき、それにより高精密なフォトレジストパターンを焼付けできるウエハの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a color filter manufacturing method for easily manufacturing a color filter having fully hardened color pixels, having no misregistration of a pattern and no projections, dispensing with the increase in steps.例文帳に追加

硬化が十分に行われた着色画素を有し、パターンずれなく、且つ突起のないカラーフィルタを工程を増やすことなく、容易に製造することのできるカラーフィルタの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of member having antireflective structure for easily manufacturing an antireflective structure having an extremely fine pattern of submicron pitch by using an X-ray lithography.例文帳に追加

サブミクロンピッチの非常に細かなパターンを有する反射防止構造体を、Ｘ線リソグラフィを用いて容易に製造するための反射防止構造体を有する部材の製造方法を提供する - 特許庁

To provide a driver IC also having a function capable of supplying test pattern signals for the inside of the IC without the need for the supply of various test patterns signals from the outside and to provide an inspection method of the same.例文帳に追加

外部から各種検査パターン信号を供給することなく、ＩＣ内部に検査パターン信号を供給できる機能を併せ持たせたドライバＩＣ及びその検査方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a cleaning robot and a controlling method therefor in which a cleaning path desired by a user is recognized by the cleaning robot and a cleaning area desired by the user is cleaned in a pattern desired by the user.例文帳に追加

掃除ロボットに使用者の望む掃除経路を認識させ、使用者の望む掃除領域を使用者の望むパターンで掃除できるようにした掃除ロボット及びその制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical waveguide structure equipped with an optical waveguide having wide degree of freedom of design of pattern configuration and capable of forming a core part (optical path) having high dimensional accuracy by a simple method.例文帳に追加

パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができる光導波路を備えた光導波路構造体を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method which can produce a build-up type multilayer printed wiring board which uses a resin sheet with copper foil in good yield, without wrinkles of the copper foil and the embossement and gouging of a pattern.例文帳に追加

銅箔キャリー付樹脂シートを用いるビルドアップ型多層プリント配線板を、銅箔のシワ、パターンの浮き出しおよび打痕の発生がなく、歩留りよく生産できる製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a molding method capable of applying a pattern to a molded product having a deep drawing or complicated shape without applying special processing to an existing mold, and a preforming apparatus using the same.例文帳に追加

既存の金型に特殊な加工を施すことなく、深絞りや複雑な形状の成型品に対して絵柄を施すことの可能な成形方法、及び、これに用いる予備成形装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition of superior etching resistance, sensitivity, preservation stability and safety and developable with water or an aqueous alkali solution, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

耐エッチング性、感度、保存安定性及び安全性に優れ、かつ水又はアルカリ水溶液により現像が可能な感光性組成物並びにこれを用いたパターンの形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an array substrate, the array substrate, and a liquid crystal display element which realize a pattern formed on a substrate fine and the resistance of wires to be made low at the same time.例文帳に追加

基板に形成されるパターンを微細化することと配線の抵抗を低下させることとを同時に実現するアレイ基板の製造方法、アレイ基板および液晶表示素子を提供する。 - 特許庁

To obtain ink for spacer formation which allows spacer particles to be selectively deposited just on a light shielding film pattern position on a color filter substrate by an ink jet system, and a manufacturing method of a color filter substrate with spacers.例文帳に追加

インクジェット方式によってカラーフィルタ基板上にスペーサ粒子を遮光膜パターン位置の直上に選択的に配置できるスペーサ形成用インク、スペーサ付カラーフィルタ基板の製造方法を得る。 - 特許庁

To provide an inspection method and an inspection device of a semiconductor device capable of inspecting the semiconductor device operated at high speed without increase of a circuit scale and complication of a circuit pattern.例文帳に追加

回路規模の増大及び回路パターンの複雑化を招かずに、高速に動作する半導体デバイスの検査を行うことができる半導体デバイスの検査方法及び検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can improve the accuracy of wiring connection to a semiconductor element, etc. and the forming accuracy of a wiring pattern and to provide a method of manufacturing the semiconductor device and an electronic apparatus.例文帳に追加

半導体素子などに対しての配線接続の精度及び配線パターンの形成精度を向上させることができる半導体装置、半導体装置の製造方法および電子機器を提供する。 - 特許庁

To provide a high-precision pattern duplication method that is not subject to mask flexure in spite of a small clearance between the mask and projection optical system and eliminates exposure errors for defocusing.例文帳に追加

マスクと投影光学系との間の空間が少ない場合であっても、マスクの撓みなどの影響を受けることなく、デフォーカスによる露光不良のない高精度なパターンの転写を実現する。 - 特許庁

To provide a method and a synchronization detection device capable of performing precise synchronization detection even when the recording quality of a synchronous pattern is poor, and to provide an optical information reproducing device using the synchronization detection device.例文帳に追加

同期パターンの記録品質が悪い場合にも、同期検出を正確に行うことが可能な同期検出方法及び装置、それを用いた光学的情報再生装置を提供する。 - 特許庁